CN114921758B - 一种蒸发镀膜方法以及蒸发镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种蒸发镀膜方法以及蒸发镀膜设备，本申请技术方案可以基于所述检测位置的蒸发速率采样值，判断是否存在目标位置，当存在所述第一目标位置时，通过所述调节组件在所述第一目标位置下方形成遮挡区域，以降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值，如是无需开腔，可以根据蒸发速率采样值，在线调节蒸发速率，以提高线性蒸发舟不同位置的蒸发速率的一致性，使得具有较为均匀的镀膜效果，提高镀膜质量。

Description

一种蒸发镀膜方法以及蒸发镀膜设备

技术领域

本申请涉及蒸发镀膜技术领域，更具体的说，涉及一种蒸发镀膜方法以及蒸发镀膜设备。

背景技术

蒸发镀膜又称真空镀膜，其特点是在真空条件下，材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜，再经高温热处理后，在样品片表面形成附着力很强的膜层，蒸发料源有70多种元素、50多种无机化合物材料和多种合金材料可供选择。

用于盛放蒸发料源的线性蒸发舟是蒸发镀膜设备中一个关键部件。目前的线性蒸发舟多为实验室小尺寸的线性蒸发舟，但是在实际应用中需要对大面积大尺寸的基底进行蒸发沉积，显然小尺寸的线性蒸发舟无法满足这一实际应用需求。

若只是简单的将小尺寸的线性蒸发舟进行放大，由于线性蒸发舟的尺寸被放大就会出现传热不均的现象，导致各个位置处的蒸发速率会不一致，最终导致蒸发沉积的膜厚均匀性较差。

当出现蒸发速率不一致或膜厚均匀性较差的情况时，一般需要将腔体放气开腔以调整蒸发舟的连接方式，或需要开腔重新更换蒸发舟等操作，也就是说无论哪种操作都需要设备停机开腔操作，在增加工艺繁琐度的情况下，还会增加成本。

发明内容

有鉴于此，本申请提供了一种蒸发镀膜方法以及蒸发镀膜设备，方案如下：

一种基于线性蒸发舟的蒸发镀膜方法，所述线性蒸发舟具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内具有用于盛放蒸发料源的凹槽，在第一方向上，所述凹槽对应多个蒸发速率的检测位置，所述第一方向平行于所述第一表面，所述第二表面的下方具有调节组件；

所述蒸发镀膜方法包括：

获取所述检测位置的蒸发速率采样值；

判断是否具有第一目标位置，其中，所述第一目标位置的蒸发速率采样值大于设定的目标蒸发速率，且所述第一目标位置的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值大于设定阈值；

如果是，控制所述调节组件在所述第一目标位置下方形成预设长度的遮挡区，降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值；其中，在所述第一方向上，所述遮挡区在所述第一方向上的长度与所述第一目标位置的蒸发速率采样值相关；

当各个所述检测位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值时，开始在镀膜腔内开始进样品片，对样品片进行蒸发镀膜。

优选的，在上述蒸发镀膜方法中，在判断是否具有第一目标位置之前，还包括：

判断是否具有第二目标位置，其中，所述第二目标位置在所述第二目标位置的蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率，且所述目标蒸发速率与所述第二目标位置的蒸发速率采样值的差值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值；

如果是，提高施加在所述线性蒸发舟上的工作电压，使得所述第二目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值后，再判断是否存在所述第一目标位置；

如果否，执行判断是否具有第一目标位置的步骤。

优选的，在上述蒸发镀膜方法中，所述第一目标位置在所述第二表面具有第一垂直投影，所述遮挡区域在所述第二表面具有第二垂直投影；在所述第一方向上，所述第一垂直投影位于所述第二垂直投影的中点。

优选的，在上述蒸发镀膜方法中，所述调节组件包括多个可折叠的金属片，所述金属片在所述第一方向上的边长为W，所述金属片具有第一电导率σ₁，所述金属片能够基于驱动组件控制在所述第一方向上移动，多个所述金属片能够基于所述驱动组件在所述第一方向上展开，在垂直所述第二表面的方向上折叠；所述线性蒸发舟具有第二电导率σ₂；

计算所述预设长度的方法包括：

其中，l为所述预设长度，R₁为所述第一目标位置的蒸发速率采样值，R为所述目标蒸发速率，A为所述设定阈值。

优选的，在上述蒸发镀膜方法中，根据l的值以及所述金属片在所述第一方向上的长度，通过所述驱动组件控制满足所述预设长度需求数量的所述金属片在所述第一目标位置下方展开。

本申请还提供了一种蒸发镀膜设备，包括：

镀膜腔；

位于所述镀膜腔内的线性蒸发舟，所述线性蒸发舟具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内具有用于盛放蒸发料源的凹槽，在第一方向上，所述凹槽对应多个蒸发速率的检测位置，所述第一方向平行于所述第一表面，所述第二表面的下方具有调节组件；

位于所述镀膜腔内的采集设备，所述采集设备用于获取所述检测位置的蒸发速率采样值；

主机，所述主机用于判断是否具有第一目标位置，其中，所述第一目标位置的蒸发速率采样值大于设定的目标蒸发速率，且所述第一目标位置的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值大于设定阈值；如果是，控制所述调节组件在所述第一目标位置下方形成预设长度的遮挡区，降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值；其中，在所述第一方向上，所述遮挡区在所述第一方向上的长度与所述第一目标位置的蒸发速率采样值相关；

传输装置，当各个所述检测位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值时，所述主机控制所述传输装置开始在镀膜腔内开始进样品片，对样品片进行蒸发镀膜。

优选的，在上述蒸发镀膜设备中，在判断是否具有第一目标位置之前，所述主机还用于判断是否具有第二目标位置，其中，所述第二目标位置在所述第二目标位置的蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率，且所述目标蒸发速率与所述第二目标位置的蒸发速率采样值的差值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值；如果是，提高施加在所述线性蒸发舟上的工作电压，使得所有采样位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值。

优选的，在上述蒸发镀膜设备中，所述调节组件包括多个可折叠的金属片，

所述蒸发镀膜设备还包括驱动组件，所述驱动组件通过推构与所述调节组件连接，所述驱动组件用于响应所述主机控制，调节所述金属片在所述第一方向上移动，控制多个所述金属片在所述第一方向上展开以及折叠。

优选的，在上述蒸发镀膜设备中，所述金属片在所述第一方向上的边长为W，所述金属片具有第一电导率σ₁，所述线性蒸发舟具有第二电导率σ₂；

所述主机计算所述预设长度的方法包括：

其中，l为所述预设长度，R₁为所述第一目标位置的蒸发速率采样值，R为所述目标蒸发速率，A为所述设定阈值。

通过上述描述可知，本申请技术方案提供的蒸发镀膜方法以及蒸发镀膜设备中，可以基于所述检测位置的蒸发速率采样值，判断是否存在目标位置，当存在所述第一目标位置时，通过所述调节组件在所述第一目标位置下方形成遮挡区域，以降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值，如是无需开腔，可以根据蒸发速率采样值，在线调节蒸发速率，以提高线性蒸发舟不同位置的蒸发速率的一致性，使得具有较为均匀的镀膜效果，提高镀膜质量。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本申请可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本申请所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本申请所揭示的技术内容能涵盖的范围内。

图1为本申请实施例提供的一种线性蒸发舟的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种蒸发镀膜方法的流程示意图；

图3为本申请实施例提供的另一种蒸发镀膜方法的流程示意图；

图4为本申请实施例提供的一种电极柱与线性蒸发舟的连接原理示意图；

图5为本申请实施例提供调节组件降低第一目标位置蒸发速率的原理示意图；

图6为调节组件层叠后的结构示意图；

图7为调节组件展平后的结构示意图；

图8为本申请实施例提供的又一种蒸发镀膜方法的流程示意图；

图9为本申请实施例提供的一种蒸发镀膜设的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请中的实施例进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步详细的说明。

本申请实施例提供了基于线性蒸发舟的蒸发镀膜方法，所述线性蒸发舟的结构如图1所示。

参考图1，图1为本申请实施例提供的一种线性蒸发舟的结构示意图，所示线性蒸发舟11具有所述线性蒸发舟具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内具有用于盛放蒸发料源的凹槽(图1中未示出)，在第一方向X上，所述凹槽对应多个蒸发速率的检测位置，所述第一方向X平行于所述第一表面，所述第二表面的下方具有调节组件2。在图1中，以线性蒸发舟1有效蒸发区域5等分为例进行图示说明，在第一方向上，具有6个检测位置，分别为检测位置0、检测位置10、检测位置20、检测位置30、检测位置40和检测位置50。显然，检测位置划分可以基于需求设定，不局限于图1所示方式。以第一方向X作为坐标轴，检测位置0为位于线性蒸发舟1端部的正极位置，作为坐标轴的原点。

本申请实施例中，在所述线性蒸发舟1的下方设置有可移动的调节组件2，能够调节传导率，通过调节组件2可以调节线性蒸发舟1不同位置的蒸发速率，使得调节线性蒸发舟1不同位置的蒸发速率趋于一致，从而使得镀膜厚度更为均匀。可以在蒸发速率高的位置下方通过所述调节组件2来降低蒸发速率，对应蒸发速率较低的位置，不设置调节组件2，以保证其蒸发速率不变，从而降低蒸发速率较高的位置的蒸发速率，使得不同位置的蒸发速率趋于一致。

参考图2所示，图2为本申请实施例提供的一种蒸发镀膜方法的流程示意图，所述蒸发镀膜方法采用上述线性蒸发舟，结合图1和图2所示，该蒸发镀膜方法包括：

步骤S11：获取所述检测位置的蒸发速率采样值。

步骤S12：判断是否具有第一目标位置。

其中，所述第一目标位置的蒸发速率采样值大于设定的目标蒸发速率，且所述第一目标位置的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值大于设定阈值。

步骤S13：如果是，控制所述调节组件2在所述第一目标位置下方形成预设长度的遮挡区，降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值。

其中，在所述第一方向上，所述遮挡区在所述第一方向上的长度与所述第一目标位置的蒸发速率采样值相关。

如果不存在所述第一目标位置，则进入步骤S14。

步骤S14：当各个所述检测位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值时，开始在镀膜腔内开始进样品片，对样品片进行蒸发镀膜。

所述蒸发镀膜方法可以基于所述检测位置的蒸发速率采样值，判断是否存在目标位置，当存在所述第一目标位置时，通过所述调节组件2在所述第一目标位置下方形成遮挡区域，以降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值，如是无需开腔，可以根据蒸发速率采样值，在线调节蒸发速率，以提高线性蒸发舟1不同位置的蒸发速率的一致性，使得具有较为均匀的镀膜效果，提高镀膜质量。

参考图3所示，图3为本申请实施例提供的另一种蒸发镀膜方法的流程示意图，与图2所示蒸发镀膜方法不同在于，图3所示方式中，在判断是否具有第一目标位置之前，还包括：

步骤S21：判断是否具有第二目标位置。

其中，所述第二目标位置在所述第二目标位置的蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率，且所述目标蒸发速率与所述第二目标位置的蒸发速率采样值的差值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值；

步骤S22：如果是，提高施加在所述线性蒸发舟1上的工作电压，使得所述第二目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值后，再判断是否存在所述第一目标位置；

如果否，执行判断是否具有第一目标位置的步骤。

在步骤S22中，可以根据设定步长提高所述工作电压，当工作电压增大时，所述线性蒸发舟1上所有位置的蒸发速率均增大，每次提高工作电压后，基于采集的检测位置蒸发速率采样值，确定是否存在第二目标位置，如是，再次提高工作电压，直至不存在第二目标位置。该过程中，为了降低采样数量以及数据处理量，提高工作电压后，可以仅采集在先确定蒸发速率最小的第二位置，确定其蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值是否小于所述设定阈值，如果是，则表明所有第二目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值。

所述调节组件2只能降低相对区域的蒸发速率，无法提高蒸发速率。通过图3所示方式，在判断是否存在所述第一目标位置之前，先判断是否存在第二目标位置，如果存在第二目标位置，通过增大施加在所述线性蒸发舟1上的工作电压，能够使得所有第二目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值，避免存在蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率且与目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值的检测位置。这样，对于蒸发效率小于目标蒸发速率的检测位置，使得其蒸发速率与目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值，对于蒸发速率大于所述目标蒸发速率且与目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值的检测位置，可以通过所述调节组件降低蒸发速率，从而使得线性蒸发舟各个位置的蒸发速率与目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值都小于所述设定阈值。

参考图4所示，图4为本申请实施例提供的一种电极柱与线性蒸发舟的连接原理示意图，电极柱3固定在上Cu牌02和下Cu牌02之间，上Cu牌02和下Cu牌02通过螺丝孔04以及配套螺丝进行固定。结合图1和图4所示，线性蒸发舟固定在上Cu牌02的上表面，电极柱3延伸方向为图1中第一方向X，即图4中垂直纸面的方向为第一方向X。通过螺丝孔5以及配套螺丝使得上Cu牌和线性蒸发舟1电连接，且和电极柱3电连接。如是通过调节电极柱3的电压，即可调节线性蒸发舟1的工作电压。

参考图5所示，图5为本申请实施例提供调节组件降低第一目标位置蒸发速率的原理示意图，对于一第一目标位置B，其下方调节组件2形成预设长度l的遮挡区域，用于降低第一目标位置B的蒸发速率。结合图1和图5所示，所述第一目标位置B在所述第二表面具有第一垂直投影，所述遮挡区域在所述第二表面具有第二垂直投影；在所述第一方向X上，所述第一垂直投影位于所述第二垂直投影的中点，如图5所示，在垂直于第一表面的方向上，第一目标位置B位于当前长度为l的调节组件2的中点位置。

当具有第一目标位置B时，线性石墨舟1在第一目标位置B的左右两侧也是蒸发速率较大的区域。基于图5所示方式，通过所述调节组件2，在所述第一方向X上，能够以所述第一目标位置B为中点，在其左右两侧均匀降低线性石墨舟1各个位置的蒸发速率。

如图1所示，所述线性蒸发舟位于一支架内部，支架上具有可移动的第一推钩15和第二推钩16。第一推钩15和第二推钩16与所述调节组件2连接，能够带动所述调节组件2移动。通过驱动组件带动第一推钩15和第二推钩16，从而带动所述调节组件2移动，改变调节组件在第一方向X的位置以及长度，实现对第一目标位置B的蒸发速率的调节。

参考图6和图7所示，图6为调节组件层叠后的结构示意图，图7为调节组件展平后的结构示意图，结合图1、图6和图7所示，所述调节组件2包括多个可折叠的金属片13。所述金属片13在所述第一方向上的边长为W，所述金属片13具有第一电导率σ₁。所述金属片13能够基于驱动组件控制在所述第一方向X上移动。如图6所示，图6示出了多个金属片13在垂直于第二表面的方向上折叠后的姿态。多个所述金属片13能够基于所述驱动组件在所述第一方向X上展开，如图7所示，图7示出了多个金属片13在第一方向X展开到同一平面时的姿态。多个所述金属片13能够基于所述驱动组件在垂直所述第二表面的方向上折叠。如是，通过驱动组件结合第一推钩15和第二推钩16实现对多个金属片13的位置姿态进行调节，例如通过驱动组件结合第一推钩15和第二推钩16将金属片13移动到预设的位置，再次通过第一推钩15和第二推钩16将折叠放置的金属片13进行拉伸，以平铺预设数量的金属片13，在第一目标位置B下方设置预设长度的调节组件2，以实现线性石墨舟1不同位置的不同传导率的控制。

设定所述线性蒸发舟具有第二电导率σ₂，计算所述预设长度的方法包括：

式(1)中，l为所述预设长度，R₁为所述第一目标位置的蒸发速率采样值，R为所述目标蒸发速率，A为所述设定阈值。

第一目标位置B的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值为：

本申请实施例中，基于式(1)，根据l的值以及所述金属片13在所述第一方向X上的长度，通过所述驱动组件控制满足所述预设长度l需求数量的所述金属片13在所述第一目标位置B下方展开。其中，为了便于金属片13数量的确定，设定金属片13在第一方向X上的长度为1cm，如是，在第一目标位置B下方金属片13的数量为l的上取整，即如果l为非正数，则第一目标位置B下方的金属片13数量为l的取整并加1，如果l为正数，则第一目标位置B下方的金属片13数量为l。

可以设定，金属片材质13为Cu时，线性石墨舟1的材质为C，目标蒸发速率为12％，此时，上述式(1)为：

需要说明的是，本申请实施例中，金属片13的材质包括但不局限于为Cu；线性石墨舟1的材质包括但不局限于为C；目标蒸发速率可以基于镀膜厚度均匀要求设定，不局限于为12％。本申请实施例对此不作具体限定。

参考图8所示，图8为本申请实施例提供的又一种蒸发镀膜方法的流程示意图，基于上述实施例，图8所示方法包括：

首先，获取各个检测位置的蒸发速率采样值与目标蒸发速率的差值绝对值。

然后，确定所述差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值是否小于设定阈值。如该阈值可以为12％。如果是，则开始进片传输，进行样品的蒸发镀膜。如果否，基于式(1)计算第目标位置所需调节组件的长度。

当基于式(1)计算获得所需调节组件的长度后，确定第一目标位置所需金属片的数量，将该数量反馈至推构的驱动组件。通过驱动组件调节金属片，使得第一位置下方具有设定数量的金属片，从而在第一目标位置下方形成预设长度的调节组件。

之后，再次进行蒸发速率的检测，直至差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于设定阈值后，开始进片传输，进行样品的蒸发镀膜。

本申请实施例所述蒸发镀膜方法，可以根据在线蒸发速率监测得到的数值，基于上述计算方法获得第一目标位置B下方所需调节组件2的预设长度l，而后只需要简单移动调节组件2，使得预设数量的金属片13位于第一目标位置B下方，无需开腔更换蒸发舟，也无需蒸发舟两端连接方式，即可达到各处的镀膜膜厚均一效果。

下面结合具体实验数据，对本申请实施例所述蒸发镀膜方法的效果进行说明。

表1不同检测位置处的线性蒸发舟的蒸发速率

基于表1可知，检测位置20和检测位置30对应的比值大于12％，则需要在下方设置设定数量的金属片13来降低蒸发速率。

可以基于需求设定目标蒸发速率R，如设定目标蒸发速率R为0.6埃/秒。以金属片13为Cu片为例，基于上述蒸发镀膜方法，可以获得表2中数据。

表2各检测位置处的蒸发速率采样值与目标蒸发速率的差值百分比

基于上述公式(2)计算检测位置20和检测位置30对应的预设长度，计算可得检测位置20对公预设长度l为2cm，检测位置30对公预设长度l为2.6cm。基于上述上取整的方法，可知检测位置20下方需要铺设2个铜片，检测位置30位置下方需要铺设3个铜片，该两个检测位置共计需要5个铜片。

铜片移动方式如下：

通过推钩将调节组件2推至检测位置20处，根据上述步骤计算出来的Cu片数量，例如共计5片，推钩的钩子是可伸缩的，以便于展开调节组件2中设定数量的Cu片，将Cu片展开到5片为止。平时调节组件2是在蒸发舟的端部区域，使用时通过推钩推动根据需要铺展开。

基于上述实施例，本申请另一实施例还提供了一种蒸发镀膜设备，所述蒸发镀膜设备如图9所示。

参考图9所示，图9为本申请实施例提供的一种蒸发镀膜设的结构示意图，包括：

镀膜腔21；

位于所述镀膜腔21内的线性蒸发舟1，所述线性蒸发舟1具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内具有用于盛放蒸发料源的凹槽，在第一方向上，所述凹槽对应多个蒸发速率的检测位置，所述第一方向平行于所述第一表面，所述第二表面的下方具有调节组件2；

位于所述镀膜腔21内的采集设备22，所述采集设备22用于获取所述检测位置的蒸发速率采样值；

主机23，所述主机23用于判断是否具有第一目标位置，其中，所述第一目标位置的蒸发速率采样值大于设定的目标蒸发速率，且所述第一目标位置的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值大于设定阈值；如果是，控制所述调节组件2在所述第一目标位置下方形成预设长度的遮挡区，降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值；其中，在所述第一方向上，所述遮挡区在所述第一方向上的长度与所述第一目标位置的蒸发速率采样值相关；其中，主机23可以通过控制驱动组件，控制调节组件2。图9中未示出驱动组件，驱动组件包括电机或是其他机械传动设备；

传输装置，当各个所述检测位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值时，所述主机控制所述传输装置开始在镀膜腔内开始进样品片，对样品片进行蒸发镀膜。图9中未示出传输装置，可以采用业内常规传输装置，本申请实施例对此不作具体限定。

在判断是否具有第一目标位置之前，所述主机23还用于判断是否具有第二目标位置，其中，所述第二目标位置在所述第二目标位置的蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率，且所述目标蒸发速率与所述第二目标位置的蒸发速率采样值的差值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值；如果是，提高施加在所述线性蒸发舟1上的工作电压，使得所有采样位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值。

如上述，所述调节组件2包括多个可折叠的金属片，所述蒸发镀膜设备还包括驱动组件，所述驱动组件通过推构与所述调节组件连接，所述驱动组件用于响应所述主机控制，调节所述金属片在所述第一方向上移动，控制多个所述金属片在所述第一方向上展开以及折叠。

所述金属片在所述第一方向上的边长为W，所述金属片具有第一电导率σ₁，所述线性蒸发舟具有第二电导率σ₂；

所述主机23计算所述预设长度的方法包括：

其中，l为所述预设长度，R₁为所述第一目标位置的蒸发速率采样值，R为所述目标蒸发速率，A为所述设定阈值。

本申请实施例所述镀膜设备，能够执行上述实施例所述蒸发镀膜方法，无需开腔更换蒸发舟，也无需蒸发舟两端连接方式，即可达到各处的镀膜膜厚均一效果。

本说明书中各个实施例采用递进、或并列、或递进和并列结合的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的镀膜设备而言，由于其与实施例公开的蒸发镀膜方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见蒸发镀膜方法相关部分说明即可。

需要说明的是，在本申请的描述中，需要理解的是，附图和实施例的描述是说明性的而不是限制性的。贯穿说明书实施例的同样的附图标记标识同样的结构。另外，处于理解和易于描述，附图可能夸大了一些层、膜、面板、区域等厚度。同时可以理解的是，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称作“在”另一元件“上”时，该元件可以直接在其他元件上或者可以存在中间元件。另外，“在…上”是指将元件定位在另一元件上或者另一元件下方，但是本质上不是指根据重力方向定位在另一元件的上侧上。

术语“上”、“下”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中设置的组件。

还需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括上述要素的物品或者设备中还存在另外的相同要素。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (9)

1.一种基于线性蒸发舟的蒸发镀膜方法，其特征在于，所述线性蒸发舟具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内具有用于盛放蒸发料源的凹槽，在第一方向上，所述凹槽对应多个蒸发速率的检测位置，所述第一方向平行于所述第一表面，所述第二表面的下方具有调节组件；

所述蒸发镀膜方法包括：

获取所述检测位置的蒸发速率采样值；

判断是否具有第一目标位置，其中，所述第一目标位置的蒸发速率采样值大于设定的目标蒸发速率，且所述第一目标位置的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值大于设定阈值；

如果是，控制所述调节组件在所述第一目标位置下方形成预设长度的遮挡区，降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值；其中，在所述第一方向上，所述遮挡区在所述第一方向上的长度与所述第一目标位置的蒸发速率采样值相关；

当各个所述检测位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值时，开始在镀膜腔内开始进样品片，对样品片进行蒸发镀膜。

2.根据权利要求1所述的蒸发镀膜方法，其特征在于，在判断是否具有第一目标位置之前，还包括：

判断是否具有第二目标位置，其中，所述第二目标位置在所述第二目标位置的蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率，且所述目标蒸发速率与所述第二目标位置的蒸发速率采样值的差值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值；

如果是，提高施加在所述线性蒸发舟上的工作电压，使得所述第二目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值后，再判断是否存在所述第一目标位置；

如果否，执行判断是否具有第一目标位置的步骤。

3.根据权利要求1所述的蒸发镀膜方法，其特征在于，所述第一目标位置在所述第二表面具有第一垂直投影，所述遮挡区域在所述第二表面具有第二垂直投影；在所述第一方向上，所述第一垂直投影位于所述第二垂直投影的中点。

4.根据权利要求1所述的蒸发镀膜方法，其特征在于，所述调节组件包括多个可折叠的金属片，所述金属片在所述第一方向上的边长为W，所述金属片具有第一电导率σ₁，所述金属片能够基于驱动组件控制在所述第一方向上移动，多个所述金属片能够基于所述驱动组件在所述第一方向上展开，在垂直所述第二表面的方向上折叠；所述线性蒸发舟具有第二电导率σ₂；

计算所述预设长度的方法包括：

其中，l为所述预设长度，R₁为所述第一目标位置的蒸发速率采样值，R为所述目标蒸发速率，A为所述设定阈值。

5.根据权利要求4所述的蒸发镀膜方法，其特征在于，根据l的值以及所述金属片在所述第一方向上的长度，通过所述驱动组件控制满足所述预设长度需求数量的所述金属片在所述第一目标位置下方展开。

6.一种蒸发镀膜设备，其特征在于，包括：

镀膜腔；

位于所述镀膜腔内的线性蒸发舟，所述线性蒸发舟具有相对的第一表面和第二表面，所述第一表面内具有用于盛放蒸发料源的凹槽，在第一方向上，所述凹槽对应多个蒸发速率的检测位置，所述第一方向平行于所述第一表面，所述第二表面的下方具有调节组件；

位于所述镀膜腔内的采集设备，所述采集设备用于获取所述检测位置的蒸发速率采样值；

主机，所述主机用于判断是否具有第一目标位置，其中，所述第一目标位置的蒸发速率采样值大于设定的目标蒸发速率，且所述第一目标位置的蒸发速率采样值与所述目标蒸发速率的差值与所述目标蒸发速率的比值大于设定阈值；如果是，控制所述调节组件在所述第一目标位置下方形成预设长度的遮挡区，降低所述第一目标位置的蒸发速率，使得所述第一目标位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值小于所述设定阈值；其中，在所述第一方向上，所述遮挡区在所述第一方向上的长度与所述第一目标位置的蒸发速率采样值相关；

传输装置，当各个所述检测位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值时，所述主机控制所述传输装置开始在镀膜腔内开始进样品片，对样品片进行蒸发镀膜。

7.根据权利要求6所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，在判断是否具有第一目标位置之前，所述主机还用于判断是否具有第二目标位置，其中，所述第二目标位置在所述第二目标位置的蒸发速率采样值小于所述目标蒸发速率，且所述目标蒸发速率与所述第二目标位置的蒸发速率采样值的差值与所述目标蒸发速率的比值大于所述设定阈值；如果是，提高施加在所述线性蒸发舟上的工作电压，使得所有采样位置的蒸发速率与所述目标蒸发速率的差值绝对值与所述目标蒸发速率的比值均小于所述设定阈值。

8.根据权利要求6所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述调节组件包括多个可折叠的金属片，

所述蒸发镀膜设备还包括驱动组件，所述驱动组件通过推构与所述调节组件连接，所述驱动组件用于响应所述主机控制，调节所述金属片在所述第一方向上移动，控制多个所述金属片在所述第一方向上展开以及折叠。

9.根据权利要求8所述的蒸发镀膜设备，其特征在于，所述金属片在所述第一方向上的边长为W，所述金属片具有第一电导率σ₁，所述线性蒸发舟具有第二电导率σ₂；

所述主机计算所述预设长度的方法包括：

其中，l为所述预设长度，R₁为所述第一目标位置的蒸发速率采样值，R为所述目标蒸发速率，A为所述设定阈值。