CN115437054A - 一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，包括以下步骤：S1：选取的镀膜的膜系的膜系结构包括若干个法布里‑帕罗腔及连接层；S2：通过Z＝|B‑C|/|B‑A|×100％的计算法来控制S1中镀膜的膜系的膜系结构，然后将n、N、A和B的值根据半波宽以及截止深度来进行调整，直到达到使用需要；S3：对a、b、c和d的值进行调整，来达到对带通波段的透过率进行调整，直到带通波段的透过率达到极限。本制备方法在膜系结构和膜层厚度以及监控方式上进行了改进，根据膜系结构多次实验可制备高精度的窄带滤光片，相对于直接光控和时间控，间接光控在设备成本和通用性上具有明显的优势。
Description
技术领域
本发明涉及窄带滤光片制备技术领域，尤其涉及一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法。
背景技术
窄带滤光片是从带通滤光片中细分出来的，其定义与带通滤光片相同，也就是这种滤光片在特定的波段允许光信号通过，而偏离这个波段以外的两侧光信号被阻止，窄带滤光片的通带相对来说比较窄，一般为中心波长值的5％以下，窄带滤光片通常要求带通带的透过率尽可能的高并且平坦；
常规情况下窄带滤光片的通带内部是要求透过率高，由1/4光学厚度的高低折射率介质膜层交替堆叠，构成多级的法布里-帕罗腔级联形成，由于窄带滤波片的特点导致膜系对控制方式敏感，现有技术中常用的控制方式是直接光控和时间控制，而窄带滤光片的制备过程中采用的膜系设计和制备方法对滤光片的性能至关重要。因此需要提供一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题，本发明提出了一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法。
本发明提出的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，包括以下步骤：
S1：选取的镀膜的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层：法布里-帕罗腔的结构为：aHbL(HL)^n-12AHL(HL)^n、{(HL)^n2BHL(HL)^n}^N(HL)^n2AL(HL)^n-1cHdL；
S2：通过Z＝|B-C|/|B-A|X100％的计算法来控制S1中镀膜的膜系的膜系结构，然后将n、N、A和B的值根据半波宽以及截止深度来进行调整，直到达到使用需要；
S3：对a、b、c和d的值进行调整，来达到对带通波段的透过率进行调整，直到带通波段的透过率达到极限。
优选地，所述S1中，H为高折射率层的四分之一中心波长的光学厚度，L为低折射率层的四分之一中心波长的光学厚度；2H为两个四分之一中心波长的光学厚度，A和B为均多个二分之一光学厚度的高折射率层，n，N为腔的数量。
优选地，所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5和H4中的至少之一，所述高折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.8-2.5。
优选地，所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3和MgF2中的至少之一，所述低折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.38-1.61。
优选地，所述S2中，A、B是极值，C是终止值。
优选地，所述S3中，a、b、c和d的值均控制在0.3-2.5之间。
与现有的技术相比，本制备方法在膜系结构和膜层厚度以及监控方式上进行了改进，根据膜系结构多次实验可制备高精度的窄带滤光片，相对于直接光控和时间控，间接光控在设备成本和通用性上具有明显的优势。
附图说明
图1为本发明提出的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法中A、B和C具体数据的波形图；
图2为本发明提出的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法的实施例一的H和L的具体数据图；
图3为本发明提出的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法的实施例二的H和L的具体数据图；
图4为本发明提出的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法的实施例一的光控走势图；
图5为本发明提出的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法的实施例二的光控走势图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明作进一步解说。
实施例一
本实施例提出了一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，包括以下步骤：
S1：选取的镀膜的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层：法布里-帕罗腔的结构为：aHbL(HL)^n-12AHL(HL)^n、{(HL)^n2BHL(HL)^n}^N(HL)^n2AL(HL)^n-1cHdL，其中H为高折射率层的四分之一中心波长的光学厚度，L为低折射率层的四分之一中心波长的光学厚度；2H为两个四分之一中心波长的光学厚度，A和B为均多个二分之一光学厚度的高折射率层，n，N为腔的数量，所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5和H4中的至少之一，所述高折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.8-2.5，所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3和MgF2中的至少之一，所述低折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.38-1.61，H和L的具体数据如图2所示；
S2：通过Z＝|B-C|/|B-A|X100％的计算法来控制S1中镀膜的膜系的膜系结构，其中A、B是极值，C是终止值，A、B和C具体数据如图1所示，然后将n、N、A和B的值根据半波宽以及截止深度来进行调整，直到达到使用需要；
S3：对a、b、c和d的值进行调整，且a、b、c和d的值均控制在0.3-2.5之间，来达到对带通波段的透过率进行调整，直到带通波段的透过率达到极限，然后导入Tooling后得到图4所示的光控走势图。
实施例二
本实施例提出了一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，包括以下步骤：
S1：选取的镀膜的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层：法布里-帕罗腔的结构为：aHbL(HL)^n-12AHL(HL)^n、{(HL)^n2BHL(HL)^n}^N(HL)^n2AL(HL)^n-1cHdL，其中H为高折射率层的四分之一中心波长的光学厚度，L为低折射率层的四分之一中心波长的光学厚度；2H为两个四分之一中心波长的光学厚度，A和B为均多个二分之一光学厚度的高折射率层，n，N为腔的数量，所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5和H4中的至少之一，所述高折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.8-2.5，所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3和MgF2中的至少之一，所述低折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.38-1.61，H和L的具体数据如图3所示；
S2：通过Z＝|B-C|/|B-A|X100％的计算法来控制S1中镀膜的膜系的膜系结构，其中A、B是极值，C是终止值，A、B和C具体数据如图1所示，然后将n、N、A和B的值根据半波宽以及截止深度来进行调整，直到达到使用需要；
S3：对a、b、c和d的值进行调整，且a、b、c和d的值均控制在0.3-2.5之间，来达到对带通波段的透过率进行调整，直到带通波段的透过率达到极限，然后导入Tooling后得到图5所示的光控走势图。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：选取的镀膜的膜系的膜系结构包括若干个法布里-帕罗腔及连接层：法布里-帕罗腔的结构为：aHbL(HL)^n-12AHL(HL)^n、{(HL)^n2BHL(HL)^n}^N(HL)^n2AL(HL)^n-1cHdL；
S2：通过Z＝|B-C|/|B-A|×100％的计算法来控制S1中镀膜的膜系的膜系结构，然后将n、N、A和B的值根据半波宽以及截止深度来进行调整；
S3：对a、b、c和d的值进行调整，来达到对带通波段的透过率进行调整，直到带通波段的透过率达到极限。
2.根据权利要求1所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，其特征在于，所述S1中，H为高折射率层的四分之一中心波长的光学厚度，L为低折射率层的四分之一中心波长的光学厚度；2H为两个四分之一中心波长的光学厚度，A和B为均多个二分之一光学厚度的高折射率层，n，N为腔的数量。
3.根据权利要求2所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，其特征在于，所述高折射率层的材料为Ta2O5、Nb2O5、Ti3O5和H4中的至少之一，所述高折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.8-2.5。
4.根据权利要求2所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，其特征在于，所述低折射率层的材料为SiO2、Al2O3和MgF2中的至少之一，所述低折射率层的折射率在400-1100nm的范围为1.38-1.61。
5.根据权利要求1所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，其特征在于，所述S2中，A、B是极值，C是终止值。
6.根据权利要求1所述的一种使用间接光控镀制窄带滤光片的方法，其特征在于，所述S3中，a、b、c和d的值均控制在0.3-2.5之间。
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