CN115377326A - 显示基板、显示装置及显示基板的制备方法 - Google Patents

Abstract

显示基板、显示装置及显示基板的制备方法。衬底(10)；发光层(20)，发光层(20)包括多个子像素(201)；封装层(30)；至少一层透镜层(40)，透镜层(40)包括多个透镜单元(401)，透镜单元(401)与子像素(201)一一对应。

Description

显示基板、显示装置及显示基板的制备方法

技术领域

本申请实施例涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)微型显示，也被称为硅基OLED显示，是显示行业的一个新兴分支。硅基OLED微型显示主要由IC制造技术和OLED技术组成。它有别于传统意义的手机、IPAD、电脑、电视屏幕，多指小于2.5英寸的显示器。硅基OLED显示因为采用单晶硅晶圆作为有源驱动背板，所以更容易实现高PPI、高度集成、体积小、易携带、抗震性能好、超低功耗等优异特性。

发明内容

根据本公开的第一方面，提供一种显示基板，包括：

衬底；

发光层，设置在所述衬底的一侧，所述发光层包括多个子像素，至少一个子像素包括多个发光区域；

封装层，设置在所述发光层背离所述衬底的一侧；

至少一层透镜层，设置在所述封装层背离所述发光层的一侧表面，所述透镜层包括多个透镜单元，所述透镜单元与所述子像素一一对应；

其中，所述透镜单元包括至少一个透镜，所述透镜与所述发光区域一一对应，所述透镜用于使所述发光层发射的光线朝靠近所述衬底的法线方向偏转。

可选地，所述发光层朝向所述封装层的一侧表面与所述透镜层朝向所述封装层的一侧表面之间的距离与所述透镜单元的等效焦距之比为大于或等于0.5，且小于或等于1。

可选地，所述发光层朝向所述封装层的一侧表面与所述透镜层朝向所述封装层的一侧之间表面的距离为大于或等于0.8μm，且小于或等于1.2μm。

可选地，所述透镜层的折射率大于或等于1.8。

可选地，所述封装层的折射率与所述透镜层的折射率相同。

可选地，所述至少一层透镜层包括第一透镜层和第二透镜层；

其中，所述第一透镜层的材料与所述第二透镜层的材料相同或不同。

可选地，所述显示基板还包括：

像素界定层，设置在所述衬底与所述发光层之间，所述像素界定层将所述子像素分割为多个发光区域。

可选地，所述显示基板还包括：

第一电极层，设置在所述像素界定层与所述衬底之间，所述第一电极层包括多个第一电极，位于同一个子像素内的多个发光区域连接同一个第一电极。

可选地，所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素；

其中，所述第一子像素、第二子像素和第三子像素中的至少两个子像素分别对应的所述透镜单元所包含的透镜数量互不相同。

可选地，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；

其中，所述绿色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量，大于所述红色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量以及所述蓝色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量；或者，

所述红色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量，大于所述绿色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量以及所述蓝色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量。

可选地，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，所述红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素分别对应的透镜单元所包含的透镜数量之比为1:2:1。

可选地，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，所述红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素分别对应的透镜单元所包含的透镜数量之比为3:2:2。

可选地，所述显示基板还包括：

滤光片层，设置在所述透镜层背离所述封装层的一侧，所述滤光片层的滤光片与所述子像素一一对应；

其中，所述滤光片层包括红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片。

根据本公开的第二方面，提供一种显示装置，包括如本公开第一方面提供的显示基板。

根据本公开的第三方面，提供一种显示基板的制备方法，包括：

提供衬底；

在所述衬底的一侧形成发光层，所述发光层包括多个子像素；

在所述发光层背离所述衬底的一侧形成封装层；

在所述封装层背离所述发光层的一侧表面形成至少一层透镜层，所述透镜层包括多个透镜单元，所述透镜单元与所述子像素一一对应；

其中，所述透镜单元包括至少一个透镜，所述透镜用于使所述发光层发射的光线朝靠近所述衬底的法线方向偏转。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1示出了本公开一实施例提出的显示基板的结构示意图；

图2示出了本公开一实施例提出的包含第一透镜层和第二透镜层的显示基板的结构示意图；

图3示出了本公开一实施例提出的具有两个透镜的透镜单元的显示基板的结构示意图；

图4示出了本公开一实施例提出的具有一个透镜的子像素的平面结构示意图；

图5示出了本公开一实施例提出的具有两个透镜的子像素的平面结构示意图；

图6示出了本公开一实施例提出的具有三个透镜的子像素的平面结构示意图；

图7示出了本公开一实施例提出的包含像素界定层的单个子像素的结构示意图；

图8示出了本公开一实施例提出的一种绿色子像素对应的透镜单元包含的透镜数量大于红色子像素和蓝色子像素对应的透镜单元包含的透镜数量的结构示意图；

图9示出了本公开一实施例提出的一种红色子像素对应的透镜单元包含的透镜数量大于绿色子像素和蓝色子像素对应的透镜单元包含的透镜数量的结构示意图；

图10示出了本公开一实施例提出的包含滤光片层的显示基板的结构示意图；

图11示出了本公开一实施例提出的一种显示基板的制备方法的步骤流程图。

具体实施方式

为使本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本公开一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。

相关技术中，硅基OLED的像素密度(Pixels Per Inch，PPI)多在3000-5000之间，子像素在5微米左右，超高的分辨率对硅基OLED的精细加工提出了更高的要求。

硅基OLED是虚拟现实技术(Virtual Reality，VR)/增强现实技术(AugmentedReality，AR)的光学模组的下一代显示屏幕，其产品特性也被要求需要符合VR/AR的应用场景。在VR/AR应用中，更高的屏幕亮度始终是硅基OLED的重要发展方向。尤其对VR应用领域，为了追求轻薄化，折叠光路被认为是VR形态发展的重要方向，但由于原理限制，折叠光路的光能利用率上限仅仅为1/8，这就要求屏幕有更高的亮度。

微镜头方案是硅基OLED中常用的一种增亮方法，将和子像素大小相当的微镜头置于发光层正上方，并与子像素进行一一对应。微镜头可以将发光层大角度发射的光进行弱汇聚，指向正视角，进而提升正视角的亮度。但是相关技术中，微镜头的放置高度较高，因此每个子像素发出的光线不能完全地进入对应的微镜头内，从而导致显示基板的亮度提升效果不理想。

有鉴于此，本公开提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法，通过设置衬底、发光层、封装层以及至少一层透镜层，其中发光层包括多个子像素，至少一个子像素包括多个发光区域，透镜层包括多个透镜单元，透镜单元与子像素一一对应，同时透镜单元包括至少一个透镜，透镜与发光区域一一对应，透镜用于使发光层发射的光线朝靠近衬底的法线方向偏转；通过利用调节透镜层的数量或者调节透镜的数量，可以使得透镜单元的等效焦距改变，从而使得透镜单元的放置高度与焦距更好地匹配，进而使透镜单元可以更好地汇聚光线，从而提高显示基板的显示亮度。同时，子像素包含多个发光区域，可以有助于子像素的检测与修复，如果子像素的某一发光区域出现异常，其他的发光区域可以正常显示。

为使本公开的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面，本公开将结合附图以及具体实施方式对本公开所提供的一种显示基板、显示装置及显示基板的制备方法作进一步详细的说明。

参照图1所示，为本公开提供的一种显示基板，该显示基板包括衬底10、发光层20、封装层30以及至少一层透镜层40。

具体地，衬底10可以包括单晶硅衬底或多晶硅衬底，其中单晶硅衬底是指由单晶硅材料制作的衬底10，多晶硅衬底是指由多晶硅材料制作的衬底10。

同时，该显示基板还可以包括设置在衬底10上的驱动电路80，驱动电路80与发光层20连接，用于使发光层20发出光线。在一种可选的实施方式中，驱动电路80可以为互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor，CMOS)电路，因此驱动电路80可以采用CMOS工艺形成。示例性地，驱动电路80可以采用P阱CMOS工艺、N阱CMOS工艺以及双阱CMOS工艺形成。

在该驱动电路80中，驱动电路80可以包括形成在衬底10上的深N阱层，设置在深N阱层上的中压阱层，设置在中压阱层上的轻掺杂漏极以及设置在轻掺杂漏极上的栅极、源极和漏极等等。需要说明的是，采用N阱CMOS工艺形成的驱动电路80为相关技术中已有的结构，故在本申请实施例中不过多赘述。

进一步地，参照图1所示，发光层20设置在衬底10的一侧，发光层20在与驱动电路80连接后，在驱动电路80的驱动下，可以发出发光线。并且，发光层20包括多个子像素201，多个子像素201可以阵列分布在衬底10上。在该显示基板中，显示基板还可以包括第一电极层和第二电极层(图中未示出)，其中，第一电极层设置在衬底10与发光层20之间，第二电极层设置在发光层20背离第一电极层60的一侧，第一电极层和第二电极层分别与驱动电路80连接，从而实现驱动电路80与发光层20的连通。

进一步地，封装层30设置在发光层20背离衬底10的一侧。封装层30可以包括无机材料，例如SiNx、SiO2等等，封装层30的折射率大于或等于1.8，以更好地发散发光层20发出的光线。

进一步地，参照图1所示，透镜层40设置在封装层30背离发光层20的一侧表面，透镜层40包括多个透镜单元401，透镜单元401与子像素201一一对应，也即是，每个透镜单元401在衬底10上的正投影与每个子像素201在衬底10上的正投影是重叠的。这样，每个子像素201发光出的光线便会被对应的透镜单元401所折射后再射出显示基板。

同时，在本公开中，透镜层40的放置高度(指发光层20朝向封装层30的一侧与透镜层40朝向封装层30一侧之间的距离)被降低，使得发光层20发出的大部分光线才可以被收入透镜单元401中进行折射。但是，在透镜单元401的放置高度降低后，容易出现透镜单元401包括的透镜4011的焦距与放置高度不匹配的情况。

因此，在本公开中，参照图2所示，透镜层40包括至少一层，也就是说，透镜层40可以包括单层、双层和更多层，当两层及更多层透镜层40在光的传播方向进行叠加的时候，由于每层透镜层40均对光线起到了一定的偏折效果，所以透镜层40中透镜单元401的等效焦距(即两层以上的透镜层40叠加后的透镜单元401的实际焦距)便会变短，进而使得透镜单元401的放置高度可以与透镜单元401的等效焦距相适配，进而提高透镜单元401的汇聚效果。

进一步地，参照图3所示，透镜单元401可以包括至少一个透镜4011，透镜4011用于使发光层20发射的光线朝靠近衬底10的法线方向偏转；具体地，每个透镜单元401可以包括一个、两个、三个或更多透镜4011，而由于每个子像素201都是与透镜单元401一一对应的，且子像素201的大小一般是固定的，因此在增加透镜单元401包含的透镜4011数量后，透镜4011的孔径也就需要相应地减小，从而导致透镜4011的焦距减小，进而减小了透镜单元401的等效焦距，使得透镜单元401的等效焦距可以与透镜单元401的放置高度相匹配，从而提高了透镜单元401的汇聚效果，进而提高了显示基板的正视角亮度(正视角亮度即衬底10法线方向的亮度)。

在采用多层透镜层40或包括多个透镜4011的透镜单元401时，可以改变每个透镜单元401的等效焦距，从而使得透镜层40的放置高度可以更好地与透镜单元401的等效焦距匹配，从而使得透镜层40可以更好地汇聚光线。

进一步地，为了进一步提高显示基板的显示亮度，在本公开中，可以使透镜层40的折射率与封装层30的折射率相同，也即是透镜层40的折射率大于或等于1.8。示例性地，透镜层40的折射率可以为1.8、1.85、1.9、1.95、2.0等等。通过使透镜层40的折射率与封装层30的折射率相匹配，使得透镜层40可以更好地汇聚由封装层30折射后的光线，进而使得透镜层40可以取出封装层30中波导模式的光能，从而提高显示基板的显示亮度。透镜层40的材料可以包括SiNx、SiC和SiO2等等。

需要说明的是，此处透镜层40的折射率与封装层30的折射率可以不完全相同，只需使透镜层40的折射率与封装层30的折射率之差处于一定范围(例如0-1之间)，便可以使透镜层40可以更好地汇聚由封装层30折射后的光线，并取出封装层30中波导模式的光能。

通过本公开提供的显示基板，利用调节透镜层40的数量或者调节透镜4011的数量，可以使得透镜层40的等效焦距改变，从而使得透镜层40的放置高度与焦距更好地匹配，进而使透镜层40可以更好地汇聚光线，从而提高显示基板的显示亮度；同时，透镜层40的折射率与封装层30的折射率相匹配，使得透镜层40可以取出封装层30中波导模式的光能。

在一种可选的实施方式中，本公开还提供一种显示基板，在该显示基板中，所述发光层20朝向所述封装层30的一侧与所述透镜层40朝向所述封装层30的一侧之间的距离与所述透镜单元401的等效焦距之比为大于或等于0.5，且小于或等于1。

具体地，对于不同开口率的显示基板，只有在透镜层40的放置高度(指发光层20朝向封装层30的一侧表面与透镜层40朝向封装层30一侧表面之间的距离)与透镜的焦距相当的情况下，才能使得透镜起到最佳的汇聚效果，并且随着开口率的增大，焦距和放置高度适配的条件有所放松，但始终要求放置高度在焦距附近，才能起到最佳的汇聚效果。

而在本公开中，由于透镜单元401包括至少一个透镜4011，因此需要透镜单元401的等效焦距与透镜单元401的放置高度相当，才可以使透镜单元401具有最佳的汇聚效果。示例性地，在显示基板的发光层20的开口率为60％时，透镜单元401的放置高度(发光层20朝向封装层30的一侧与透镜层40朝向封装层30的一侧之间的距离)与透镜单元401的等效焦距之比为大于或等于0.5，且小于或等于1。在该范围内，透镜单元401对于光线的汇聚效果最佳，进而可以更有效地提高显示基板的正视角亮度。

进一步地，在本公开中，透镜层40中透镜单元401的放置高度(指发光层20朝向封装层30的一侧与透镜层40朝向封装层30一侧之间的距离)要尽可能低。在实际应用中，透镜单元401的放置高度(发光层20朝向封装层30的一侧与透镜层40朝向封装层30的一侧之间的距离)大于或等于0.8μm，且小于或等于1.2μm，示例性地，透镜单元401的放置高度可以为0.8μm、0.9μm、1.0μm、1.1μm、1.2μm等等。

通过本公开的显示基板，在降低透镜单元401的放置高度后，使得透镜单元401距离发光层20的距离也就更近，从而使得发光层20发出的光线可以更多地进入透镜单元401，并被透镜单元401折射并汇聚到正视角，从而提高显示基板的正视角亮度。

在一种可选的实施方式中，本公开还提供一种显示基板，参照图2所示，在该显示基板中，所述至少一层透镜层40包括第一透镜层402和第二透镜层403，其中，所述第一透镜层402的材料与所述第二透镜层403的材料相同或不同。

具体地，第一透镜层402包括的透镜单元401与第二透镜层403括的透镜单元401是一一对应的，可以理解的是，第一透镜层402是与第二透镜层403完全重叠的。第一透镜层402和第二透镜层403可以选用相同的材料，例如，第一透镜层402和第二透镜层403均采用SiNx制作；第一透镜层402和第二透镜层403也可以选用不同的材料，例如第一透镜层402可以采用SiNx制作，第二透镜层403可以选用SiC制作，但是第一透镜层402的折射率最好与第二透镜层403的折射率相同，这样，才可以使更多地光线被第一透镜层402和第二透镜层403所折射。

将第一透镜层402和第二透镜层403叠加后，可以减小透镜单元401的等效焦距，从而使透镜单元401的放置高度可以更好地与透镜单元401的等效焦距相匹配，从而使得透镜单元401可以更好地汇聚发光层20发出的光线。

在一种可选的实施方式中，本公开还提供一种显示基板，参照图4、图5和图6所示，在该显示基板中，至少一个子像素201包括多个发光区域A，其中，透镜4011与发光区域A一一对应。

具体地，在透镜单元401包括多个透镜4011时，对应地，子像素201也需要包括多个发光区域A，并且将每个透镜对应地放置到该子像素201包括的每个发光区域A内，从而使得每个发光区域A发出的光线可以全部地进入对应的透镜4011，从而使得透镜单元401可以汇聚光线。

示例性地，参照图4所示，在该实施方式中，透镜单元401仅包括一个透镜4011，因此子像素201仅包括一个发光区域A；参照图5所示，在该实施方式中，透镜单元401包括两个透镜4011，因此子像素201包括两个发光区域A，且每个透镜4011均位于对应的发光区域A所在的位置；参照图6所示，在该实施方式中，透镜单元401包括三个透镜4011，因此子像素201包括三个发光区域A，每个透镜4011均位于对应的发光区域A所在的位置，同时子像素201的形状也与前两个实施方式中的子像素201形状不一致。

通过本公开提供的显示基板，子像素201包含多个发光区域A，可以有助于子像素201的检测与修复，如果子像素201的某一发光区域A出现异常，其他的发光区域A可以正常显示。而且，子像素201的各个发光区域A与透镜4011一一对应设置，如果子像素201内的某一发光区域A出现异常，不会影响其他发光区域A的聚光效果。如果一个子像素201内的各个发光区域A同时使用一个透镜4011聚光，一旦某个发光区域A出现异常，会影响子像素整体的聚光效果。

进一步地，在子像素201包括多个发光区域A时，参照图7所示，显示基板包括像素界定层50，像素界定层50设置在衬底10与发光层20之间，像素界定层50用于将子像素201分割为多个发光区域A。同时，显示基板还包括设置在像素界定层50与衬底10之间的第一电极层60，第一电极层60可以为发光层20提供电能。

像素界定层50将子像素201后分割为多个发光区域A后，只有未被像素界定层50覆盖的发光区域A可以与第一电极层60接触，从而实现发光；被像素界定层50覆盖的子像素201则不能与第一电极层60接触，因此不能发光。

进一步地，第一电极层60包括多个第一电极，位于同一个子像素201内的多个发光区域A连接同一个第一电极。并且，第一电极层60与衬底10之间还设置有绝缘层，第一电极层60通过穿过绝缘层的过孔(例如金属过孔)与衬底10上的驱动电路80连接。这样，驱动电路80便可以为第一电极层60提供电能，且由于同一个子像素201的多个发光区域A连接同一个第一电极，从而实现了一个子像素201内多个发光区域A的同时发光。

通过本公开提供的显示基板，利用包括多个透镜4011的透镜单元401实现了透镜单元401等效焦距与放置高度的匹配，同时使一个子像素201包括多个发光区域A，使每个透镜4011与每个发光区域A相对应，使得发光层20的子像素201发出的光线可以更多地进入透镜单元401内，并被透镜单元401所折射，进而提高显示基板的正视角亮度。

在一种可选的实施方式中，本公开还提供一种显示基板，在该显示基板中，所述子像素201包括第一子像素、第二子像素和第三子像素；其中，所述第一子像素、第二子像素和第三子像素中的至少两个子像素分别对应的所述透镜单元401所包含的透镜4011数量互不相同。

具体地，在该实施方式中，可以根据改变不同子像素201对应的透镜单元401包括的透镜数量，来改变不同子像素201的显示亮度。

例如，第一子像素、第二子像素和第三子像素分别为红色子像素201、蓝色子像素和绿色子像素，将绿色子像素对应的透镜单元401的透镜4011数量增加，便可以增加显示基板对于绿色光线的正视角显示亮度，由于人眼对绿光的敏感性更高，因此虽然没有直接增加子像素201的密度，但是能够有效地提高人眼的视效像素密度，进而使得人眼观察的显示基板的显示亮度更高。

通过改变不同子像素201对应的透镜单元401包括的透镜数量，实现了对于不同子像素201的独立设计，使得显示基板可以更好地根据需求来进行设计。

在一种可选的实施方式中，本公开还提供一种显示基板，参照图8和图9所示，在该显示基板中，所述多个子像素201包括红色子像素2011、绿色子像素2012和蓝色子像素2013；其中，所述绿色子像素2012对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量，大于所述红色子像素2011对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量以及所述蓝色子像素2013对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量；或者，所述红色子像素2011对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量，大于所述绿色子像素2012对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量以及所述蓝色子像素2013对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量。

具体地，在绿色子像素2012对应的透镜单元401包含的透镜4011数量大于红色子像素2011对应的透镜单元401包含的透镜4011数量以及蓝色子像素2013对应的透镜单元401包含的透镜4011数量的情况下，显示基板的发出的绿色光线的正视角亮度更高，如前文所述，人眼所观察的显示基板的亮度也相对更高。

示例性地，参照图8所示，红色子像素2011、绿色子像素2012和蓝色子像素2013分别对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量之比可以为1:2:1；即红色子像素2011和蓝色子像素2013对应的透镜单元401包含的透镜4011数量为一个，绿色子像素2012对应的透镜单元401包含的透镜4011数量为两个。

进一步地，在实际应用时，显示基板容易出现大角度偏红的现象，通过使红色子像素2011对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量，大于绿色子像素2012对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量以及蓝色子像素2013对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量的情况下，可以使显示基板发出的红光相比于绿光和蓝光可以更好地从正视角度射出，从而实现显示基板的大角度红光变弱，进而有效抑制色偏问题。

示例性地，参照图9所示，红色子像素2011、绿色子像素2012和蓝色子像素2013分别对应的透镜单元401所包含的透镜4011数量之比可以为3:2:2，即红色子像素2011对应的透镜单元401包含的透镜4011数量为三个，蓝色子像素2013和绿色子像素2012对应的透镜单元401包含的透镜4011数量为两个。

通过本公开提供的显示基板，利用对红色子像素2011、绿色子像素2012和蓝色子像素2013对应的透镜单元401包含的透镜4011数量进行独立设计，可以改变显示基板对于单个颜色子像素201的正视角亮度，从而根据不同需求对显示基板进行设计，提高了显示基板的适用性。

进一步地，在一种可选的实施方式中，参照图10所示，显示基板还可以包括滤光片层70，滤光片层70设置在透镜层40背离封装层30的的一侧，且滤光片层70的滤光片与子像素201一一对应，其中，滤光片层70包括红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片。

利用不同颜色滤光片可以改变不同子像素201发出光线的颜色，进而实现显示基板的彩色显示。

基于同一发明构思，本公开还提供一种显示装置，该显示装置包括如本公开前文所述的任一种显示基板。

具体地，该显示装置可以OLED显示屏、手机等移动装置、手表等可穿戴设备、VR/AR装置等等，本领域技术人员可根据该显示设备的具体用途进行相应地选择，在此不再赘述。

图11示出了本公开提出的一种显示基板的制备方法的步骤流程图。参照图11所示，本公开提供一种显示基板的制备方法，所述制备方法包括：

步骤301：提供衬底10。

具体地，衬底10可以为单晶硅衬底10或多晶硅衬底10，完成衬底10制作的步骤还可以包括完成衬底10上驱动电路80的制作。

步骤302：在衬底10的一侧形成发光层20，发光层20包括多个子像素201，至少一个子像素201包括多个发光区域A。

具体地，在子像素201包括多个发光区域A的情况下，完成发光层20制作的步骤还可以包括完成第一电极层60、第二电极层和像素界定层50的制作。

步骤303：在发光层20背离衬底10的一侧形成封装层30。

具体地，封装层30选用无机材料，例如SiNx，封装层30的折射率大于或等于1.8。

步骤304：在封装层30背离发光层20的一侧表面形成至少一层透镜层40，透镜层40包括多个透镜单元401，透镜单元401与所述子像素201一一对应；

其中，透镜单元401包括至少一个透镜4011，透镜4011与发光区域A一一对应，透镜4011用于使发光层20发射的光线朝靠近衬底10的法线方向偏转。

具体地，透镜层40的材料可以选用SiNx、SiC或SiO2等等，透镜层40的折射率大于或等于1.8，并且透镜单元401的等效焦距与透镜单元401的放置高度需要向匹配，以使透镜单元401可以更好地汇聚光线。

通过本公开的提供的显示基板的制备方法制备的显示基板，利用调节透镜层40的数量或者调节透镜4011的数量，可以使得透镜单元401的等效焦距改变，从而使得透镜单元401的放置高度与焦距更好地匹配，进而使透镜单元401可以更好地汇聚光线，从而提高显示基板的显示亮度。同时，子像素包含多个发光区域，可以有助于子像素的检测与修复，如果子像素的某一发光区域出现异常，其他的发光区域可以正常显示。

本文中所称的“一个实施例”、“实施例”或者“一个或者多个实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或者特性包括在本公开的至少一个实施例中。此外，请注意，这里“在一个实施例中”的词语例子不一定全指同一个实施例。

在此处所提供的说明书中，说明了大量具体细节。然而，能够理解，本公开的实施例可以在没有这些具体细节的情况下被实践。在一些实例中，并未详细示出公知的方法、结构和技术，以便不模糊对本说明书的理解。

在权利要求中，不应将位于括号之间的任何参考符号构造成对权利要求的限制。单词“包含”不排除存在未列在权利要求中的元件或步骤。位于元件之前的单词“一”或“一个”不排除存在多个这样的元件。本公开可以借助于包括有若干不同元件的硬件以及借助于适当编程的计算机来实现。在列举了若干装置的单元权利要求中，这些装置中的若干个可以是通过同一个硬件项来具体体现。单词第一、第二、以及第三等的使用不表示任何顺序。可将这些单词解释为名称。

最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本公开的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本公开进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本公开各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (15)

1.一种显示基板，其中，包括：

衬底；

发光层，设置在所述衬底的一侧，所述发光层包括多个子像素，至少一个所述子像素包括多个发光区域；

封装层，设置在所述发光层背离所述衬底的一侧；

至少一层透镜层，设置在所述封装层背离所述发光层的一侧表面，所述透镜层包括多个透镜单元，所述透镜单元与所述子像素一一对应；

其中，所述透镜单元包括至少一个透镜，所述透镜与所述发光区域一一对应，所述透镜用于使所述发光层发射的光线朝靠近所述衬底的法线方向偏转。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述发光层朝向所述封装层的一侧表面与所述透镜层朝向所述封装层的一侧之间表面的距离与所述透镜单元的等效焦距之比为大于或等于0.5，且小于或等于1。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其中，所述发光层朝向所述封装层的一侧表面与所述透镜层朝向所述封装层的一侧表面之间的距离为大于或等于0.8μm，且小于或等于1.2μm。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述透镜层的折射率大于或等于1.8。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述封装层的折射率与所述透镜层的折射率相同。

6.根据权利要求1-5任一项所述的显示基板，其中，所述至少一层透镜层包括第一透镜层和第二透镜层；

其中，所述第一透镜层的材料与所述第二透镜层的材料相同或不同。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括：

像素界定层，设置在所述衬底与所述发光层之间，所述像素界定层将所述子像素分割为多个发光区域。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括：

第一电极层，设置在所述像素界定层与所述衬底之间，所述第一电极层包括多个第一电极，位于同一个子像素内的多个发光区域连接同一个第一电极。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述子像素包括第一子像素、第二子像素和第三子像素；

其中，所述第一子像素、第二子像素和第三子像素中的至少两个子像素分别对应的所述透镜单元所包含的透镜数量互不相同。

10.根据权利要求1所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素；

其中，所述绿色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量，大于所述红色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量以及所述蓝色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量；或者，

所述红色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量，大于所述绿色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量以及所述蓝色子像素对应的透镜单元所包含的透镜数量。

11.根据权利要求1-10任一项所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，所述红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素分别对应的透镜单元所包含的透镜数量之比为1:2:1。

12.根据权利要求1-10任一项所述的显示基板，其中，所述多个子像素包括红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，所述红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素分别对应的透镜单元所包含的透镜数量之比为3:2:2。

13.根据权利要求1-12任一项所述的显示基板，其中，所述显示基板还包括：

滤光片层，设置在所述透镜层背离所述封装层的一侧，所述滤光片层的滤光片与所述子像素一一对应；

其中，所述滤光片层包括红色滤光片、绿色滤光片和蓝色滤光片。

14.一种显示装置，其中，包括如权利要求1-13任一项所述的显示基板。

15.一种显示基板的制备方法，其中，所述制备方法包括：

提供衬底；

在所述衬底的一侧形成发光层，所述发光层包括多个子像素，至少一个子像素包括多个发光区域；

在所述发光层背离所述衬底的一侧形成封装层；

在所述封装层背离所述发光层的一侧表面形成至少一层透镜层，所述透镜层包括多个透镜单元，所述透镜单元与所述子像素一一对应；

其中，所述透镜单元包括至少一个透镜，所述透镜与所述发光区域一一对应，所述透镜用于使所述发光层发射的光线朝靠近所述衬底的法线方向偏转。

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