CN115341323A - 一种双面织印结合面料的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种双面织印结合面料的制备方法,属于以经纬纱特定设置为特征的机织物织造方法技术领域。包括彩色数码图案设计、双面印花定位模板设计、组织结构设计、提花织物生产和基于定位模板的双面定位印花,采用本申请制备方法得到的织物,其正反面可以呈现相同花纹,也可以呈现部分相同的花型,同时拥有提花面料的肌理感和印花面料的丰富色彩,满足大批量生产的技术要求。
Description
技术领域
本申请涉及一种双面织印结合面料的制备方法,属于以经纬纱特定设置为特征的机织物织造方法技术领域。
背景技术
现有的织印结合技术主要有单面织印结合和双面织印结合两种,也就是面料的表面先进行提花设计,再根据提花织物的织纹轮廓进行计算机识别和精准定位印花,该方法不论是单面织印结合还是双面织印结合设计,对提花织物都要求有明确的花型轮廓边界,以便于计算机识别,因此,应用以上技术所生产的单面或双面织印结合面料表面所呈现的花纹都具有清晰的花型轮廓。同时,该技术是基于织纹轮廓识别并进行定位印花的原理,不仅限制了织花和印花的图案设计,往往还会产生定位上的偏差,特别是在双面织印结合的面料生产过程中,会出现正反面定位不准的技术问题,导致正品率低。
发明内容
有鉴于此,本申请提供一种可实现双面精准定位的双面织印结合面料的制备方法,所得面料的提花织纹不受轮廓清晰度限制,并能表现出各种晕纹效果。
具体地,本申请是通过以下方案实现的:
一种双面织印结合面料的制备方法,包括以下步骤:
(1)彩色数码图案设计:
根据双面织印结合面料的预期效果,
①设计一幅彩色数码图案,该图案题材、内容和表现手法不限,
②将该数码图案的全部或局部提取,经过去色后形成灰度效果的提花图案,提花图案的轮廓可以表现数码提花的晕纹效果,
③将该数码图案的全部或局部提取后形成彩色效果的印花图案,②与③的图案造型可以相同也可以不同,
④将②中灰度效果的提花图案中画面分布均匀且轮廓清晰的部分提取出来作为双面织印结合的定位模板,定位模板的色彩为单色;
(2)双面织印结合印花图案设计:
①正面印花图案设计:在步骤(1)中③的彩色效果的印花图案基础上设计正面印花图案,题材、内容和效果不限,
②反面印花图案设计:反面印花图案可由正面印花图案左右镜像后得到,也可以根据反面织印结合的效果要求,在左右镜像后的正面印花图案基础上进行变化设计,变化设计是在保持正面印花图案效果的基础上增减图案内容或变化图案色彩,实现正反面印花效果的差异化;
(3)提花组织结构设计:
①根据步骤(1)中②的灰度效果的提花图案的特点设计相应的提花组织,提花组织不限,可以是简单组织也可以是复杂组织,
②根据步骤(1)中④得到的定位模板在提花组织设计时采用经纬对比最明显的组织,经纬对比差异小时需要进行包边处理,以增强轮廓识别度,
③将灰度效果的提花图案和定位模板在纹织CAD软件中进行铺组织,转化为意匠图;
(4)提花织物生产:
根据提花织造设备的技术规格,将步骤(3)中③获得的意匠图设置合理的经纬密度和选纬信息形成电子纹板图,根据双面织印结合面料设计效果选择经纬纱线上机织造;
(5)双面定位印花
在进行印花前,优选进行前处理:将步骤(4)得到的提花面料进行上浆、整烫的印花前处理,待前处理完毕后,将提花面料进行印花:
①正面数码印花:放入数码印花设备中获取提花图案中定位模板的位置、形状和分布信息,将步骤(2)中①得到的正面印花图案与定位模板进行精准定位校正,进行正面数码印花,
②反面数码印花:将完成正面印花的提花面料翻转后放入数码印花设备中,将定位模板左右镜像,将步骤(2)中②得到的反面印花图案与左右镜像的定位模板进行精准定位校正,进行反面数码印花,得到具有双面织印结合效果的提花面料。
上述方案通过设计织印结合的定位模板,使得织花与正反面印花图案能够精准定位,制备过程中,经彩色数码图案设计、双面印花定位模板设计、组织结构设计、提花织物生产、基于定位模板的双面定位印花,实现织物正反面既可以呈现相同花纹,也可以呈现部分相同的花型,同时拥有提花面料的肌理感和印花面料的丰富色彩,该技术方案满足大批量生产的技术要求。
附图说明
图1为本申请中双面织印结合面料的制作流程示意图;
图2为本申请中彩色数码图案设计图;
图3为本申请中彩色数码图案设计图去色后全部提取的灰度效果提花图案;
图4为本申请中从提花图案中提取的单色定位模板;
图5为本申请中从彩色数码图案设计图提取的彩色效果的印花图案;
图6为本申请中变化设计的正面印花图案;
图7为本申请中变化设计的反面印花图案;
图8为本申请中影光组织库示意图;
图9为本申请中其余组织示意图;
图10为本申请中提花组织结构局部图;
图11为本申请中提花面料实物局部效果图;
图12为双面织印结合面料的正面(左)、反面(右)实物局部效果图。
具体实施方式
本实施例以采用10枚影光组织、5枚基础组织和透孔组织设计双面织印结合面料为案例,进行技术方案的说明。
图1为本实施例所采用制备方法的流程图,过程可以描述如下:
第一,选图:
选择彩色数码图案图2,尺寸为2400*2400像素。
第二,去色:
对图2进行去色处理,全部提取得到灰度效果的提花图案(图3),尺寸为2400*2400像素。
提取图2中轮廓清晰且分布均匀的部分作为单色定位模板(图4),尺寸为2400*2400像素。
根据单色定位模板位置从图2中提取得到印花图案(图5),尺寸为2400*2400像素。
第三,对图2进行双面印花图案设计:
(1)根据正面提花效果设计得到正面印花图案(图6),尺寸为2400*2400像素;
(2)图5左右镜像后根据反面提花效果设计,得到反面印花图案(图7),尺寸为2400*2400像素。
第四,对图3的灰度效果提花图案进行组织结构设计:
(1)根据图3的图案特点,选择10枚缎纹为基础组织,设计10枚缎纹的影光组织库(图8);
(2)根据基础组织和经纬密度比,设计透孔组织(图9);
(3)根据图4的定位模板,在图3中定位处设计5枚3飞经纬缎,并在边缘处进行包边处理,以增强轮廓辨识度。
第五,形成织物组织图:
将图3的灰度级别调整为影光组织数目,运用纹织CAD软件对图3中的灰度与影光组织进行替换,纯色部分与设计的相应组织替换,并且设置合适的经纬密度和选纬信息,形成图10的织物结构图。
第六,织造:
根据图2的色彩效果,选择白色为经线,米色为纬线进行面料织造,得到面料,面料的局部效果图如图11所示。
第七,正反面图案对位印花:
(1)提花面料进行上浆处理、熨烫整理;
(2)将经过处理的提花面料放入数码印花设备中,获取提花图案的位置、形状和分布等全部参数,提取定位模板(图4)与扫描的提花图案,进行正面印花模板和定位点的制定;
(3)根据定位模板建立的正面印花模板和定位点,校正图6的正面印花图案,进行数码印花;
(4)将完成正面印花的提花面料翻转后,放入数码印花设备中获取提花面料反面的提花纹理和正面渗透到反面的图案位置、形状和分布等参数,根据图4定位模板左右镜像效果,进行反面印花模板的制定和定位点的确定;
(5)根据建立的反面印花模板和定位点校正图7的反面印花图案,进行反面图案的对位印花,得到双面织印结合的提花面料实物局部效果图(图12)。
由于定位模板具有差异最大的提花纹理,因此正反面印花都很容易进行精准定位,另外,由于定位模板只体现部分提花纹理和部分印花,因此可以在提花图案和正反面印花图案设计上具有更大的拓展空间,实现以前没法实现的双面晕纹的织印结合效果。
以上内容是结合本发明创造的优选实施方式对所提供技术方案所作的进一步详细说明,不能认定本发明创造具体实施只局限于上述这些说明,对于本发明创造所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明创造构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明创造的保护范围。
Claims (3)
1.一种双面织印结合面料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)彩色数码图案设计:
①选定一幅彩色数码图案,
②提取彩色数码图案的全部或局部,经去色后,形成灰度效果的提花图案,
③提取数码图案的全部或局部,形成彩色效果的印花图案,
④将②中灰度效果的提花图案中画面分布均匀且轮廓清晰的部分提取出来,作为双面织印结合的定位模板;
(2)双面织印结合印花图案设计:
①正面印花图案设计:在步骤(1)中③的彩色效果的印花图案基础上,设计正面印花图案,
②反面印花图案设计:正面印花图案左右镜像后得到反面印花图案,或左右镜像后变化设计得到反面印花图案;
(3)提花组织结构设计:
①根据灰度效果的提花图案的特点,设计相应的提花组织,
②根据定位模板,在提花组织设计时采用经纬对比最明显的组织,经纬对比差异小时进行包边处理,以增强轮廓识别度,
③将灰度效果的提花图案和定位模板在纹织CAD软件中进行铺组织,转化为意匠图;
(4)提花织物生产:
将意匠图设置经纬密度和选纬信息形成电子纹板图,根据双面织印结合面料设计效果选择经、纬纱线上机织造;
(5)双面定位印花:将织造的提花面料置于数码印花设备中,获取提花图案中定位模板的位置、形状和分布信息,正面印花图案与定位模板进行精准定位校正后,进行正面数码印花;将完成正面印花的提花面料翻转,将定位模板左右镜像,反面印花图案与左右镜像的定位模板进行精准定位校正后,进行反面数码印花,得到具有双面织印结合效果的提花面料。
2.根据权利要求1所述的一种双面织印结合面料的制备方法,其特征在于:步骤(2)中,所述变化设计是在保持正面印花图案效果的基础上增减图案内容或变化图案色彩,实现正反面印花效果的差异化。
3.根据权利要求1所述的一种双面织印结合面料的制备方法,其特征在于:步骤(5)中,提花面料经上浆、整烫的前处理后进入印花工序。
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