CN115327868A - 显影方法及显影装置 - Google Patents

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CN115327868A
CN115327868A CN202211256624.0A CN202211256624A CN115327868A CN 115327868 A CN115327868 A CN 115327868A CN 202211256624 A CN202211256624 A CN 202211256624A CN 115327868 A CN115327868 A CN 115327868A
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CN202211256624.0A
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Inventor
杨洋
王忠诚
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Hefei Xinjing Integrated Circuit Co Ltd
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Hefei Xinjing Integrated Circuit Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/30Imagewise removal using liquid means

Abstract

本发明提供了一种显影方法及显影装置。该显影方法包括:获取待显影基材中目标区域的第一光刻胶参数,其中,待显影基材表面涂覆有光刻胶,光刻胶参数至少包括光刻胶厚度;至少根据第一光刻胶参数,确定与目标区域对应的第一显影参数;根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,其中,显影液输送管线用于在开启的状态下向待显影基材喷洒显影液,第一显影参数至少包括显影液的流量。通过上述显影方法使得喷洒的显影液能够实现对目标区域的光刻胶进行精准的显影,避免涂覆有光刻胶的基材表面显影过度或显影不足,从而得到线宽均匀的光刻图形。

Description

显影方法及显影装置
技术领域
本发明涉及显影技术领域,具体而言,涉及一种显影方法及显影装置。
背景技术
显影是半导体制造工艺中通过化学方法将材料移除的技术,包括湿式显影和干式显影。当前的生产实践中,出于成本及产能的考虑,通常采用湿式显影。即在光刻工艺过程中,首先在晶圆表面旋涂一层光刻胶,使得光刻胶以既定的图形曝光后,显影并形成需要的光刻图形。
现有光刻工艺过程中,在晶圆表面旋涂光刻胶之后,还需要对光刻胶进行软烘以增强光刻胶的粘附性以及改善线宽控制等,然而软烘之后的形成的光刻胶厚度存在特殊分布,使得晶圆在显影过程中,由于光刻胶厚度的差异会导致最终形成的图形线宽存在差异,从而制备得到的光刻图形的线宽不均匀。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种显影方法及显影装置,以解决现有技术中显影之后得到的光刻图形的线宽不均匀的问题。
为了实现上述目的,根据本发明的一个方面,提供了一种显影方法,包括:获取待显影基材中目标区域的第一光刻胶参数,其中,待显影基材表面涂覆有光刻胶,第一光刻胶参数至少包括光刻胶厚度;至少根据第一光刻胶参数,确定与目标区域对应的第一显影参数;根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,其中,显影液输送管线用于在开启的状态下向待显影基材喷洒显影液,第一显影参数至少包括显影液的流量。
进一步地,至少根据第一光刻胶参数,确定与目标区域对应的第一显影参数,包括:获取多个预设关系,其中,多个预设关系用于表征不同的多个光刻胶参数与多个显影参数之间的一一对应关系;从多个预设关系中确认与第一光刻胶参数对应的第一预设关系;确定与第一预设关系对应的显影参数为目标区域对应的第一显影参数。
进一步地,光刻胶参数还包括目标区域的面积。
进一步地,获取多个预设关系的步骤包括:计算与多个预设光刻胶参数对应的多个预设显影参数,其中,预设显影参数为满足预设光刻胶参数的光刻胶被完全显影所需的显影参数,预设光刻胶参数包括预设光刻胶厚度和预设待显影面积;从多个预设光刻胶参数中确定分别与相同预设显影参数对应的多个预设光刻胶参数集合;根据多个预设光刻胶参数集合,得到多个预设光刻胶参数范围,其中,每个预设光刻胶参数范围的端点值位于不同预设光刻胶参数集合中;建立多个预设光刻胶参数范围与对应的多个预设显影参数之间的对应关系,得到多个预设关系。
进一步地,根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,包括:从多个预设范围中确定显影液的流量满足的目标预设范围,其中,多个显影液输送管线具有与多个预设范围对应的开关状态;根据目标预设范围,确定多个显影液输送管线的目标开关状态;控制多个显影液输送管线满足目标开关状态。
进一步地,多个显影液输送管线包括第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线,从多个预设范围中确定显影液的流量满足的目标预设范围,包括:获取第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围,其中,第一显影液输送管线和第二显影液输送管线具有与第一预设范围对应的开启状态,第三显影液输送管线具有与第一预设范围对应的关断状态,第一显影液输送管线和第三显影液输送管线具有与第二预设范围对应的开启状态,第二显影液输送管线具有与第二预设范围对应的关断状态,第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线具有与第三预设范围对应的开启状态;从第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围中确定显影液的流量满足的目标预设范围。
进一步地,根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,还包括:根据第一显影参数,控制至少一个阀门的开启时间,其中,第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
根据本发明的另一方面,提供了一种显影装置,该显影装置包括:显影液输送装置,包括多个显影液输送管线,显影液输送管线上设置有阀门,显影液输送装置用于在阀门开启状态下向待显影基材喷洒显影液;控制单元,与显影液输送装置电连接,用于执行权利要求1至7中任一项的显影方法,以控制显影液输送装置向待显影基材中的目标区域喷洒显影液。
进一步地,控制单元包括:第一控制模块,与显影液输送装置电连接,用于根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,第一显影参数至少包括显影液的流量;第二控制模块,与显影液输送装置电连接,用于根据第一显影参数,控制至少一个阀门的开启时间,其中,第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
进一步地,设置于不同显影液输送管线上的喷嘴具有不同喷射孔径。
应用本发明的技术方案,提供一种显影方法,包括:获取待显影基材中目标区域的第一光刻胶参数,其中,待显影基材表面涂覆有光刻胶,光刻胶参数至少包括光刻胶厚度;至少根据第一光刻胶参数,确定与目标区域对应的第一显影参数;根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,其中,显影液输送管线用于在开启的状态下向待显影基材喷洒显影液,第一显影参数至少包括显影液的流量。通过获取上述显影基材中目标区域的光刻胶参数,并根据所得的光刻胶参数进行计算得出在不同光刻胶参数对应的不同显影参数,并根据光刻胶参数与显影参数之间的一一对应关系,进而对涂覆在基材表面的光刻胶根据所得的对应关系控制喷洒显影液,使得喷洒的显影液能够实现对目标区域的光刻胶进行精准的显影,避免涂覆有光刻胶的基材表面显影过度或显影不足,从而得到线宽均匀的光刻图形。
附图说明
构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1示出了根据本发明的一种显影方法的实施例的计算机终端的硬件结构框图;
图2示出了根据一示例性实施例示出的一种显影方法的流程框图;
图3示出了根据本发明一实施例的显影装置的结构框图。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本发明保护的范围。
需要说明的是,本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本发明的实施例。此外,术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
实施例1
根据本发明实施例,提供了一种显影方法实施例,需要说明的是,在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行,并且,虽然在流程图中示出了逻辑顺序,但是在某些情况下,可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。
本申请实施例1所提供的方法实施例可以在移动终端、计算机终端或者类似的运算装置中执行。图1示出了一种用于实现显影方法的计算机终端(或移动设备)的硬件结构框图。如图1所示,计算机终端10(或移动设备)可以包括一个或多个(图中采用102a、102b,……,102n来示出)处理器102(处理器102可以包括但不限于微处理器MCU或可编程逻辑器件FPGA等的处理装置)、用于存储数据的存储器104、以及用于通信功能的传输装置。除此以外,还可以包括:显示器、输入/输出接口(I/O接口)、通用串行总线(USB)端口(可以作为BUS总线的端口中的一个端口被包括)、网络接口、电源和/或相机。本领域普通技术人员可以理解,图1所示的结构仅为示意,其并不对上述电子装置的结构造成限定。例如,计算机终端10还可包括比图1中所示更多或者更少的组件,或者具有与图1所示不同的配置。
应当注意到的是上述一个或多个处理器102和/或其他数据处理电路在本文中通常可以被称为“数据处理电路”。该数据处理电路可以全部或部分的体现为软件、硬件、固件或其他任意组合。此外,数据处理电路可为单个独立的处理模块,或全部或部分的结合到计算机终端10(或移动设备)中的其他元件中的任意一个内。如本申请实施例中所涉及到的,该数据处理电路作为一种处理器控制(例如与接口连接的可变电阻终端路径的选择)。
存储器104可用于存储应用软件的软件程序以及模块,如本发明实施例中的显影方法对应的程序指令/数据存储装置,处理器102通过运行存储在存储器104内的软件程序以及模块,从而执行各种功能应用以及数据处理,即实现上述的应用程序的显影方法。存储器104可包括高速随机存储器,还可包括非易失性存储器,如一个或者多个磁性存储装置、闪存、或者其他非易失性固态存储器。在一些实例中,存储器104可进一步包括相对于处理器102远程设置的存储器,这些远程存储器可以通过网络连接至计算机终端10。上述网络的实例包括但不限于互联网、企业内部网、局域网、移动通信网及其组合。
传输装置用于经由一个网络接收或者发送数据。上述的网络具体实例可包括计算机终端10的通信供应商提供的无线网络。在一个实例中,传输装置包括一个网络适配器(Network Interface Controller,NIC),其可通过基站与其他网络设备相连从而可与互联网进行通讯。在一个实例中,传输装置可以为射频(Radio Frequency,RF)模块,其用于通过无线方式与互联网进行通讯。
显示器可以例如触摸屏式的液晶显示器(LCD),该液晶显示器可使得用户能够与计算机终端10(或移动设备)的用户界面进行交互。
在上述运行环境下,本申请提供了如图2所示的显影方法,图2是根据本发明实施例1的显影方法的流程图,如图2所示,该方法包括:
步骤S202,获取待显影基材中目标区域的第一光刻胶参数,其中,待显影基材表面涂覆有光刻胶,第一光刻胶参数至少包括光刻胶厚度;
步骤S204,至少根据第一光刻胶参数,确定与目标区域对应的第一显影参数;
步骤S206,根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,其中,显影液输送管线用于在开启的状态下向待显影基材喷洒显影液,第一显影参数至少包括显影液的流量。
采用上述的显影方法,通过获取上述显影基材中目标区域的光刻胶参数,并根据所得的光刻胶参数进行计算得出在不同光刻胶参数对应的不同显影参数,并根据光刻胶参数与显影参数之间的一一对应关系,进而对涂覆在基材表面的光刻胶根据所得的对应关系控制喷洒显影液,使得喷洒的显影液能够实现对目标区域的光刻胶进行精准的显影,避免涂覆有光刻胶的基材表面显影过度或显影不足,从而得到线宽均匀的光刻图形。
待显影基材上涂覆有光刻胶,其中,由于光刻胶具有正胶和负胶的不同类型,当待显影基材上涂覆有正胶的情况下,正胶显影液去除的是曝光过的部分光刻胶;当待显影基材上涂覆有负胶的情况下,负胶显影液去除的是没有曝光的显影液区域。
上述待显影基材上涂覆光刻胶之后,可以根据检测设备量测涂覆在待显影基材上的光刻胶参数。具体地,该光刻胶参数可以是光刻胶的厚度,在上述检测设备量测得到待显影基材上的光刻胶厚度之后,存储该光刻胶厚度,用于后续显影过程中,能够根据量测到的该光刻胶厚度,对应得到在该光刻胶厚度下待显影基材上所需的显影液参数。该显影液参数可以是显影液的用量,进而根据该显影液的用量控制喷洒显影液至显影基材。
在根据显影液的液量控制喷洒显影液至待显影基材时,可以采用多个显影输送管线将位于显影槽中的显影液输送至待显影基材。且上述显影输送管线上设置有阀门,该阀门用于控制显影输送管线的开启和关断,以通过开启至少一个显影输送管线,实现控制流经显影输送管线中的显影液流量的目的。
其中,在喷洒显影液至待显影基材的过程中,首先确定待显影基材中的待喷洒的区域为目标区域,然后获取检测设备量测之后存储的对应于该目标区域的光刻胶参数,将该光刻胶参数作为第一光刻胶参数,进而根据第一光刻胶参数计算得到在该第一光刻胶参数下,目标区域所需的显影参数,则该显影参数为第一显影参数,即第一光刻胶参数与第一显影参数一一对应。
在一些可选的实施方式中,根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,还包括:根据第一显影参数,控制至少一个阀门的开启时间,其中,第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
上述实施方式中,根据第一显影参数控制至少一个阀门的开启时间,以实现控制输送显影液的流量,另外通过控制喷洒显影液的时间进一步控制输送显影液至目标区域的流量,使得喷洒至目标区域的显影液能够将目标区域的光刻胶完全显影,避免造成目标区域光刻胶的显影不足或过度显影。
示例性地,上述第一光刻胶参数可以是该目标区域的光刻胶厚度,该第一显影参数可以是该目标区域的显影液流量。在获取上述光刻胶厚度之后,计算并确定出输送显影液的液量,将显影输送管线上的显影液流量作为第一显影参数,根据第一显影参数,控制多个控制显影输送管线上的多个阀门的开关状态,以及控制阀门开启状态下通过对应控制显影输送管线的显影液的喷洒时间,从而根据第一光刻胶参数和第一显影参数喷洒显影液至待显影基材的目标区域,以实现待显影基材的目标区域完全显影。
在一些可选的实施方式中,至少根据第一光刻胶参数,确定与目标区域对应的第一显影参数,包括:获取多个预设关系,其中,多个预设关系用于表征不同的多个光刻胶参数与多个显影参数之间的一一对应关系;从多个预设关系中确认与第一光刻胶参数对应的第一预设关系;确定与第一预设关系对应的显影参数为目标区域对应的第一显影参数。
具体地,在待显影基材上喷洒显影液时,可以分区域进行多次喷洒。因此,在待显影基材的表面涂覆光刻胶之后,首先将待显影基材划分为多个区域,进而通过检测设备检测上述待显影基材中多个区域对应的光刻胶参数,并记录上述多个光刻胶参数,然后通过数据处理根据多个光刻胶参数得到多个显影参数,该光刻胶参数与显影参数一一对应,使得一个光刻胶参数能够与一个显影参数形成一个预设关系,从而能够得到光刻胶参数与显影参数之间的多个预设关系。
其中,在喷洒显影液至待显影基材时,选择上述待显影基材中至少一个区域作为目标区域,获取该目标区域的第一光刻胶参数,从上述多个预设关系中获取与该第一光刻胶参数对应的第一预设关系,从而得到与上述第一光刻胶参数对应的第一次显影参数,进而根据第一显影参数控制多个显影液输送管线上阀门的开启或关断,以确定喷洒显影液的显影液输送管线,并根据阀门开启状态下通过对应控制显影输送管线的显影液的喷洒时间,控制流经显影液输送管线并喷洒至目标区域中显影液的用量。
其中,阀门可以与控制单元电连接,根据第一显影参数控制多个显影液输送管线上的阀门时,控制单元首先接收到数据处理得到的第一显影参数,然后根据第一显影参数调节位于多个显影液输送管线上的至少一个阀门开启或关闭。
在一些可选的实施方式中,采用多个具有不同孔径大小的显影液输送管线。通过调节显影液输送管线上至少一个阀门开启,从而通过开启不同孔径大小的显影液输送管线,控制喷洒至目标区域的显影液的用量。
在一些可选的实施方式中,光刻胶参数还包括目标区域的面积。
上述实施方式中,将待显影基材划分至多个子区域时,其每个子区域的光刻胶参数至少包括光刻胶厚度以及与该子区域的面积对应的光刻胶面积,进而根据光刻胶厚度和该子区域的面积确定多个预设关系,得到多个显影参数,上述多个子区域对应的多个光刻胶参数和多个显影参数形成多个预设关系,并存储上述多个预设关系。
其中,确定上述子区域中的其中一个待喷洒显影液的子区域为目标区域,该目标区域对应的光刻胶参数作为第一光刻胶参数,该目标区域对应的显影参数作为第一显影参数,则从存储的多个预设关系中获取与该目标区域对应的一个预设关系,并根据上该预设关系确定该目标区域的第一显影参数。
在一些可选的实施方式中,获取多个预设关系的步骤包括:计算与多个预设光刻胶参数对应的多个预设显影参数,其中,预设显影参数为满足预设光刻胶参数的光刻胶被完全显影所需的显影参数,预设光刻胶参数包括预设光刻胶厚度和预设待显影面积;从多个预设光刻胶参数中确定分别与相同预设显影参数对应的多个预设光刻胶参数集合;根据多个预设光刻胶参数集合,得到多个预设光刻胶参数范围,其中,每个预设光刻胶参数范围的端点值位于不同预设光刻胶参数集合中;建立多个预设光刻胶参数范围与对应的多个预设显影参数之间的对应关系,得到多个预设关系。
上述实施方式中,待显影基材上的多个子区域中对应包括多个预设光刻胶参数,在获取每个子区域对应的预设光刻胶参数之后,为了确定每个子区域对应的预设显影参数,该实施方式中,通过计算确定得到每个预设光刻胶参数对应的预设显影参数,使得依据该预设显影参数控制喷洒显影液至待显影区域时,该显影参数对应的显影液能够使得该待显影区域的光刻胶被完全显影。具体地,记录多个待显影子区域对应的多个预设光刻胶厚度和多个预设待显影面积,得到多个预设光刻胶参数。
在得到多个预设光刻胶参数和多个预设显影参数之后,由于待显影基材中存在预设显影参数相同的多个预设显影参数,因此,从待显影基材的各子区域中选取出预设显影参数相同的部分多个子区域,并获取预设显影参数相同的部分多个子区域对应的部分多个预设光刻胶参数,各预设显影参数相同的部分多个子区域对应的部分多个预设光刻胶参数构成预设光刻胶参数集合,则该待显影基材中可以包括多个预设光刻胶参数集合。
根据预设光刻胶参数集合,确定每个预设光刻胶参数范围,每个预设光刻胶参数集合中的点值均位于不同预设光刻胶参数范围中。然后将多个预设光刻胶参数范围与对应的多个预设显影参数进行对应,以建立形成多个预设光刻胶参数范围和多个预设显影参数一一对应的多个预设关系,并在对待显影基材中的目标区域喷洒显影液时,根据目标区域对应的光刻胶参数所在范围与显影参数之间的对应的关系,获取显影参数,再根据该显影参数控制显影液输送管线上的阀门,以喷洒显影液至目标区域,使得目标区域的光刻胶被完全显影。
在一些可选的实施方式中,根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,包括:从多个预设范围中确定显影液的流量满足的目标预设范围,其中,多个显影液输送管线具有与多个预设范围对应的开关状态;根据目标预设范围,确定多个显影液输送管线的目标开关状态;控制多个显影液输送管线满足目标开关状态。
上述实施方式中,得到待显影基材中的目标区域的第一显影参数之后,基于第一显影参数控制输送显影液的显影液输送管线,以实现控制喷洒至目标区域的显影液的液量,其中,可以通过控制显影液输送管线上的至少一个阀门的开启和闭合控制输送显影液的管线数量,以控制显影液输送管线中的显影液流量。
具体地,待显影基材中的各个子区域对应的每个显影参数对应显影液输送管线的一个显影液流量,则上述待显影基材中存在多个显影液流量,将每个显影液流量作为喷洒至各子区域的显影液流量的预设范围,多个显影液流量对应多个预设范围。则在喷洒显影液至显影基材的目标区域时,获取能使目标区域的光刻胶完全显影时对应的显影液流量,将该显影液流量作为目标预设范围,进而控制显影液输送管线上的阀门,以确定多个显影液输送管线的目标开关状态,使得开启阀门的显影液输送管线能够满足目标预设范围,并基于显影液输送管线的目标开关状态喷洒显影液至目标区域,以使目标区域的光刻胶被完全显影。
在一些可选的实施方式中,多个显影液输送管线包括第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线,从多个预设范围中确定显影液的流量满足的目标预设范围,包括:获取第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围,其中,第一显影液输送管线和第二显影液输送管线具有与第一预设范围对应的开启状态,第三显影液输送管线具有与第一预设范围对应的关断状态,第一显影液输送管线和第三显影液输送管线具有与第二预设范围对应的开启状态,第二显影液输送管线具有与第二预设范围对应的关断状态,第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线具有与第三预设范围对应的开启状态;从第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围中确定显影液的流量满足的目标预设范围。
上述实施方式中,确定实际用于喷洒显影液的显影液输送管线包括第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线,在上述待显影基材中的目标区域对应的光刻胶被完全显影时,所需的显影液流量可以位于第一预设范围、第二预设范围以及第三预设范围内,可以通过控制第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线以使目标区域所需的显影液流量位于第一预设范围、第二预设范围以及第三预设范围内,进而基于第一预设范围、第二预设范围以及第三预设范围内的显影液流量使得目标区域的光刻胶被完全显影。
其中,确定位于待显影基材中的目标区域之后,首先获取第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围,然后可以通过获取目标区域的显影参数控制第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围,以实现从第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围中确定喷洒至目标区域的显影液的流量,以使喷洒至目标区域的显影液流量能够将目标区域的光刻胶被完全显影,从而满足目标预设范围。
具体地,在第一显影输送管道和第二显影输送管道上的阀门开启,第三显影液输送管线上的阀门关闭时,待显影基材中的目标区域所需的显影液流量位于第一预设范围中,根据该第一预设范围内的显影液流量喷洒显影液至目标区域,以使目标区域的光刻胶被完全显影;或第一显影液输送管线和第三显影液输送管线上的阀门开启,第二显影液输送管线上的阀门关闭时,待显影基材中的目标区域所需的显影液流量位于第二预设范围中,根据该第二预设范围内的显影液流量喷洒显影液至目标区域,以使目标区域的光刻胶被完全显影;或第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线上的阀门开启时,待显影基材中的目标区域所需的显影液流量位于第三预设范围中,根据该第三预设范围内的显影液流量喷洒显影液至目标区域,以使目标区域的光刻胶被完全显影。
在一些可选的实施方式中,根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,还包括:根据第一显影参数,控制至少一个阀门的开启时间,其中,第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
上述实施方式中,根据第一显影参数控制至少一个阀门的开启时间,以实现控制输送显影液的流量,另外通过控制喷洒显影液的时间进一步控制输送显影液至目标区域的流量,使得喷洒至目标区域的显影液能够将目标区域的光刻胶完全显影,避免造成目标区域光刻胶的显影不足或过度显影。
实施例2
根据本发明实施例,还提供了一种用于实施上述显影方法的显影装置,图3是根据本发明实施例2中的显影装置的结构框图,该装置包括:显影液输送装置302和控制单元304,下面对该装置进行详细说明:
显影液输送装置302,包括多个显影液输送管线,显影液输送管线上设置有阀门,上述显影液输送装置用于在阀门开启状态下向待显影基材喷洒显影液;
控制单元304,与显影液输送装置电连接,用于执行上述的显影方法,以控制显影液输送装置向待显影基材中的目标区域喷洒显影液。
采用上述的显影装置,通过控制单元获取上述显影基材中目标区域的光刻胶参数,并根据所得的光刻胶参数进行计算得出在不同光刻胶参数对应的不同显影参数,并根据光刻胶参数与显影参数之间的一一对应关系,进而对涂覆在基材表面的光刻胶根据所得的对应关系控制显影液输送装置喷洒的显影液用量,使得喷洒的显影液能够实现对目标区域的光刻胶进行精准的显影,避免涂覆有光刻胶的基材表面显影过度或显影不足,从而得到线宽均匀的光刻图形。
上述显影液输送装置包括:多个显影液输送管线,用于输送显影液,显影液输送管线上设置有喷嘴;多个阀门,一一对应地设置于多个显影液输送管线上,用于控制多个显影液输送管线的开启与关断。
上述实施方式中,多个显影液输送管线与存放有显影液的显影槽连接,用于输送显影槽中的显影液,在上述显影液输送管线的另一端连接有喷嘴,该喷嘴用于分散输送显影液输送管线中的显影液流量,以使显影液输送管线出口处的显影液能够均匀地喷洒至显影基材表面;进一步可选地,上述显影液输送管线具有伸缩装置,以使显影液输送管线能够调节自身与显影基材中目标区域的位置,实现精准喷洒显影液至目标区域,另外,位于显影液输送管线上的喷嘴与显影基材之间具有调节结构,以实现调节喷嘴与显影基材之间的高度和角度的目的,从而在喷洒显影液至显影基材中的目标区域时,能够通过调节喷嘴与显影基材之间的高度以及角度,以防止喷洒至显影基材中目标区域的显影液溅射,造成显影的不均匀。
在一些可选的实施方式中,上述控制单元304包括第一控制模块和第二控制模块,其中:第一控制模块,与显影液输送装置电连接,用于根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,第一显影参数至少包括显影液的流量;第二控制模块,与显影液输送装置电连接,用于根据第一显影参数,控制至少一个阀门的开启时间,其中,第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
示例性,上述驱动组件可以是压力驱动组件,该压力驱动组件与控制单元电连接,该控制单元用于输送控制信号至压力驱动组件,该压力驱动组件通过接收到的控制信号控制显影液输送装置向待显影基材中的目标区域喷洒显影液的压力,同时控制单元还控制显影液输送管线上的阀门的开关状态,使得从显影液输送管线中输送的显影液满足目标区域的显影参数,从而喷洒显影液至目标区域,以使目标区域的光刻胶被完全显影。
在一些可选的实施方式中,设置于不同显影液输送管线上的喷嘴具有不同喷射孔径。上述实施方式中,可以根据待显影基材中的不同位置处的光刻胶参数调节喷洒对应目标区域的喷嘴的孔径大小,使得能够通过喷嘴的孔径进一步调节喷洒显影液的流量,以使各个目标区域的光刻胶被完全显影,从而在显影之后得到的光刻图形具有均匀的线宽。
上述本发明实施例序号仅仅为了描述,不代表实施例的优劣。
在本发明的上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
在本申请所提供的几个实施例中,应该理解到,所揭露的技术内容,可通过其它的方式实现。其中,以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的,例如单元的划分,仅仅为一种逻辑功能划分,实际实现时可以有另外的划分方式,例如多个单元或组件可以结合或者可以集成到另一个系统,或一些特征可以忽略,或不执行。另一点,所显示或讨论的相互之间的耦合或直接耦合或通信连接可以是通过一些接口,单元或模块的间接耦合或通信连接,可以是电性或其它的形式。
作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的,作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元,即可以位于一个地方,或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部单元来实现本实施例方案的目的。
另外,在本发明各个实施例中的各功能单元可以集成在一个处理单元中,也可以是各个单元单独物理存在,也可以两个或两个以上单元集成在一个单元中。上述集成的单元既可以采用硬件的形式实现,也可以采用软件功能单元的形式实现。
集成的单元如果以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时,可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解,本发明的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来,该计算机软件产品存储在一个存储介质中,包括若干指令用以使得一台计算机设备(可为个人计算机、服务器或者网络设备等)执行本发明各个实施例方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括:U盘、只读存储器(ROM,Read-Only Memory)、随机存取存储器(RAM,Random Access Memory)、移动硬盘、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
以上仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种显影方法,其特征在于,包括:
获取待显影基材中目标区域的第一光刻胶参数,其中,所述待显影基材表面涂覆有光刻胶,所述第一光刻胶参数至少包括光刻胶厚度;
至少根据所述第一光刻胶参数,确定与所述目标区域对应的第一显影参数;
根据所述第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,其中,所述显影液输送管线用于在开启的状态下向所述待显影基材喷洒显影液,所述第一显影参数至少包括显影液的流量。
2.根据权利要求1所述的显影方法,其特征在于,所述至少根据所述第一光刻胶参数,确定与所述目标区域对应的第一显影参数,包括:
获取多个预设关系,其中,所述多个预设关系用于表征不同的多个光刻胶参数与多个显影参数之间的一一对应关系;
从所述多个预设关系中确认与所述第一光刻胶参数对应的第一预设关系;
确定与所述第一预设关系对应的所述显影参数为所述目标区域对应的第一显影参数。
3.根据权利要求2所述的显影方法,其特征在于,所述光刻胶参数还包括所述目标区域的面积。
4.根据权利要求3所述的显影方法,其特征在于,所述获取多个预设关系的步骤包括:
计算与多个预设光刻胶参数对应的多个预设显影参数,其中,所述预设显影参数为满足所述预设光刻胶参数的光刻胶被完全显影所需的显影参数,所述预设光刻胶参数包括预设光刻胶厚度和预设待显影面积;
从所述多个预设光刻胶参数中确定分别与相同的所述预设显影参数对应的多个预设光刻胶参数集合;
根据所述多个预设光刻胶参数集合,得到多个预设光刻胶参数范围,其中,每个所述预设光刻胶参数范围的端点值位于不同所述预设光刻胶参数集合中;
建立所述多个预设光刻胶参数范围与对应的所述多个预设显影参数之间的对应关系,得到所述多个预设关系。
5.根据权利要求1所述的显影方法,其特征在于,所述根据所述第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,包括:
从多个预设范围中确定所述显影液的流量满足的目标预设范围,其中,所述多个显影液输送管线具有与所述多个预设范围对应的开关状态;
根据所述目标预设范围,确定所述多个显影液输送管线的目标开关状态;
控制所述多个显影液输送管线满足所述目标开关状态。
6.根据权利要求5所述的显影方法,其特征在于,所述多个显影液输送管线包括第一显影液输送管线、第二显影液输送管线和第三显影液输送管线,所述从多个预设范围中确定所述显影液的流量满足的目标预设范围,包括:
获取第一预设范围、第二预设范围和第三预设范围,其中,所述第一显影液输送管线和所述第二显影液输送管线具有与所述第一预设范围对应的开启状态,所述第三显影液输送管线具有与所述第一预设范围对应的关断状态,所述第一显影液输送管线和所述第三显影液输送管线具有与所述第二预设范围对应的开启状态,所述第二显影液输送管线具有与所述第二预设范围对应的关断状态,所述第一显影液输送管线、所述第二显影液输送管线和所述第三显影液输送管线具有与所述第三预设范围对应的开启状态;
从所述第一预设范围、所述第二预设范围和所述第三预设范围中确定所述显影液的流量满足的目标预设范围。
7.根据权利要求1所述的显影方法,其特征在于,所述根据所述第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个阀门开启,还包括:
根据所述第一显影参数,控制所述至少一个阀门的开启时间,其中,所述第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
8.一种显影装置,其特征在于,包括:
显影液输送装置,包括多个显影液输送管线,所述显影液输送管线上设置有阀门,所述显影液输送装置用于在所述阀门开启状态下向待显影基材喷洒显影液;
控制单元,与所述显影液输送装置电连接,用于执行权利要求1至7中任一项所述的显影方法,以控制所述显影液输送装置向所述待显影基材中的目标区域喷洒所述显影液。
9.根据权利要求8所述的显影装置,其特征在于,所述控制单元包括:
第一控制模块,与所述显影液输送装置电连接,用于根据第一显影参数,控制多个显影液输送管线上至少一个所述阀门开启,所述第一显影参数至少包括显影液的流量;
第二控制模块,与所述显影液输送装置电连接,用于根据所述第一显影参数,控制所述至少一个阀门的开启时间,其中,所述第一显影参数还包括显影液的喷洒时间。
10.根据权利要求9所述的显影装置,其特征在于,设置于不同所述显影液输送管线上的喷嘴具有不同喷射孔径。
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JPH02146720A (ja) * 1988-07-29 1990-06-05 Tokyo Electron Ltd 処理方法および処理装置
CN112748646A (zh) * 2019-10-31 2021-05-04 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 一种厚膜光刻胶显影工艺

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