CN115060222A - 晶圆面型分类方法及系统 - Google Patents

晶圆面型分类方法及系统 Download PDF

Info

Publication number
CN115060222A
CN115060222A CN202210953435.2A CN202210953435A CN115060222A CN 115060222 A CN115060222 A CN 115060222A CN 202210953435 A CN202210953435 A CN 202210953435A CN 115060222 A CN115060222 A CN 115060222A
Authority
CN
China
Prior art keywords
vertical distance
wafer
curve
scanning curve
scanning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN202210953435.2A
Other languages
English (en)
Other versions
CN115060222B (zh
Inventor
向小山
郭青扬
马铁中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ongkun Vision Beijing Technology Co ltd
Original Assignee
Ongkun Vision Beijing Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ongkun Vision Beijing Technology Co ltd filed Critical Ongkun Vision Beijing Technology Co ltd
Priority to CN202210953435.2A priority Critical patent/CN115060222B/zh
Publication of CN115060222A publication Critical patent/CN115060222A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN115060222B publication Critical patent/CN115060222B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/20Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring contours or curvatures, e.g. determining profile
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B21/00Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant
    • G01B21/32Measuring arrangements or details thereof, where the measuring technique is not covered by the other groups of this subclass, unspecified or not relevant for measuring the deformation in a solid
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67271Sorting devices
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/10Measuring as part of the manufacturing process
    • H01L22/12Measuring as part of the manufacturing process for structural parameters, e.g. thickness, line width, refractive index, temperature, warp, bond strength, defects, optical inspection, electrical measurement of structural dimensions, metallurgic measurement of diffusions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/20Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

本发明公开了一种晶圆面型分类方法及系统。该方法包括:以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对晶圆的表面进行扫描,以得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线;使四条扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,计算第一扫描曲线的顶点与线段之间的第一垂直距离、第二扫描曲线的顶点与线段之间的第二垂直距离、第三扫描曲线的顶点与线段之间的第三垂直距离、第四扫描曲线的顶点与线段之间的第四垂直距离;根据第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离、第四垂直距离,确定晶圆的面型种类。本发明能够有效的确定晶圆面型,有助于提高晶圆加工质量。

Description

晶圆面型分类方法及系统
技术领域
本发明涉及晶圆检测技术领域,特别是涉及一种晶圆面型分类方法及系统。
背景技术
晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片,其原始材料是硅。高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种,然后慢慢拉出,形成圆柱形的硅晶棒。硅晶棒再经过研磨、抛光、切片后,形成硅晶圆片,也就是晶圆。
常见的晶圆的面型有马鞍型、穿透型、平面型等,晶圆的面型能够反应机台加工的工艺参数是否正常,并且可以根据当前晶圆的面型决定后续工艺的不同处理方式,对于提高晶圆加工质量非常重要。然而,现有技术中缺乏有效的确定晶圆面型的技术方案。
发明内容
为此,本发明的一个实施例提出一种晶圆面型分类方法,以有效的确定晶圆面型,有助于提高晶圆加工质量。
根据本发明一实施例的晶圆面型分类方法,包括:
以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对所述晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线;
使所述第一扫描曲线、所述第二扫描曲线、所述第三扫描曲线、所述第四扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,并分别计算所述第一扫描曲线的顶点与所述线段之间的第一垂直距离、所述第二扫描曲线的顶点与所述线段之间的第二垂直距离、所述第三扫描曲线的顶点与所述线段之间的第三垂直距离、所述第四扫描曲线的顶点与所述线段之间的第四垂直距离;
根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类。
根据本发明实施例提供的晶圆面型分类方法,以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线,然后使四条扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,进而得到四条扫描曲线与线段之间的第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离、第四垂直距离,最后根据这四个垂直距离来确定所述晶圆的面型种类,能够快速、有效的确定晶圆的面型种类,有助于提高晶圆加工质量。
此外,根据本发明实施例提供的晶圆面型分类方法,还具有以下技术特征:
进一步地,所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离、所述第四垂直距离具有正负符号,当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为正;当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为负;
根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类的步骤包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号不完全相同,则判定所述晶圆的面型为马鞍型。
进一步地,根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类的步骤包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号相同,则判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量;
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量至少为两个,则判定所述晶圆的面型为平面型。
进一步地,判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量的步骤之后,所述方法还包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量不超过1个,则计算所述第二垂直距离与所述第四垂直距离的比值的绝对值RatioSag45ThanSag135;
判断RatioSag45ThanSag135是否大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold;
若RatioSag45ThanSag135大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold,则判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio;
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值大于阈值PenetrateBowWarpRatio,则判定所述晶圆的面型为穿透型。
进一步地,判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio的步骤之后,所述方法还包括:
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值小于等于阈值PenetrateBowWarpRatio,且大于PenetrateBowWarpRatio*0.5,则进一步判断RatioSag45ThanSag135是否大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4);
若RatioSag45ThanSag135大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4),则判定所述晶圆的面型为穿透型。
本发明的另一个实施例提出一种晶圆面型分类系统,以有效的确定晶圆面型,有助于提高晶圆加工质量。
根据本发明实施例的晶圆面型分类系统,包括:
获取模块,用于以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对所述晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线;
计算模块,用于使所述第一扫描曲线、所述第二扫描曲线、所述第三扫描曲线、所述第四扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,并分别计算所述第一扫描曲线的顶点与所述线段之间的第一垂直距离、所述第二扫描曲线的顶点与所述线段之间的第二垂直距离、所述第三扫描曲线的顶点与所述线段之间的第三垂直距离、所述第四扫描曲线的顶点与所述线段之间的第四垂直距离;
确定模块,用于根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类。
根据本发明实施例提供的晶圆面型分类系统,以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线,然后使四条扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,进而得到四条扫描曲线与线段之间的第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离、第四垂直距离,最后根据这四个垂直距离来确定所述晶圆的面型种类,能够快速、有效的确定晶圆的面型种类,有助于提高晶圆加工质量。
此外,根据本发明实施例提供的晶圆面型分类系统,还具有以下技术特征:
进一步地,所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离、所述第四垂直距离具有正负符号,当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为正;当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为负;
所述确定模块具体用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号不完全相同,则判定所述晶圆的面型为马鞍型。
进一步地,所述确定模块还用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号相同,则判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量;
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量至少为两个,则判定所述晶圆的面型为平面型。
进一步地,所述确定模块还用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量不超过1个,则计算所述第二垂直距离与所述第四垂直距离的比值的绝对值RatioSag45ThanSag135;
判断RatioSag45ThanSag135是否大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold;
若RatioSag45ThanSag135大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold,则判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio;
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值大于阈值PenetrateBowWarpRatio,则判定所述晶圆的面型为穿透型。
进一步地,所述确定模块还用于:
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值小于等于阈值PenetrateBowWarpRatio,且大于PenetrateBowWarpRatio*0.5,则进一步判断RatioSag45ThanSag135是否大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4);
若RatioSag45ThanSag135大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4),则判定所述晶圆的面型为穿透型。
附图说明
图1是根据本发明一实施例的晶圆面型分类方法的流程图;
图2是一示例性的第一扫描曲线和线段的示意图;
图3是根据本发明一实施例的晶圆面型分类系统的结构框图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参阅图1,本发明一实施例提出的晶圆面型分类方法,包括步骤S101~S103:
S101,以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对所述晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线。
其中,第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线均是拟合的圆弧。
S102,使所述第一扫描曲线、所述第二扫描曲线、所述第三扫描曲线、所述第四扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,并分别计算所述第一扫描曲线的顶点与所述线段之间的第一垂直距离、所述第二扫描曲线的顶点与所述线段之间的第二垂直距离、所述第三扫描曲线的顶点与所述线段之间的第三垂直距离、所述第四扫描曲线的顶点与所述线段之间的第四垂直距离。
其中,所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离、所述第四垂直距离均具有正负符号,当所述第一扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第一垂直距离为正,当所述第一扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第一垂直距离为负;同理,当所述第二扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第二垂直距离为正,当所述第二扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第二垂直距离为负;当所述第三扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第三垂直距离为正,当所述第三扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第三垂直距离为负;当所述第四扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第四垂直距离为正,当所述第四扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第四垂直距离为负。
一示例性的第一扫描曲线11和线段12如图2所示,其中,线段12的长度为100mm,图2中,第一垂直距离Sag0为正。
S103,根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类。
其中,具体的,若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号不完全相同,则判定所述晶圆的面型为马鞍型。
例如,第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离均为正,而第四垂直距离均为负,则判定晶圆的面型为马鞍型。或者,第一垂直距离为负,第二垂直距离、第三垂直距离、第四垂直距离均为正,同样则判定晶圆的面型为马鞍型。
此外,若第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离的正负符号相同,例如,第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离均为正,或者,第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离均为负,则需要进一步判断第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中结果为0的数量。
若第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中结果为0的数量至少为两个,则判定晶圆的面型为平面型。
例如,第一垂直距离和第二垂直距离均为0,则判定晶圆的面型为平面型。或者,第一垂直距离、第二垂直距离、第四垂直距离均为0,则判定晶圆的面型为平面型。
此外,判断第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中结果为0的数量的步骤之后,所述方法还包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量不超过1个。例如,第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中,只有第一垂直距离为0,或者四个垂直距离均不为0,则计算第二垂直距离Sag45与第四垂直距离Sag135的比值的绝对值RatioSag45ThanSag135。
判断RatioSag45ThanSag135是否大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold;
若RatioSag45ThanSag135大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold,则判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio。
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值大于阈值PenetrateBowWarpRatio,则判定所述晶圆的面型为穿透型。
其中,RatioSag45ThanSag135=∣Sag45/Sag135∣。
例如,SagRatioThroshold的取值为5,PenetrateBowWarpRatio的取值为0.2。晶圆的弯曲度BOW与翘曲度WARP可以通过现有技术测量得到,在此不予赘述。
因此,若∣Sag45/Sag135∣>5,或者∣Sag45/Sag135∣<1/5,则进一步判断BOW/WARP>0.2是否成立。
若BOW/WARP>0.2成立,则判定晶圆的面型为穿透型。
此外,本实施例中,判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio的步骤之后,所述方法还包括:
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值小于等于阈值PenetrateBowWarpRatio,且大于PenetrateBowWarpRatio*0.5,则进一步判断RatioSag45ThanSag135是否大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4);
若RatioSag45ThanSag135大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4),则判定所述晶圆的面型为穿透型。
具体的,若BOW/WARP≤0.2,且BOW/WARP>0.1,则进一步判断∣Sag45/Sag135∣>20或者∣Sag45/Sag135∣<1/20是否成立,若满足∣Sag45/Sag135∣>20或者∣Sag45/Sag135∣<1/20,则判定晶圆的面型为穿透型。
需要指出的是,以上判断晶圆的面型为穿透型的方式主要适用于线切片。
此外,本实施例中,也采用可以另一种更加简单的方式判定晶圆的面型为穿透型,具体是将第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中绝对值最小者与阈值PenetrateSagThroshold进行比较,PenetrateSagThroshold例如是1.5μm,若第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中绝对值最小者小于1.5μm,则判定晶圆的面型为穿透型。这种方式主要适用于抛光片、研磨片。
如果根据以上的判断方式,无法确定出晶圆的面型是马鞍型、穿透型、平面型中的一种,则可以判定晶圆的面型是同心圆型或者同心椭圆型,具体的,若满足条件式:MaxSagAbs/MinSagAbs>t,则判定晶圆的面型是同心椭圆型,其中,MaxSagAbs表示第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中数值最大者(指绝对值),MinSagAbs表示第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离以及第四垂直距离中数值最小者(指绝对值),t表示设定的阈值,t例如取1.5。反之,若满足条件式MaxSagAbs/MinSagAbs≤t,则判定晶圆的面型是同心圆型。
综上,根据本发明提供的晶圆面型分类方法,以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线,然后使四条扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,进而得到四条扫描曲线与线段之间的第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离、第四垂直距离,最后根据这四个垂直距离来确定所述晶圆的面型种类,能够快速、有效的确定晶圆的面型种类,有助于提高晶圆加工质量。
请参阅图3,本发明一实施例提出的晶圆面型分类系统,包括:
获取模块,用于以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对所述晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线;
计算模块,用于使所述第一扫描曲线、所述第二扫描曲线、所述第三扫描曲线、所述第四扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,并分别计算所述第一扫描曲线的顶点与所述线段之间的第一垂直距离、所述第二扫描曲线的顶点与所述线段之间的第二垂直距离、所述第三扫描曲线的顶点与所述线段之间的第三垂直距离、所述第四扫描曲线的顶点与所述线段之间的第四垂直距离;
确定模块,用于根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类。
本实施例中,所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离、所述第四垂直距离具有正负符号,当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为正;当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为负;
所述确定模块具体用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号不完全相同,则判定所述晶圆的面型为马鞍型。
本实施例中,所述确定模块还用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号相同,则判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量;
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量至少为两个,则判定所述晶圆的面型为平面型。
本实施例中,所述确定模块还用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量不超过1个,则计算所述第二垂直距离与所述第四垂直距离的比值的绝对值RatioSag45ThanSag135;
判断RatioSag45ThanSag135是否大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold;
若RatioSag45ThanSag135大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold,则判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio;
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值大于阈值PenetrateBowWarpRatio,则判定所述晶圆的面型为穿透型。
本实施例中,所述确定模块还用于:
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值小于等于阈值PenetrateBowWarpRatio,且大于PenetrateBowWarpRatio*0.5,则进一步判断RatioSag45ThanSag135是否大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4);
若RatioSag45ThanSag135大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4),则判定所述晶圆的面型为穿透型。
根据本发明提供的晶圆面型分类系统,以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线,然后使四条扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,进而得到四条扫描曲线与线段之间的第一垂直距离、第二垂直距离、第三垂直距离、第四垂直距离,最后根据这四个垂直距离来确定所述晶圆的面型种类,能够快速、有效的确定晶圆的面型种类,有助于提高晶圆加工质量。
在流程图中表示或在此以其他方式描述的逻辑和/或步骤,例如,可以被认为是用于实现逻辑功能的可执行指令的定序列表,可以具体实现在任何计算机可读介质中,以供指令执行系统、装置或设备(如基于计算机的系统、包括处理器的系统或其他可以从指令执行系统、装置或设备取指令并执行指令的系统)使用,或结合这些指令执行系统、装置或设备而使用。就本说明书而言,“计算机可读介质”可以是任何可以包含、存储、通讯、传播或传输程序以供指令执行系统、装置或设备或结合这些指令执行系统、装置或设备而使用的装置。
计算机可读介质的更具体的示例(非穷尽性列表)包括以下:具有一个或多个布线的电连接部(电子装置),便携式计算机盘盒(磁装置),随机存取存储器(RAM),只读存储器(ROM),可擦除可编辑只读存储器(EPROM或闪速存储器),光纤装置,以及便携式光盘只读存储器(CDROM)。另外,计算机可读介质甚至可以是可在其上打印所述程序的纸或其他合适的介质,因为可以例如通过对纸或其他介质进行光学扫描,接着进行编辑、解译或必要时以其他合适方式进行处理来以电子方式获得所述程序,然后将其存储在计算机存储器中。
应当理解,本发明的各部分可以用硬件、软件、固件或它们的组合来实现。在上述实施方式中,多个步骤或方法可以用存储在存储器中且由合适的指令执行系统执行的软件或固件来实现。例如,如果用硬件来实现,和在另一实施方式中一样,可用本领域公知的下列技术中的任一项或他们的组合来实现:具有用于对数据信号实现逻辑功能的逻辑门电路的离散逻辑电路,具有合适的组合逻辑门电路的专用集成电路,可编程门阵列(PGA),现场可编程门阵列(FPGA)等。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种晶圆面型分类方法,其特征在于,包括:
以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对所述晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线;
使所述第一扫描曲线、所述第二扫描曲线、所述第三扫描曲线、所述第四扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,并分别计算所述第一扫描曲线的顶点与所述线段之间的第一垂直距离、所述第二扫描曲线的顶点与所述线段之间的第二垂直距离、所述第三扫描曲线的顶点与所述线段之间的第三垂直距离、所述第四扫描曲线的顶点与所述线段之间的第四垂直距离;
根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类。
2.根据权利要求1所述的晶圆面型分类方法,其特征在于,所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离、所述第四垂直距离具有正负符号,当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为正;当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为负;
根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类的步骤包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号不完全相同,则判定所述晶圆的面型为马鞍型。
3.根据权利要求2所述的晶圆面型分类方法,其特征在于,根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类的步骤包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号相同,则判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量;
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量至少为两个,则判定所述晶圆的面型为平面型。
4.根据权利要求3所述的晶圆面型分类方法,其特征在于,判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量的步骤之后,所述方法还包括:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量不超过1个,则计算所述第二垂直距离与所述第四垂直距离的比值的绝对值RatioSag45ThanSag135;
判断RatioSag45ThanSag135是否大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold;
若RatioSag45ThanSag135大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold,则判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio;
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值大于阈值PenetrateBowWarpRatio,则判定所述晶圆的面型为穿透型。
5.根据权利要求4所述的晶圆面型分类方法,其特征在于,判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio的步骤之后,所述方法还包括:
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值小于等于阈值PenetrateBowWarpRatio,且大于PenetrateBowWarpRatio*0.5,则进一步判断RatioSag45ThanSag135是否大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4);
若RatioSag45ThanSag135大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4),则判定所述晶圆的面型为穿透型。
6.一种晶圆面型分类系统,其特征在于,包括:
获取模块,用于以晶圆的圆心为中心,分别在中心的0°、45°、90°、135°方向上,通过距离传感器对所述晶圆的表面进行扫描,以分别得到第一扫描曲线、第二扫描曲线、第三扫描曲线、第四扫描曲线;
计算模块,用于使所述第一扫描曲线、所述第二扫描曲线、所述第三扫描曲线、所述第四扫描曲线分别与具有预设长度的线段的两端相交,并分别计算所述第一扫描曲线的顶点与所述线段之间的第一垂直距离、所述第二扫描曲线的顶点与所述线段之间的第二垂直距离、所述第三扫描曲线的顶点与所述线段之间的第三垂直距离、所述第四扫描曲线的顶点与所述线段之间的第四垂直距离;
确定模块,用于根据所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离,确定所述晶圆的面型种类。
7.根据权利要求6所述的晶圆面型分类系统,其特征在于,所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离、所述第四垂直距离具有正负符号,当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凸面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为正;当所述第一扫描曲线/所述第二扫描曲线/所述第三扫描曲线/所述第四扫描曲线相对于所述线段为凹面时,所述第一垂直距离/所述第二垂直距离/所述第三垂直距离/所述第四垂直距离为负;
所述确定模块具体用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号不完全相同,则判定所述晶圆的面型为马鞍型。
8.根据权利要求7所述的晶圆面型分类系统,其特征在于,所述确定模块还用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离的正负符号相同,则判断所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量;
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量至少为两个,则判定所述晶圆的面型为平面型。
9.根据权利要求8所述的晶圆面型分类系统,其特征在于,所述确定模块还用于:
若所述第一垂直距离、所述第二垂直距离、所述第三垂直距离以及所述第四垂直距离中结果为0的数量不超过1个,则计算所述第二垂直距离与所述第四垂直距离的比值的绝对值RatioSag45ThanSag135;
判断RatioSag45ThanSag135是否大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold;
若RatioSag45ThanSag135大于阈值SagRatioThroshold或者小于1/SagRatioThroshold,则判断所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值是否大于阈值PenetrateBowWarpRatio;
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值大于阈值PenetrateBowWarpRatio,则判定所述晶圆的面型为穿透型。
10.根据权利要求9所述的晶圆面型分类系统,其特征在于,所述确定模块还用于:
若所述晶圆的弯曲度与翘曲度的比值小于等于阈值PenetrateBowWarpRatio,且大于PenetrateBowWarpRatio*0.5,则进一步判断RatioSag45ThanSag135是否大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4);
若RatioSag45ThanSag135大于SagRatioThroshold*4或者小于1/(SagRatioThroshold*4),则判定所述晶圆的面型为穿透型。
CN202210953435.2A 2022-08-10 2022-08-10 晶圆面型分类方法及系统 Active CN115060222B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210953435.2A CN115060222B (zh) 2022-08-10 2022-08-10 晶圆面型分类方法及系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202210953435.2A CN115060222B (zh) 2022-08-10 2022-08-10 晶圆面型分类方法及系统

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN115060222A true CN115060222A (zh) 2022-09-16
CN115060222B CN115060222B (zh) 2022-11-04

Family

ID=83208017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202210953435.2A Active CN115060222B (zh) 2022-08-10 2022-08-10 晶圆面型分类方法及系统

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN115060222B (zh)

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110349236A (zh) * 2019-07-15 2019-10-18 上海联影医疗科技有限公司 一种图像校正方法和系统
CN111370346A (zh) * 2020-03-19 2020-07-03 长江存储科技有限责任公司 晶圆翘曲度测量装置及方法
CN111598934A (zh) * 2020-04-23 2020-08-28 福建晶安光电有限公司 一种衬底弯曲形状的测量方法、装置、存储介质及终端
CN111598935A (zh) * 2020-04-23 2020-08-28 福建晶安光电有限公司 一种衬底弯曲形状的测量方法、装置、存储介质及终端
CN111912379A (zh) * 2020-07-24 2020-11-10 福建晶安光电有限公司 晶圆被加工面加工质量及切割表面切割质量的检验方法
US20210056305A1 (en) * 2019-08-19 2021-02-25 Shanghai Huali Microelectronics Corporation Classification Method for Automatically Identifying Wafer Spatial Pattern Distribution
CN114609148A (zh) * 2022-05-11 2022-06-10 昂坤视觉(北京)科技有限公司 一种晶圆检测设备
CN114608482A (zh) * 2022-05-11 2022-06-10 南昌昂坤半导体设备有限公司 曲率测量方法、系统、可读存储介质及计算机设备
CN114676730A (zh) * 2022-03-31 2022-06-28 中国石油大学(北京) 弯曲变形管段识别方法、装置、电子设备及存储介质

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110349236A (zh) * 2019-07-15 2019-10-18 上海联影医疗科技有限公司 一种图像校正方法和系统
US20210056305A1 (en) * 2019-08-19 2021-02-25 Shanghai Huali Microelectronics Corporation Classification Method for Automatically Identifying Wafer Spatial Pattern Distribution
CN111370346A (zh) * 2020-03-19 2020-07-03 长江存储科技有限责任公司 晶圆翘曲度测量装置及方法
CN111598934A (zh) * 2020-04-23 2020-08-28 福建晶安光电有限公司 一种衬底弯曲形状的测量方法、装置、存储介质及终端
CN111598935A (zh) * 2020-04-23 2020-08-28 福建晶安光电有限公司 一种衬底弯曲形状的测量方法、装置、存储介质及终端
CN111912379A (zh) * 2020-07-24 2020-11-10 福建晶安光电有限公司 晶圆被加工面加工质量及切割表面切割质量的检验方法
CN114676730A (zh) * 2022-03-31 2022-06-28 中国石油大学(北京) 弯曲变形管段识别方法、装置、电子设备及存储介质
CN114609148A (zh) * 2022-05-11 2022-06-10 昂坤视觉(北京)科技有限公司 一种晶圆检测设备
CN114608482A (zh) * 2022-05-11 2022-06-10 南昌昂坤半导体设备有限公司 曲率测量方法、系统、可读存储介质及计算机设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN115060222B (zh) 2022-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN116611748B (zh) 一种钛合金家具生产质量监控系统
US20140125666A1 (en) Apparatus and method for generating depth map of stereoscopic image
CN115100200B (zh) 基于光学手段的光纤缺陷检测方法及系统
CN112330678B (zh) 产品边缘缺陷检测方法
CN110441319B (zh) 一种外观缺陷的检测方法及装置
US10013619B2 (en) Method and device for detecting elliptical structures in an image
CN115511842A (zh) 一种基于机器视觉的电缆绝缘表皮破损检测方法
CN115601365A (zh) 用于数控机床的轴承检测方法
CN116740072A (zh) 基于机器视觉的道路表面缺陷检测方法及系统
CN115358983A (zh) 刀具缺陷检测方法、检测设备和计算机可读存储介质
CN115060222B (zh) 晶圆面型分类方法及系统
JP2980789B2 (ja) パターン寸法測定装置及びその方法
CN116342607B (zh) 输电线缺陷的识别方法、装置、电子设备及存储介质
CN109148433B (zh) 用于确定集成电路器件的尺寸的方法和设备
CN106204889B (zh) 一种纸币荧光区域的定位方法和装置
CN116542926A (zh) 电池的二维码缺陷识别方法、装置、设备及存储介质
CN110470217B (zh) 电芯收尾状态的检测方法
CN114066881A (zh) 一种基于非线性变换检测方法、计算机设备及存储介质
KR20220110961A (ko) 실리콘 웨이퍼 결함 분석 방법
CN113538418A (zh) 基于形态学分析的轮胎x射线图像缺陷提取模型构建方法
CN112750119A (zh) 一种面向白玻璃盖板表面微弱缺陷的检测与测量方法
CN116523915B (zh) 一种碳纤维接头缺陷的检测方法、设备及存储介质
JP2015170205A (ja) 特徴量生成装置、特徴量生成方法、およびプログラム
CN117788470B (zh) 一种基于人工智能的轮胎缺陷检测方法
CN112184668B (zh) 一种PVC-gel材料偏转角度测量方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant