CN115101687A - 一种显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例公开一种显示面板及显示装置。在一具体实施方式中，该显示面板包括阵列排布的第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，所述显示面板包括衬底及在所述衬底上层叠设置的驱动电路层、发光功能层和封装层，所述发光功能层包括像素界定层、由所述像素界定层限定的间隔排布的阳极、覆盖所述像素界定层及所述阳极的发光层及覆盖所述发光层的阴极，所述发光层包括层叠设置的第一发光层、电荷产生层和第二发光层，其中，所述电荷产生层设置为间隔排布，每一所述电荷产生层在所述衬底上的正投影对应一所述阳极在所述衬底上的正投影。

Description

一种显示面板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域。更具体地，涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

近年来，AR(Augmented Reality)/VR(Virtual Reality)技术趋于成熟，得到消费市场和制造业越来越多的重视，市场研究机构HIS公司预测，2025年AR/VR的市场份额有望超过1000亿美元。有机发光二极管微显示器(Micro-OLED)是以单晶硅(mono-silicon)集成电路作为背板、顶发光有机发光二极管(Organic Light Emitted Transistor，OLED)器件作为光源的微型有机发光二极管显示器，具有体积小、重量轻、对比度高、响应速度快和功耗低等优点，有望成为下一代移动显示终端。

目前，硅基微显示器叠层(tandem)结构的有机发光层和电荷产生层(CGL)均为使用open mask整面蒸镀，通过像素界定层限定阳极区域，进而限定电场范围，来界定像素的发光区域，但由于穿刺、漏电等问题，导致像素界定层覆盖阳极的范围也有发光现象，甚至相邻子像素相互漏电，导致模组色域减小。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示面板及显示装置，以解决已有技术存在的问题中的至少一个。

为达到上述目的，本发明采用下述技术方案：

本发明第一方面提供了一种显示面板，包括阵列排布的第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，

所述显示面板包括衬底及在所述衬底上层叠设置的驱动电路层、发光功能层和封装层，所述发光功能层包括像素界定层、由所述像素界定层限定的间隔排布的阳极、覆盖所述像素界定层及所述阳极的发光层及覆盖所述发光层的阴极，所述发光层包括层叠设置的第一发光层、电荷产生层和第二发光层，其中，所述电荷产生层设置为间隔排布，每一所述电荷产生层在所述衬底上的正投影对应一所述阳极在所述衬底上的正投影。

本发明第一方面提供的显示面板，通过电荷产生层间隔排布的设计，保证了子像素阴极、电荷产生层及阳极之间的电场为竖直电场，解决了大视角或斜视角下的色偏问题和低灰阶偏色的问题，避免了不同颜色子像素之间的漏电造成的色域降低，有效提升显示面板的显示效果。

可选地，每一所述电荷产生层在所述衬底上的正投影与一所述阳极在所述衬底上的正投影重合。

可选地，所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素中的至少一种子像素的相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素。

可选地，所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素均为相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素。

可选地，相邻的相同颜色子像素的电荷产生层是连续的。通过改变子像素的排布方式并将相邻的相同颜色子像素的电荷产生层连续设置，增大了制备电荷产生层时的蒸镀开口面积，降低了工艺难度，进而提成了显示面板的蒸镀良率。

可选地，所述显示面板为微型有机发光二极管显示面板。

可选地，所述显示面板还包括设置在所述封装层的远离所述衬底一侧的彩膜层，所述彩膜层包括对应第一颜色子像素的第一颜色滤光层、对应第二颜色子像素的第二颜色滤光层和对应第三颜色子像素的第三颜色滤光层。

可选地，所述发光层为白光发光层；

所述第一发光层为黄光发光层，所述第二发光层为蓝光发光层。

本发明第二方面提供了一种显示装置，包括本发明第一方面提供的显示面板。

本发明的有益效果如下：

本发明所述技术方案，通过电荷产生层间隔排布的设计，保证了子像素阴极、电荷产生层及阳极之间的电场为竖直电场，解决了大视角或斜视角下的色偏问题和低灰阶偏色的问题，避免了不同颜色子像素之间的漏电造成的色域降低，有效提升显示面板的显示效果。

附图说明

下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步详细的说明。

图1示出已有技术中显示面板的发光层的层结构示意图。

图2示出已有技术中显示面板的发光层的修正模型示意图。

图3示出本发明的一个实施例所述的显示面板的结构示意图。

图4示出已有技术中显示面板的俯视图。

图5示出本发明的一个实施例提供的一种显示面板的子像素排布示意图。

图6示出本发明的又一实施例所述显示面板的结构示意图。

图7示出本发明的又一实施例所述显示面板的结构示意图。

图8示出本发明的一个实施例提供的显示面板沿ST切开的剖面图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明，下面结合实施例和附图对本发明做进一步的说明。附图中相似的部件以相同的附图标记进行表示。本领域技术人员应当理解，下面所具体描述的内容是说明性的而非限制性的，不应以此限制本发明的保护范围。

本发明中所述的“在……上”、“在……上形成”和“设置在……上”可以表示一层直接形成或设置在另一层上，也可以表示一层间接形成或设置在另一层上，即两层之间还存在其它的层。

需要说明的是，虽然术语“第一”、“第二”等可以在此用于描述各种部件、构件、元件、区域、层和/或部分，但是这些部件、构件、元件、区域、层和/或部分不应受到这些术语限制。而是，这些术语用于将一个部件、构件、元件、区域、层和/或部分与另一个相区分。因而，例如，下面讨论的第一部件、第一构件、第一元件、第一区域、第一层和/或第一部分可以被称为第二部件、第二构件、第二元件、第二区域、第二层和/或第二部分，而不背离本发明的教导。

在本发明中，除非另有说明，所采用的术语“同层设置”指的是两个层、部件、构件、元件或部分可以通过相同制备工艺(例如构图工艺等)形成，并且，这两个层、部件、构件、元件或部分一般由相同的材料形成。例如两个或更多个功能层同层设置指的是这些同层设置的功能层可以采用相同的材料层并利用相同制备工艺形成，从而可以简化显示基板的制备工艺。

在本发明中，除非另有说明，表述“构图工艺”一般包括光刻胶的涂布、曝光、显影、刻蚀、光刻胶的剥离等步骤。表述“一次构图工艺”意指使用一块掩模板形成图案化的层、部件、构件等的工艺。

如图1所示，为目前现有的显示面板的叠层(tandem)结构，包括依次层叠设置的阳极105、像素界定层104、发光层103、阴极102和彩膜层101；其中，

阳极105经过刻蚀后形成与子像素(sub pixel)对应的图案化图形，边缘由像素界定层104覆盖，由于像素界定层104(PDL)绝缘，阳极105被其覆盖的区域无电场，未被像素界定层104覆盖的区域与阴极102相互作用形成电场；

所述发光层103用于在电场作用下散发白光；包括依次层叠设置的第一发光层、第二发光层以及设置于两发光层之间的电荷产生层，即图1中发光层103包括的三层膜层结构中，位于中间的电荷产生层下方为第一发光层、上方为第二发光层，所述电荷产生层(Charge Generator Layer，CGL)同时起到第一发光层的阴极以及第二发光层的阳极的作用，其中所述第一发光层为黄光发光层，所述第二发光层为蓝光发光层。

然而，在实际使用中，发明人发现，由于硅基微显示器叠层结构在制备时需在平坦化层上方沉积阳极层金属并图案化形成阳极105，阳极105为间隔排布，为进一步限定阳极105的区域，需设置像素界定层104覆盖所述阳极105，由于阳极105之间存在隔断，导致用以限定阳极105区域的像素界定层104和设置在所述像素界定层104上方的发光层103不可避免会形成DOW(Dig On Wafer，挖掘晶圆)坑状的形状，从而导致形成在发光层103之上的阴极102并不是平坦的，而是部分呈弧形且在凹陷区域形成有尖刺的。

如图2所示，为根据已有技术中的叠层结构得出的修正模型，可以看出，阴极102部分呈弧形并且在DOW区域形成有尖刺，导致部分阴极102和电荷发生层的距离变短，由于电流会优先选择距离短电阻小的路径，所以MN和PQ区域的电场比NP区域的电场更大，从而造成发光层103的电荷发生层与阴极102之间的电场实际为非竖直电场即斜向电场，应该被像素界定层104覆盖的区域对应的阳极105与阴极102之间也存在电场，这会引发以下问题：

1、由于发光层的发光面积扩大到像素界定层投影区域，大视角或斜视角下会发生漏光，引起色偏问题；

2、第二发光层的发光面积扩大，在相同电流下，电流密度减小，从而导致低灰阶情况下第二发光层起亮电压高，引起低灰阶偏黄，高灰阶调白平衡时第二发光层的发光亮度不够等gamma调试问题；

3、由于电荷产生层为整面蒸镀，各个子像素之间会发生漏电，导致在需点亮单个子像素时，隔壁不同色的子像素也被电亮，导致色域降低。

针对上述情况，发明人经过对显示基板的反复拆解和试验后提出了一种解决办法，将整面形成的电荷产生层改为间隔设置，即，在例如图2中，将电荷产生层的MN和PQ段去除，只留下与阳极对应的NP段。基于该设计思路，如图3所示，本发明的一个实施例提供了一种显示面板，包括：

阵列排布的红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素，所述显示面板包括衬底及在所述衬底上层叠设置的驱动电路层、发光功能层和封装层，所述发光功能层包括像素界定层204、由所述像素界定层204限定的间隔排布的阳极205、覆盖所述像素界定层204及所述阳极205的发光层203及覆盖所述发光层的阴极202，所述发光层203包括层叠设置的第一发光层2033、电荷产生层2032和第二发光层2031，其中，所述电荷产生层2032设置为间隔排布，每一所述电荷产生层2032在所述衬底上的正投影对应一所述阳极205在所述衬底上的正投影。其中，衬底、驱动电路层和封装层未示出，可理解的是，衬底应位于最下方；驱动电路层应位于阳极205下方，在衬底与阳极205之间；图3中还示出显示面板包括依次层叠设置在第二发光层2031上的阴极202和彩膜层201，封装层应位于阴极202与彩膜层201之间。

可以理解的是，每一个子像素包括一个阳极205，所有阳极205都是单独设置、彼此独立的。

所述每一所述电荷产生层2032在所述衬底上的正投影对应一所述阳极105在所述衬底上的正投影包括电荷产生层2032与阳极205在衬底上的正投影存在交叠的情况，例如对于如图3所示的电荷产生层2032与阳极205一一对应的情况，可以一电荷产生层2032在衬底上的正投影覆盖一阳极205，也可以一阳极205在衬底上的正投影覆盖一电荷产生层2032在衬底上的正投影，也可以一电荷产生层2032在衬底上的正投影与一阳极205在衬底上的正投影重合。

本实施例针对已有技术中存在的发光层色偏问题、发光亮度问题和不同颜色子像素之间的漏电问题，通过将所述电荷产生层间隔排布的设计，保证了子像素的阴极、电荷产生层及阳极之间的电场为竖直电场，解决了大视角或斜视角下的色偏问题和低灰阶偏色的问题，避免了不同颜色子像素之间的漏电现象造成的色域降低，有效提升显示面板的显示效果。

示例性的，在本实施例中，可通过精细金属掩膜板(FMM)对所述电荷产生层图案化，使每一所述电荷产生层在衬底上的正投影对应一阳极在所述衬底上的正投影，解决已有技术中相邻不同颜色子像素之间的漏电问题，进一步解决由于阳极存在间隔造成的阴极与电荷产生层不平坦进而产生的非竖直电场问题。

在一种可能的实现方式中，每一所述电荷产生层2032在所述衬底上的正投影与一所述阳极205在所述衬底上的正投影重合。

进一步，发光层需在蒸镀腔中制备，只能利用精细金属掩膜板(fine metal mask，FMM)进行蒸镀制备，不能采用刻蚀工艺制备。基于此，若各个颜色的子像素分散排布，例如如图4所示，红色子像素1、绿色子像素2和蓝色子像素3周围均无同颜色子像素，这对于例如硅基微显产品等高显示分辨率(PPI)显示产品而言，蒸镀发光层的PPI过高，例如要达到3000PPI以上，利用精细金属掩膜板进行蒸镀制备的工艺难以达到。

为克服上述问题，在一种可能的实现方式中，发明人对子像素的排布方式进行调整，令所述红色子像素1、所述绿色子像素2和所述蓝色子像素3中的至少一种子像素的相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素。

具体的，包括三种情况：

(1)红色子像素1的相邻子像素中存在至少一个红色子像素1；

(2)绿色子像素2的相邻子像素中存在至少一个绿色子像素2；

(3)蓝色子像素3的相邻子像素中存在至少一个蓝色子像素3。

以上，(1)、(2)、(3)至少满足一种。

进一步，在一种可能的实现方式中，所述红色子像素1、所述绿色子像素2和所述蓝色子像素3均为相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素，即(1)、(2)、(3)三种情况均满足。

在上述两种实现方式的基础上，进一步，相邻的相同颜色子像素的电荷产生层是连续的。这样，通过改变子像素的排布方式并将相邻的相同颜色子像素的电荷产生层连续设置，增大了制备电荷产生层时的蒸镀开口面积，降低了工艺难度，进而提成了显示面板的蒸镀良率。

下面通过几个具体的示例对本发明中提出的子像素排布设计及相邻的相同颜色子像素的电荷产生层设置为连续进行说明。

在一个具体示例中，发明人对图4中分散排布子像素的排列方式做出了改进，将相同颜色的子像素聚集在一起形成“岛状”像素，修改后的显示模组俯视图如图5所示，每个颜色子像素的相邻子像素中均包括两个相同颜色子像素，三角形连接的三个不同颜色子像素构成一个像素，如此仍可保持子像素排列(real RGB)，但在蒸镀制备电荷产生层时，其开口面积增大至原来的三倍，相当于蒸镀的PPI降低为原来的1/3，这大大降低了蒸镀工艺难度，提升了蒸镀良率。

需要说明的是，相同颜色子像素的电荷产生层连续设置造成的相同颜色子像素之间的漏光、漏电，其发出的光为同色光，不会造成色域降低。具体来说，在例如图5所示中，相邻的三个相同颜色子像素形成的“岛状”像素区域中的电荷产生层设置为连续，虽然在该“岛状”像素区域内部的阴极可能形成尖刺，但由于该尖刺是形成在相邻的三个相同颜色子像素形成的“岛状”像素区域内部，并不会造成前述的已有技术中的色偏问题、等gamma调试问题和色域降低问题。

在另一个具体示例中，如图6左侧所示，为一种显示面板子像素的排列方式，仅有蓝色子像素2的相邻子像素中存在相同颜色子像素，其余颜色子像素都是分散排布的，本示例将其修改为图6右侧所示的排布方式，使得所述红色子像素1、所述绿色子像素2和所述蓝色子像素3均为相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素这样，就可以通过将相邻的相同颜色子像素形成的“岛状”像素区域中的电荷产生层设置为连续来实现降低电荷产生层的制备难度。

在另一个具体示例中，如图7左侧所示，三个不同颜色的三角形子像素构成一个矩形像素，其各个颜色子像素均无相同颜色子像素相邻设置，增加了电荷产生层间隔排布的难度，本示例将其修改为如图7右侧所示的排布方式，使得所述红色子像素1、所述绿色子像素2和所述蓝色子像素3均为相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素，这样，就可以通过将相邻的相同颜色子像素形成的“岛状”像素区域中的电荷产生层设置为连续来实现降低电荷产生层的制备难度。

下面再通过一个具体示例对相邻的相同颜色子像素的电荷产生层是连续的进行说明，图8所示为图6右侧显示面板沿ST切开的剖面图，其中，两个相邻绿色子像素2对应的电荷产生层为连续的，但其与相邻的蓝色子像素3的电荷产生层为断开的。对于连续2个的电荷产生层2032，从剖面图看中间的阳极105在衬底上的投影被电荷产生层2032覆盖的投影覆盖。

在一个具体的实施例中，所述显示面板为微型有机发光二极管显示面板(MicroOrganic Light-Emitting Diode，简称Micro-OLED)。

在一种可能的实现方式中，如图3和图8所示，所述显示面板还包括设置在所述封装层的远离所述衬底一侧的彩膜层201，所述彩膜层201包括对应红色子像素的红色滤光层R、对应绿色子像素的绿色滤光层G和对应蓝色子像素的蓝色滤光层B。

在一种可能的实现方式中，为了进一步避免相邻像素初设的光相互串扰，彩膜层201还可以包括黑矩阵图案(Black Matrix，简称BM)，黑矩阵图案用于将红色滤光层R、绿色滤光层G以及蓝色滤光层B间隔开。

在一个具体的实施例中，所述发光层为白光发光层。

所述第一发光层为黄光发光层，所述第二发光层为蓝光发光层，根据光学互补原则，蓝光和黄光混在一起形成白光。

下面对本发明实施例提供的微型有机发光二极管显示面板的制备方法进行简要说明。

步骤S1、提供衬底，例如，当显示面板为柔性显示基板时，所提供的衬底可以为聚酰亚胺(PI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、热塑性聚酯(PET)等；当显示面板为刚性显示面板时，衬底200可以为玻璃、石英等刚性材料。

步骤S2、形成驱动电路层或者说薄膜晶体管层，包括：

采用构图工艺在衬底上形成有源层；在有源层上通过沉积等方式形成栅绝缘层；在栅绝缘层上采用构图工艺形成栅极；在栅极上通过沉积等方式形成层间介电层；然后，刻蚀层间介电层以形成暴露有源层的过孔。

在层间介电层中的过孔形成后，形成源极和漏极以及与源极或漏极之一电连接的信号线。

其中，有源层可以采用多晶硅和金属氧化物等材料，栅绝缘层可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料，层间介电层可以采用氧化硅、氮化硅或者氮氧化硅等无机绝缘材料。栅极材料包括铝、钛、钴等金属或者合金材料。在制备时，首先采用溅射或者蒸镀等方式形成一层栅极材料层，然后对栅极材料层进行构图工艺，以形成图案化的栅极。

可选地，在形成有源层之前，在衬底上形成阻挡层和缓冲层。例如，阻挡层和缓冲层可以整面形成在衬底上。例如，阻挡层可以采用氧化硅、氮化硅、或者氮氧化硅等无机绝缘材料，缓冲层也可以采用氧化硅、氮化硅、或者氮氧化硅等无机绝缘材料。阻挡层有利于从底部阻挡水、氧进入之后形成的OLED中。缓冲层有利于后续的材料沉积质量。

发明的实施例对各功能层的材料不做限定，各功能层的材料并不局限于上述示例。以上，完成了薄膜晶体管结构的制作。

本领域技术人员能够理解，上述薄膜晶体管以顶栅结构为例，但本发明不限于此，底栅结构也包括在本发明的范围内。

步骤S3、形成平坦化层。

具体地，沉积一层平坦化层材料，例如有机材料，厚度为1～3μm左右，覆盖上述各膜层，然后，利用构图工艺，对其进行图案化，在对应上述源极和漏极中的另一个的位置形成开孔。

步骤S4、形成发光器件层，包括：

S41：在平坦化层的开孔中沉积OLED的阳极层金属并图案化形成阳极205(阳极与源极连接)，其中，示例性的，阳极205的材料包括ITO、IZO等金属氧化物或者Ag、Al、Mo等金属或其合金；

步骤S42、利用构图工艺形成围绕阳极205的像素界定层204，具体地，沉积一层像素界定层材料，例如厚度为1～2μm左右，利用构图工艺在显示区形成像素界定层，示例性的，像素界定层的材料可以包括负性光刻胶、聚酰亚胺、环氧树脂等有机绝缘材料；

步骤S43、通过喷墨打印或者蒸镀等方式形成第一发光层2033、通过蒸镀方式形成间隔设置的电荷产生层2032，使得每一电荷产生层2032在所述衬底上的正投影对应一阳极205在衬底上的正投影，通过喷墨打印或者蒸镀等方式形成第二发光层2031，从而形成包括第一发光层2033、电荷产生层2032和第二发光层2031的发光层203，其中，第一发光层2033和第二发光层2031的材料分别为有机材料；第一发光层2031和第二发光层2033彼此通过电荷产生层2032串联形成叠层结构，示例性的，电荷产生层2032例如包括N型电荷产生层和P型电荷产生层，用于平衡载流子的输送。该N型电荷产生层可以由掺杂有诸如锂(Li)、钠(Na)、钾(K)或铯(Cs)的碱金属或诸如镁(Mg)、锶(Sr)、钡(Ba)或镭(Ra)的碱土金属(但不限于它们中的任何一种)的有机层形成；该P型电荷产生层可以由通过将具有空穴传输能力的有机基质材料与掺杂剂掺杂而获得的有机层形成。该叠层结构有利于降低发光层的电流密度、提升器件的发光效率和发光亮度，延长器件的使用寿命。

步骤S44、形成阴极202，阴极例如在OLED阵列基板上整面形成，阴极的材料可以包括Mg、Ca、Li或Al等金属或其合金，或者IZO、ZTO等金属氧化物，又或者PEDOT/PSS(聚3，4-乙烯二氧噻吩/聚苯乙烯磺酸盐)等具有导电性能有机材料。

其中，对应于各个子像素的阳极205彼此隔离、而对应于各个子像素的阴极102彼此相连。

S5、发光器件层形成后，可以形成封装层。例如，封装层为第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。

例如，第一无机封装层和第二无机封装层采用沉积等方式形成。有机封装层采用喷墨打印的方式形成。

例如，第一无机封装层和第二无机封装层可以采用氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等无机材料形成，有机封装层可以采用聚酰亚胺(PI)、环氧树脂等有机材料形成。由此，第一无机封装层，有机封装层以及第二无机封装层形成为复合封装层，该复合封装层可以对显示区的功能结构形成多重保护，具有更好的封装效果。

S6、在封装层上形状彩膜层201。

上述只是对显示面板的显示区进行举例说明，本发明的一些实施例中，根据需要，显示区和非显示区中还可以形成其他必要的功能膜层，例如在显示区中的存储电容，这些膜层可采用常规方法形成，在此不再赘述。

本发明的又一个实施例提出了一种显示装置，该显示装置包括前述实施例所述的显示面板。

需要说明的是，本实施例所述的显示装置为电致发光二极管显示装置。其中，所述显示装置可以为手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框或导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明所作的举例，而并非是对本发明的实施方式的限定，对于本领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动，这里无法对所有的实施方式予以穷举，凡是属于本发明的技术方案所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明的保护范围之列。

Claims (10)

1.一种显示面板，包括阵列排布的第一颜色子像素、第二颜色子像素和第三颜色子像素，其特征在于，所述显示面板包括衬底及在所述衬底上层叠设置的驱动电路层、发光功能层和封装层，所述发光功能层包括像素界定层、由所述像素界定层限定的间隔排布的阳极、覆盖所述像素界定层及所述阳极的发光层及覆盖所述发光层的阴极，所述发光层包括层叠设置的第一发光层、电荷产生层和第二发光层，其中，所述电荷产生层设置为间隔排布，每一所述电荷产生层在所述衬底上的正投影对应一所述阳极在所述衬底上的正投影。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，每一所述电荷产生层在所述衬底上的正投影与一所述阳极在所述衬底上的正投影重合。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素中的至少一种子像素的相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素。

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第一颜色子像素、所述第二颜色子像素和所述第三颜色子像素均为相邻子像素中存在至少一个与其颜色相同的子像素。

5.根据权利要求3或4所述的显示面板，其特征在于，相邻的相同颜色子像素的电荷产生层是连续的。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板为微型有机发光二极管显示面板。

7.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括设置在所述封装层的远离所述衬底一侧的彩膜层，所述彩膜层包括对应第一颜色子像素的第一颜色滤光层、对应第二颜色子像素的第二颜色滤光层和对应第三颜色子像素的第三颜色滤光层。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述发光层为白光发光层。

9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述第一发光层为黄光发光层，所述第二发光层为蓝光发光层。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的显示面板。

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