CN115151012A - 一种等离子发生器 - Google Patents

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    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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Abstract

本发明公开了一种等离子发生器,包括壳体和电极组件,所述壳体内包括相连通的气腔和电离腔,所述电极组件安装于所述电离腔中;所述壳体上设有连通所述气腔的进气接口以及连通所述电离腔的长孔。本等离子发生器的结构简单紧凑,利于生产加工,整体体积可设计得更小,重量更轻,可以灵活地处理各种产品并且容易集成至机械手臂或自动化生产线上;通过在壳体上开设长孔以喷出长条状的等离子体射流,有效增大了处理面积,大大提高了处理效率,同时具有更均匀的处理效果。

Description

一种等离子发生器
技术领域
本发明涉及等离子清洗设备技术领域,尤其涉及一种等离子发生器。
背景技术
目前已知的常压等离子发生器主要是直流喷枪、旋转喷枪和宽幅等离子发生器三种,直流喷枪体积小,结构紧凑,但处理范围有限,喷射出的等离子体范围仅在0~8mm;旋转喷枪虽可在增大一定处理范围,但是随着处理范围的增大处理效果逐渐减小,且体积会大幅增大;宽幅等离子发生器处理面积大,但体积较大,处理产品不够灵活,不利于处理一些中小型产品的处理。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是:提供一种新型结构的等离子发生器。
为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案为:一种等离子发生器,包括壳体和电极组件,所述壳体内包括相连通的气腔和电离腔,所述电极组件安装于所述电离腔中;所述壳体上设有连通所述气腔的进气接口以及连通所述电离腔的长孔。
本发明的有益效果在于:本等离子发生器的结构简单紧凑,利于生产加工,整体体积可设计得更小,重量更轻,可以灵活地处理各种产品并且容易集成至机械手臂或自动化生产线上;通过在壳体上开设长孔以喷出长条状的等离子体射流,有效增大了处理面积,大大提高了处理效率,同时具有更均匀的处理效果。
附图说明
图1为本发明实施例一的等离子发生器的整体结构示意图一;
图2为本发明实施例一的等离子发生器的整体结构示意图二;
图3为本发明实施例一的等离子发生器的部分结构示意图;
图4为本发明实施例一的等离子发生器的俯视图;
图5为图4中A-A的截面剖视图(逆时针旋转90°);
图6为图4中B-B的截面剖视图(旋转180°);
图7为图4中C-C的截面剖视图(旋转180°);
图8为图4中D-D的截面剖视图(顺时针旋转90°)。
标号说明:
1、壳体;11、主侧板;111、气腔;112、卡槽;113、散热槽;12、主底板;121、电离腔;122、长孔;13、上盖板;14、左侧板;15、右侧板;
2、电极组件;21、电离电极;22、侧封件;23、陶瓷介质;
3、进气接口;
4、匀气板;41、通气孔;
5、冷却水道;51、第一段;52、第二段;53、第三段;54、水管接头;55、密封圈;
6、射频同轴线连接器;
7、连接电极;71、绝缘管;
8、绝缘块。
具体实施方式
为详细说明本发明的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
请参照图1至图8,一种等离子发生器,包括壳体1和电极组件2,所述壳体1内包括相连通的气腔111和电离腔121,所述电极组件2安装于所述电离腔121中;所述壳体1上设有连通所述气腔111的进气接口3以及连通所述电离腔121的长孔122。
从上述描述可知,本发明的有益效果在于:本等离子发生器的结构简单紧凑,利于生产加工,整体体积可设计得更小,重量更轻,可以灵活地处理各种产品并且容易集成至机械手臂或自动化生产线上;通过在壳体1上开设长孔122以喷出长条状的等离子体射流,有效增大了处理面积,大大提高了处理效率,同时具有更均匀的处理效果。
进一步的,所述长孔122连通所述电离腔121的底面,所述电极组件2的外周面与所述电离腔121的底面的间距为0.5~2mm。
由上述描述可知,电极组件2与旋转颈电离腔121内周面的间距可保证在正常等离子激发状态下可以有效稳定的起弧放电,形成可使用的等离子体;通过改变放电间距,可实现等离子发生器不同的放电弧长及等离子强度和温度。
进一步的,还包括匀气板4,所述气腔111的数量为多个,相邻的两个气腔111之间通过所述匀气板4分隔开,且所述匀气板4上阵列地设有多个通气孔41,多个所述通气孔41连通相邻的两个所述气腔111。
由上述描述可知,匀气板4可使进入气腔111的气体均匀扩散,进而使得从长孔122喷出的等离子体射流更均匀,令产品表面的处理效果更均匀。
进一步的,相邻的两个所述匀气板4上的所述通气孔41的轴向交错设置。
由上述描述可知,轴向交错设置的通气孔41更易于使气腔111中的气体均匀扩散。
进一步的,所述壳体1包括相对固定设置的两个主侧板11,两个所述主侧板11相对设置的面上分别设有与所述匀气板4配合的卡槽112。
由上述描述可知,匀气板4的安装方式简单便捷,有利于提升装配效率,便于后期维护。
进一步的,所述壳体1上设有环绕的冷却水道5,所述冷却水道5连通所述壳体1的外表面形成进水口和出水口,所述进水口和所述出水口分别连接一个水管接头54。
由上述描述可知,环布的冷却水道5能够对本等离子发生器起到降温效果,保证内部零件具有良好的工作环境,从而提升产品的使用寿命。
进一步的,还包括射频同轴线连接器6和连接电极7,所述射频同轴线连接器6安装于所述壳体1的外表面上,所述连接电极7安装于所述壳体1内,且所述连接电极7一端与所述射频同轴线连接器6连接导通,另一端与所述电极组件2连接导通。
由上述描述可知,通过射频同轴线连接器6和连接电极7即可为壳体1内的电极组件2通电。
进一步的,所述壳体1内设有绝缘块8,所述绝缘块8上设有用于容纳所述连接电极7的安装腔。
由上述描述可知,绝缘块8可以大大降低漏电或侧壁放电的风险。
进一步的,所述射频同轴线连接器6与所述水管接头54的间距大于或等于10mm。
由上述描述可知,射频同轴线连接器6与水管接头54保持一定间距可以保证电源馈入安全可靠。
进一步的,所述壳体1的外表面开设有多道散热槽113。
由上述描述可知,壳体1外表面的散热槽113可以增大壳体1与空气的接触面积,从而提高散热效率。
实施例一
请参照图1至图8,本发明的实施例一为:一种等离子发生器,用于向产品表面喷涂等离子体,使产品表面具有耐磨、耐蚀、耐高温氧化、电绝缘、隔热、防辐射、减磨和密封等性能。
所述等离子发生器包括壳体1和电极组件2,所述壳体1内包括相连通的气腔111和电离腔121,所述电极组件2安装于所述电离腔121中;所述壳体1上设有连通所述气腔111的进气接口3以及连通所述电离腔121的长孔122。具体的,壳体1大致呈矩形体状,且进气接口3与电离腔121相对设置,以使等离子体具有较大的出射动力。电极组件2包括电离电极21、侧封件22以及圆筒状的陶瓷介质23;侧封件22优选为铁氟龙材质;陶瓷介质23两端分别设有一个侧封件22,两个侧封件22分别抵持电离电极21两端,以使电离电极21悬空安装于陶瓷介质23内。壳体1的底部由一个呈凹字形的主底板12组成;主底板12围成所述电离腔121,底部开设所述长孔122。本实施例中,主底板12优选为6061铝材质,表面硬质氧化处理,以便于电极组件2起弧放电。长孔122的宽度为0.5-1mm。电极组件2的长度方向平行于长孔122的长度方向,且电极组件2设于气腔111和长孔122之间,进入电离腔121的气体将沿着电极组件2的外周面分散成两股,经电离后于电极组件2远离气腔111的一侧交汇,最后从长孔122喷出。两股气体交汇时将碰撞混合,有利于使喷出的等离子体射流更均匀。
如图6所示,所述长孔122连通所述电离腔121的底面,所述电极组件2的外周面与所述电离腔121的底面的间距为0.5~2mm。容易理解的,通过控制电极组件2的外周面与电离腔121的底面的间距,即可实现等离子发生器不同的放电弧长及等离子强度和温度。
优选的,如图3所示,所述等离子发生器还包括匀气板4,所述气腔111的数量为多个,相邻的两个气腔111之间通过所述匀气板4分隔开,且所述匀气板4上阵列地设有多个通气孔41,多个所述通气孔41连通相邻的两个所述气腔111。具体的,本实施例中,气腔111和匀气板4的数量为两个,两个气腔111和一个电离腔121依次连通,远离电离腔121的一个气腔111与进气接口3连通。两个气腔111之间,以及气腔111和电离腔121之间分别通过一个匀气板4分隔开。通气孔41的轴向垂直于进气接头的轴向设置。
优选的,如图3所示,相邻的两个所述匀气板4上的所述通气孔41的轴向交错设置。容易理解的,气流穿过一个匀气板4的通气孔41后朝另一个匀气板4前进时,气流中心将与另一个匀气板4的板面碰撞,使得气流向四周扩散,从而令气腔111中的气体分布更均匀,进而令长孔122喷出的等离子体射流更均匀。
如图1和图6所示,所述壳体1包括相对固定设置的两个主侧板11、相对固定设置的主底板12和上盖板13以及相对固定设置的左侧板14和右侧板15;两个主侧板11、主底板12、上盖板13、左侧板14和右侧板15通过螺钉连接形成矩形体状的壳体1。两个主侧板11相对设置的面上分别设有与所述匀气板4配合的卡槽112。进气接头固定安装于上盖板13。
优选的,如图5至图8所示,所述壳体1上设有环绕的冷却水道5,所述冷却水道5连通所述壳体1的外表面形成进水口和出水口,所述进水口和所述出水口分别连接一个水管接头54。具体的,冷却水道5包括开设于左侧板14第一段51、开设于右侧板15的第二段52以及开设于主底板12的第三段53,第三段53的两端分别连通第一段51和第二段52,且主底板12与左侧板14的接触面以及主底板12与右侧板15的接触面上分别设有密封圈55。第一段51和第二段52远离主底板12的一端分别连通左侧板14和右侧板15靠近上盖板13的端面形成所述进水口和出水口。
如图5所示,所述等离子发生器还包括射频同轴线连接器6和连接电极7,所述射频同轴线连接器6安装于所述壳体1的外表面上,所述连接电极7安装于所述壳体1内,且所述连接电极7一端与所述射频同轴线连接器6连接导通,另一端与所述电极组件2连接导通。具体的,本实施例中,射频同轴线连接器6螺钉连接于上盖板13上。射频同轴线连接器6通过一铜片与连接电极7的一端连接导通,连接电极7的另一端与电离电极21螺纹连接。连接电极7优选为黄铜材质,外部套设有绝缘管71。
如图3和图5所示,优选的,所述壳体1内设有两个绝缘块8,一个所述绝缘块8上设有用于容纳所述连接电极7的安装腔。两个绝缘块8分别安装壳体1内部两侧,且两个绝缘块8的内侧轮廓对称,保证气腔111内气流左右对称分布,出气更均匀。本实施例中,绝缘块8优选为铁氟龙材质。
优选的,如图1、图3和图5所示,为了保证电源馈入准确可靠,所述射频同轴线连接器6与所述水管接头54的间距大于或等于10mm。
优选的,如图1和图2所示,所述壳体1的外表面开设有多道散热槽113,以增大壳体1与空气的接触面积,提升散热性能。本实施例中,多道散热槽113开设于主侧板11上。
综上所述,本发明提供的等离子发生器的结构简单紧凑,利于生产加工,整体体积可设计得更小,重量更轻,可以灵活地处理各种产品并且容易集成至机械手臂或自动化生产线上;通过在壳体上开设长孔以喷出长条状的等离子体射流,有效增大了处理面积,大大提高了处理效率,同时具有更均匀的处理效果。通过改变放电间距,可实现等离子发生器不同的放电弧长及等离子强度和温度。匀气板可使进入气腔的气体均匀扩散,进而使得从长孔喷出的等离子体射流更均匀,令产品表面的处理效果更均匀。环布的冷却水道能够对本等离子发生器起到降温效果,保证内部零件具有良好的工作环境,从而提升产品的使用寿命。绝缘块可以大大降低漏电或侧壁放电的风险。射频同轴线连接器与水管接头保持一定间距可以保证电源馈入安全可靠。壳体外表面的散热槽可以增大壳体与空气的接触面积,从而提高散热效率。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种等离子发生器,其特征在于:包括壳体和电极组件,所述壳体内包括相连通的气腔和电离腔,所述电极组件安装于所述电离腔中;所述壳体上设有连通所述气腔的进气接口以及连通所述电离腔的长孔。
2.根据权利要求1所述的等离子发生器,其特征在于:所述长孔连通所述电离腔的底面,所述电极组件的外周面与所述电离腔的底面的间距为0.5~2mm。
3.根据权利要求1所述的等离子发生器,其特征在于:还包括匀气板,所述气腔的数量为多个,相邻的两个气腔之间通过所述匀气板分隔开,且所述匀气板上阵列地设有多个通气孔,多个所述通气孔连通相邻的两个所述气腔。
4.根据权利要求3所述的等离子发生器,其特征在于:相邻的两个所述匀气板上的所述通气孔的轴向交错设置。
5.根据权利要求3所述的等离子发生器,其特征在于:所述壳体包括相对固定设置的两个主侧板,两个所述主侧板相对设置的面上分别设有与所述匀气板配合的卡槽。
6.根据权利要求1所述的等离子发生器,其特征在于:所述壳体上设有环绕的冷却水道,所述冷却水道连通所述壳体的外表面形成进水口和出水口,所述进水口和所述出水口分别连接一个水管接头。
7.根据权利要求6所述的等离子发生器,其特征在于:还包括射频同轴线连接器和连接电极,所述射频同轴线连接器安装于所述壳体的外表面上,所述连接电极安装于所述壳体内,且所述连接电极一端与所述射频同轴线连接器连接导通,另一端与所述电极组件连接导通。
8.根据权利要求7所述的等离子发生器,其特征在于:所述壳体内设有绝缘块,所述绝缘块上设有用于容纳所述连接电极的安装腔。
9.根据权利要求7所述的等离子发生器,其特征在于:所述射频同轴线连接器与所述水管接头的间距大于或等于10mm。
10.根据权利要求1所述的等离子发生器,其特征在于:所述壳体的外表面开设有多道散热槽。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN200947700Y (zh) * 2006-04-10 2007-09-12 徐州燃烧控制研究院有限公司 等离子发生器
CN106572585A (zh) * 2016-10-19 2017-04-19 博奥生物集团有限公司 一种等离子体发生器
CN107801288A (zh) * 2017-11-21 2018-03-13 深圳市诚峰智造有限公司 宽幅等离子表面处理装置
US20200187342A1 (en) * 2017-08-16 2020-06-11 DBD Plasma GmbH Plasma generator module
CN111341639A (zh) * 2020-04-07 2020-06-26 深圳市诚峰智造有限公司 手持式等离子处理设备

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN200947700Y (zh) * 2006-04-10 2007-09-12 徐州燃烧控制研究院有限公司 等离子发生器
CN106572585A (zh) * 2016-10-19 2017-04-19 博奥生物集团有限公司 一种等离子体发生器
US20200187342A1 (en) * 2017-08-16 2020-06-11 DBD Plasma GmbH Plasma generator module
CN107801288A (zh) * 2017-11-21 2018-03-13 深圳市诚峰智造有限公司 宽幅等离子表面处理装置
CN111341639A (zh) * 2020-04-07 2020-06-26 深圳市诚峰智造有限公司 手持式等离子处理设备

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