CN114858279B - 一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法，其包括：转轮，所述转轮的一侧设置有成像系统；以及滤光片和光源，所述滤光片和所述光源至少其中之一安装于所述转轮；光纤，其设置于所述转轮的另一侧，所述光纤远离所述转轮的一端连接成像镜头，所述光纤、所述滤光片与所述成像系统同轴设置，或者所述光纤、所述光源与所述成像系统同轴设置。由于转轮上设置了光源，光源发出的光经过光纤和成像镜头可以打在显示屏上的光谱测量区域，进行光路的瞄准，关闭光源后，光纤的出射光经过滤光片成像至成像系统，实现光谱测量，瞄准光路与测量光路同轴，可实现光谱测量的高精度瞄准；且ND滤光片可以降低光强，使测量的亮度范围更广。

Description

一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法

技术领域

本发明涉及光谱测量技术领域，特别涉及一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法。

背景技术

随着显示技术的快速发展，人们对显示设备的显示质量和性能要求也越来越高。LCD、OLED、MiniLED和MicroLED等显示屏得到越来越广泛的应用。具有高亮度、广色域、高效率、长寿命等特性的显示技术得到快速发展。

光谱仪是一种基本的光学测量仪器，其原理是通过采集目标物体的辐射、反射或透射的光信号，经过光学和电学信号处理后得到入射光的光谱功率分布曲线，由此分析得到入射光的各种详细信息，如辐射度学、光度学和色度学物理量，实现物质结构和成分的鉴定以及材料光学属性的测量。

然而，相关技术中，光谱仪一次只能获得目标一个位置的光谱信息，要获取显示屏多点或多视角光谱特性，则需要多次重新对准。另一方面，光谱测量的瞄准通常需要借助瞄准相机或外挂式光源瞄准，结构复杂且难以实现同轴瞄准。

因此，有必要设计一种新的同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法，以克服相关技术中的至少一个问题。

发明内容

本发明实施例提供一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法，以解决相关技术中光谱测量的瞄准通常需要借助瞄准相机或外挂式光源瞄准，结构复杂且难以实现同轴瞄准的问题。

第一方面，提供了一种同轴自瞄准光谱测量系统，其包括：转轮，所述转轮的一侧设置有成像系统；以及滤光片和光源，所述滤光片和所述光源至少其中之一安装于所述转轮；光纤，其设置于所述转轮的另一侧，所述光纤远离所述转轮的一端连接成像镜头，所述光纤、所述滤光片与所述成像系统同轴设置，或者所述光纤、所述光源与所述成像系统同轴设置。

一些实施例中，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤，每根光纤均连接有成像镜头，多个所述成像镜头沿圆周排列。

一些实施例中，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤，每根光纤均连接有成像镜头，多个所述成像镜头的空间位置不同。

一些实施例中，所述光纤包括互相连接的第一段和第二段，所述第一段连接所述成像镜头，多根所述光纤的第二段通过固定装置固定，使多根所述第二段沿直线排列于所述转轮远离所述成像系统的一侧。

一些实施例中，所述转轮安装有多个所述滤光片和所述光源，多个所述滤光片和所述光源沿所述转轮的圆周排列。

一些实施例中，沿所述转轮的圆周分布有多个ND滤光片，多个所述ND滤光片的衰减倍率依次增大。

一些实施例中，所述转轮与所述成像系统之间还设置有准直系统，所述准直系统与所述成像系统之间还设置有色散系统，所述色散系统、所述准直系统与所述成像系统同轴设置；所述成像系统远离所述色散系统的一侧还设置有图像采集系统。

第二方面，提供了一种同轴自瞄准光谱测量方法，转轮上设置有滤光片和光源，所述转轮的一侧设置有成像系统；同轴自瞄准光谱测量方法包括以下步骤：将开启的所述光源转动至与成像系统同轴，使光源发出的光经过光纤和成像镜头入射至显示屏；关闭所述光源，将滤光片转动至与成像系统同轴，使光纤的出射光经过所述滤光片成像至所述成像系统。

一些实施例中，沿所述转轮的圆周分布有多个ND滤光片，多个所述ND滤光片的衰减倍率依次增大；所述将滤光片转动至与成像系统同轴，使光纤的出射光经过所述滤光片成像至所述成像系统，包括：将具有第一衰减倍率的ND滤光片转动至与成像系统同轴，并进行自动曝光；若无过曝且符合自动曝光策略，则进行正常光谱测量；若始终过曝则切换至具有第二衰减倍率的ND滤光片，再次自动曝光，其中，第二衰减倍率大于第一衰减倍率。

一些实施例中，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤，每根光纤均连接有成像镜头；在所述将开启的所述光源转动至与成像系统同轴，使光源发出的光经过光纤和成像镜头入射至显示屏之前，还包括：将多个所述成像镜头沿圆周排列，使多个所述成像镜头按照不同的视角对准显示屏。

一些实施例中，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤，每根光纤均连接有成像镜头；在所述将开启的所述光源转动至与成像系统同轴，使光源发出的光经过光纤和成像镜头入射至显示屏之前，还包括：将多个所述成像镜头按照不同的空间位置对准显示屏。

一些实施例中，在所述将开启的所述光源转动至与成像系统同轴，使光源发出的光经过光纤和成像镜头入射至显示屏之前，还包括：将多根所述光纤远离所述成像镜头的一端沿直线排列于所述转轮远离所述成像系统的一侧。

本发明提供的技术方案带来的有益效果包括：

本发明实施例提供了一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法，由于转轮上设置了光源，光源发出的光经过光纤和成像镜头可以打在显示屏上的光谱测量区域，使成像镜头与光谱测量区域对准，进行光路的瞄准，当关闭光源后，光纤的出射光可以经过滤光片成像至成像系统，实现光谱测量，瞄准光路与测量光路同轴，可实现光谱测量的高精度瞄准。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种同轴自瞄准光谱测量系统多视角光谱测量的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种同轴自瞄准光谱测量系统多点光谱测量的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种同轴自瞄准光谱测量系统的部分结构示意图。

图中：

1、转轮；11、滤光片；12、光源；

2、成像系统；3、光纤；31、第一段；32、第二段；4、成像镜头；

5、固定装置；6、准直系统；7、色散系统；8、图像采集系统；9、显示屏。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供了一种同轴自瞄准光谱测量系统及测量方法，其能解决相关技术中光谱测量的瞄准通常需要借助瞄准相机或外挂式光源瞄准，结构复杂且难以实现同轴瞄准的问题。

参见图1和图3所示，为本发明实施例提供的一种同轴自瞄准光谱测量系统，其可以包括：转轮1，其中，转轮1可以绕其轴线转动，所述转轮1的一侧可以设置有成像系统2；以及滤光片11和光源12，所述滤光片11和所述光源12至少其中之一安装于所述转轮1，也即，转轮1上可以设有一个安装位，在需要使用光源12时，可以将光源12安装于该安装位，当需要使用滤光片11时，可以将光源12拆卸下来，将滤光片11安装于该安装位，转轮1上也可以设有多个安装位，从而可以将光源12和滤光片11均安装至转轮1上，当使用光源12时将光源12打开，使用完后再关闭光源12；光纤3，其可以设置于所述转轮1的另一侧，也即光纤3和成像系统2分别设置于转轮1的相对两侧，所述光纤3远离所述转轮1的一端连接成像镜头4，其中，光纤3的一端连接于成像镜头4的像面位置，所述光纤3、所述滤光片11与所述成像系统2同轴设置，或者所述光纤3、所述光源12与所述成像系统2同轴设置；也就是说，当使用滤光片11时，光纤3、所述滤光片11与所述成像系统2是同轴的，当使用光源12时，光纤3、所述光源12与所述成像系统2是同轴的。

本实施例中，由于转轮1上即可以设置光源12又可以设置滤光片11，当转轮1上安装光源12后，光纤3、光源12与成像系统2是同轴的，光源12发出的光可以经过光纤3和成像镜头4进而打在显示屏9上的光谱测量区域，使成像镜头4与光谱测量区域对准，进行光路的瞄准，当关闭光源12并将转轮1上的滤光片11转至与光纤3、成像系统2同轴后，光纤3的出射光可以经过滤光片11成像至成像系统2，对显示屏9的测量区域实现光谱测量，由于瞄准光路与测量光路同轴，可实现光谱测量的高精度瞄准。

在一些实施例中，参见图1所示，所述同轴自瞄准光谱测量系统可以包括多根光纤3，每根光纤3均连接有成像镜头4，多个所述成像镜头4沿圆周排列，使得多个成像镜头4可以按照不同的视角对准显示屏9成像，可以对显示屏9的同一测量区域实现多视角光谱测量，且能够同时获取多视角光谱信息，提高测量效率。

在上述实施例中，多个成像镜头4沿圆周排列，在对准时，打开转轮1上的光源12，将光源12转至与成像系统2同轴，光源12发出的光可以经过多根光纤3和多个成像镜头4入射到显示屏9上，对于多视角光谱测量，由于多个成像镜头4安装在同一圆周，当多视角光斑中心重合时，即为对准状态，此时多个成像镜头4均对准显示屏9的同一区域，且多个成像镜头4的光斑区域即为光谱测量区域。

当关闭光源12，并将转轮1上的滤光片11转至与成像系统2同轴时，多个光纤3的出射光会经过滤光片11成像至成像系统2，进而可以获得多个视角的光谱信息。

在一些可选的实施例中，参见图2所示，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤3，每根光纤3均连接有成像镜头4，多个所述成像镜头4的空间位置不同，也即，多个成像镜头4是按照不同的空间位置对准显示屏9成像的，每个成像镜头4均可对准显示屏9上不同位置的测量区域，能够对显示屏9实现多点光谱测量，且可同时获取多点光谱信息，提高测量效率。

在上述实施例中，在对准时，打开转轮1上的光源12，将光源12转至与成像系统2同轴，光源12发出的光可以经过多根光纤3和多个成像镜头4入射到显示屏9上的不同位置，对于多点光谱测量，转轮1上的光源12打在显示屏9上的光斑区域即为光谱测量区域，每个成像镜头4对准光谱测量区域即为每个成像镜头4的对准状态。

当关闭光源12，并将转轮1上的滤光片11转至与成像系统2同轴时，多个光纤3的出射光会经过滤光片11成像至成像系统2，进而可以获得多点光谱信息。

进一步，参见图1和图2所示，所述光纤3可以包括互相连接的第一段31和第二段32，所述第一段31连接所述成像镜头4，其中，第一段31可以弯曲为任意状态，便于将成像镜头4移动至不同的位置，第一段31也可以与第二段32位于同一直线，多根所述光纤3的第二段32可以通过固定装置5固定，使多根所述第二段32沿直线排列于所述转轮1远离所述成像系统2的一侧，也即，第二段32靠近转轮1的一端是排列成一排的，使得多个光路在后续成像的过程中能够按顺序依次排列，不发生光路的交叉。

在一些可选的实施例中，参见图3所示，所述转轮1可以安装有多个所述滤光片11和所述光源12，也即转轮1上具有多个安装位，使得滤光片11和光源12均可以同时安装在转轮1上，在对滤光片11和光源12进行切换时，不需要将光源12或者滤光片11拆卸下来，实现便捷测量，并且多个所述滤光片11和所述光源12沿所述转轮1的圆周排列，通过旋转转轮1即可实现光源12和滤光片11的切换，使光源12或者滤光片11切换至与成像系统2同轴的状态；高效率的选择和切换滤光片对于提高测量效率十分重要，在安装有多个不同的滤光片11的条件下，经过转轮1控制，可以切换不同的滤光片11，可实现高动态范围测量。

进一步，参见图3所示，所述转轮1与所述成像系统2之间还可以设置有准直系统6，使光纤3的出射光经过准直系统6后变成平行光，所述准直系统6与所述成像系统2之间还设置有色散系统7，所述色散系统7、所述准直系统6与所述成像系统2同轴设置，使得光纤3的出射光经过准直系统6和色散系统7后能够成像至成像系统2；所述成像系统2远离所述色散系统7的一侧还可以设置有图像采集系统8，图像采集系统8位于成像系统2的像面，所述成像系统2可以将经过所述色散系统7的出射光成像到所述图像采集系统8，经过数据处理与分析得到光谱信息。

优选的，本实施例中提供的光源12可以选择LED光源12或者激光光源12等，滤光片11可以为ND（neutral density）滤光片11（中性密度滤光片）等，ND滤光片11可以降低光源亮度，使测量的亮度范围更广，沿所述转轮1的圆周可以分布有多个ND滤光片11，多个所述ND滤光片11的衰减倍率依次增大；其中，ND滤光片11的衰减倍率可以依次为1倍、10倍、100倍和1000倍。在实际应用中，有些显示屏可能很亮，比如MicroLED屏，亮度非常高，直接测量会超过CCD或CMOS的量程，通过衰减倍率为10倍、100倍或者1000倍的ND滤光片，可以把光源亮度对应地下降10倍、100倍或者1000倍，所以针对光源亮度可以设置匹配的ND滤光片。且滤光片11的数量可根据需求设置。且本实施例将多通道光谱测量、瞄准、滤光片11切换结合起来，实现显示屏9多点或多角度高动态范围光谱测量。

本发明实施例还提供了一种同轴自瞄准光谱测量方法，其中，转轮1上设置有滤光片11和光源12，所述转轮1的一侧设置有成像系统2，且本测量方法可以采用上述任一实施例中提供的光谱测量系统来实现；测量方法可以包括以下步骤：

步骤1：将开启的所述光源12转动至与成像系统2同轴，使光源12发出的光经过光纤3和成像镜头4入射至显示屏9。

其中，在步骤1之前，可以先把光源12安装至转轮1上。

步骤2：关闭所述光源12。此时，可以将光源12从转轮1上取下，也可以一直安装于转轮1上。

步骤3：将滤光片11转动至与成像系统2同轴，使光纤3的出射光经过所述滤光片11成像至所述成像系统2。

其中，于步骤3之前，可以将滤光片11安装至转轮1上。

本实施例中，通过光源12的设置，打开光源12可以形成与测量光路反向的瞄准光路，由于瞄准光路与测量光路同轴，可实现高精度瞄准和光谱测量。

进一步，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤3，每根光纤3均连接有成像镜头4；在步骤1之前，还可以包括：将多个所述成像镜头4沿圆周排列，使多个所述成像镜头4按照不同的视角对准显示屏9。本实施例中，沿圆周排列的多个成像镜头4可以对同一测量区域实现多视角光谱测量。在步骤1的对准步骤中，打开转轮1上的光源12，将光源12转到与成像系统2同轴状态，光源12发出的光经过光纤3、成像镜头4入射到显示屏9；对于多视角光谱测量，由于多个镜头安装在同一圆周，当多视角光斑中心重合时，即为对准状态，且光斑区域即为光谱测量区域。在步骤3的测量步骤中，可以根据显示屏9亮度将合适的滤光片11转到与成像系统2同轴状态；光纤3的出射光经过转轮1上的滤光片11、准直系统6、色散系统7、成像系统2后经过图像采集系统8成像，经过图像处理可得到多个视角的光谱信息。

进一步，在一些实施例中，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤3，每根光纤3均连接有成像镜头4；在步骤1之前，还可以包括：将多个所述成像镜头4按照不同的空间位置对准显示屏9。本实施例中，不同空间位置的多个成像镜头4可以对多个测量区域实现多点光谱测量。在步骤1的对准步骤中，打开转轮1上的光源12，将光源12转到与成像系统2同轴状态，光源12发出的光经过光纤3、成像镜头4入射到显示屏9；对于多点光谱测量，转轮1上的光源12打在显示屏9上的位置即为光谱测量区域；在步骤3的测量步骤中，可以根据显示屏9亮度将合适的滤光片11转到与成像系统2同轴状态；光纤3的出射光经过转轮1上的滤光片11、准直系统6、色散系统7、成像系统2后经过图像采集系统8成像，经过图像处理可得到多点的光谱信息。

在一些可选的实施例中，在步骤1之前，还可以包括：将多根所述光纤3远离所述成像镜头4的一端沿直线排列于所述转轮1远离所述成像系统2的一侧，使得多个光路在后续成像的过程中能够按顺序依次排列，不发生光路的交叉。

在一些实施例中，滤光片11优选为ND滤光片11，且沿所述转轮1的圆周分布有多个ND滤光片11，多个所述ND滤光片11的衰减倍率依次增大，比如衰减倍率可以依次为1倍、10倍、100倍和1000倍等；于步骤3中，所述将转轮1上的滤光片11转动至与成像系统2同轴，使光纤3的出射光经过所述滤光片11成像至所述成像系统2，可以包括：将具有第一衰减倍率的ND滤光片11转动至与成像系统2同轴，并进行自动曝光；若无过曝且符合自动曝光策略，则进行正常光谱测量；若始终过曝则切换至具有第二衰减倍率的ND滤光片11，再次自动曝光，并判断是否能进行正常测量，否则继续切换倍率更大的ND滤光片11；其中，第二衰减倍率大于第一衰减倍率。在进行实际测量时，可以先切换到1倍的ND滤光片11，自动曝光，若无过曝且符合自动曝光策略，则可正常测量；若始终过曝则切换到10倍的ND滤光片11，再次自动曝光，若无过曝且符合自动曝光策略，则可正常测量；若始终过曝则切换到100倍的ND滤光片11，再次自动曝光，若无过曝且符合自动曝光策略，则可正常测量；若始终过曝则切换到1000倍的ND滤光片11，再次自动曝光，若无过曝且符合自动曝光策略，则可正常测量；若依然过曝则说明测试目标超出量程，报错。

其中，在进行ND滤光片11的切换时，可以通过电机驱动控制转轮1旋转，根据需求，使不同衰减倍率的ND滤光片11的中心依次切换到光轴位置。

进一步，上述经过图像处理得到多点的光谱信息的方法可以包括：成像系统2将光成像到图像采集系统8，图像采集系统8包括二维图像传感器及图像后处理系统，二维图像传感器可以为二维面阵CCD图像传感器，可以为二维面阵CMOS图像传感器，也可以为二维PD阵列结构。二维图像传感器得到的二维空间光谱信息由图像后处理系统经过图像处理算法，即可还原得到多个视角或多个空间点中对应的光谱信息。

二维分布光中的各光线成像后，分别形成各自对应的一排光谱图，即对一维点阵光进行准直处理、色散处理以及聚焦处理后得到的二维分布光成像后，形成多排光谱图，即二维空间光谱图；其中，二维空间光谱图对应的二维空间光谱信息包括空间维信息和光谱维信息，空间维信息用于表明二维分布光中的各光线对应多点或多视角中的每一个空间点，光谱维信息则是二维分布光中的各光线对应的光谱信息。

本测量方法在转轮1上安装光源12，经过同轴光源12，可实现高精度位置瞄准和角度对准。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

需要说明的是，在本发明中，诸如“第一”和“第二”等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本发明的具体实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所申请的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于，其包括：

转轮（1），所述转轮（1）的一侧设置有成像系统（2）；

以及滤光片（11）和光源（12），所述滤光片（11）和所述光源（12）至少其中之一安装于所述转轮（1）；

光纤（3），其设置于所述转轮（1）的另一侧，所述光纤（3）远离所述转轮（1）的一端连接成像镜头（4），当滤光片（11）安装于所述转轮（1）时，所述光纤（3）、所述滤光片（11）与所述成像系统（2）同轴设置；或者当光源（12）安装于所述转轮（1）时，所述光纤（3）、所述光源（12）与所述成像系统（2）同轴设置，且光源（12）发出的光可经过光纤（3）和成像镜头（4）入射至显示屏（9）。

2.如权利要求1所述的同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于：

所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤（3），每根光纤（3）均连接有成像镜头（4），多个所述成像镜头（4）沿圆周排列。

3.如权利要求1所述的同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于：

所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤（3），每根光纤（3）均连接有成像镜头（4），多个所述成像镜头（4）的空间位置不同。

4.如权利要求2或3所述的同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于：

所述光纤（3）包括互相连接的第一段（31）和第二段（32），所述第一段（31）连接所述成像镜头（4），多根所述光纤（3）的第二段（32）通过固定装置（5）固定，使多根所述第二段（32）沿直线排列于所述转轮（1）远离所述成像系统（2）的一侧。

5.如权利要求1所述的同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于：

所述转轮（1）安装有多个所述滤光片（11）和所述光源（12），多个所述滤光片（11）和所述光源（12）沿所述转轮（1）的圆周排列。

6.如权利要求5所述的同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于：

沿所述转轮（1）的圆周分布有多个ND滤光片（11），多个所述ND滤光片（11）的衰减倍率依次增大。

7.如权利要求1所述的同轴自瞄准光谱测量系统，其特征在于：

所述转轮（1）与所述成像系统（2）之间还设置有准直系统（6），所述准直系统（6）与所述成像系统（2）之间还设置有色散系统（7），所述色散系统（7）、所述准直系统（6）与所述成像系统（2）同轴设置；所述成像系统（2）远离所述色散系统（7）的一侧还设置有图像采集系统（8）。

8.一种同轴自瞄准光谱测量方法，其特征在于，

转轮（1）上设置有滤光片（11）和光源（12），所述转轮（1）的一侧设置有成像系统（2）；

将开启的所述光源（12）转动至与成像系统（2）同轴，使光源（12）发出的光经过光纤（3）和成像镜头（4）入射至显示屏（9）；

关闭所述光源（12），将滤光片（11）转动至与成像系统（2）同轴，使光纤（3）的出射光经过所述滤光片（11）成像至所述成像系统（2）。

9.如权利要求8所述的测量方法，其特征在于，

沿所述转轮（1）的圆周分布有多个ND滤光片（11），多个所述ND滤光片（11）的衰减倍率依次增大；

所述将滤光片（11）转动至与成像系统（2）同轴，使光纤（3）的出射光经过所述滤光片（11）成像至所述成像系统（2），包括：

将具有第一衰减倍率的ND滤光片（11）转动至与成像系统（2）同轴，并进行自动曝光；

若无过曝且符合自动曝光策略，则进行正常光谱测量；若始终过曝则切换至具有第二衰减倍率的ND滤光片（11），再次自动曝光，其中，第二衰减倍率大于第一衰减倍率。

10.如权利要求9所述的测量方法，其特征在于，所述同轴自瞄准光谱测量系统包括多根光纤（3），每根光纤（3）均连接有成像镜头（4）；

在所述将开启的所述光源（12）转动至与成像系统（2）同轴，使光源（12）发出的光经过光纤（3）和成像镜头（4）入射至显示屏之前，还包括：

将多个所述成像镜头（4）沿圆周排列，使多个所述成像镜头（4）按照不同的视角对准显示屏（9）。

Images