CN114815007B - 一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法 - Google Patents
一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114815007B CN114815007B CN202210256445.0A CN202210256445A CN114815007B CN 114815007 B CN114815007 B CN 114815007B CN 202210256445 A CN202210256445 A CN 202210256445A CN 114815007 B CN114815007 B CN 114815007B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- protective layer
- processed
- fresnel lens
- etching
- continuous
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 58
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 31
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 9
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000012788 optical film Substances 0.000 claims description 4
- 239000003223 protective agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 4
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 3
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 claims description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims 1
- 230000008569 process Effects 0.000 abstract description 7
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 4
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N Fluoroform Chemical compound FC(F)F XPDWGBQVDMORPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- -1 acryl Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
- G02B3/0018—Reflow, i.e. characterized by the step of melting microstructures to form curved surfaces, e.g. manufacturing of moulds and surfaces for transfer etching
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
- G02B3/0031—Replication or moulding, e.g. hot embossing, UV-casting, injection moulding
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/02—Simple or compound lenses with non-spherical faces
- G02B3/08—Simple or compound lenses with non-spherical faces with discontinuous faces, e.g. Fresnel lens
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
Abstract
本发明涉及一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，解决了传统的菲涅尔透镜制作工艺加工成本高，生产周期长，难以获得连续浮雕轮廓的问题。本发明提供的制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，可以在不使用常规套刻掩模版的情况下，快速高效地制作具有连续浮雕结构的菲涅尔透镜。本发明工艺流程简单，掩蔽层制作灵活，加工精度高，克服了传统技术在制作菲涅尔透镜的过程中存在各掩模版对准误差大、加工效率低、制作成本高、无法快速获得连续浮雕轮廓的问题。
Description
技术领域
本发明属于光学元件加工制造领域，具体涉及一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法。
背景技术
在菲涅尔透镜的制作方法上，普遍采用由二元掩模版经多次图形转印、套刻，形成台阶式浮雕表面的制作方法；或者采用直写法，通过改变曝光强度直接在器件表面形成连续浮雕轮廓；亦或者采用灰阶掩模图形转印法，使用透射率为多层次分布的掩模版，经一次图形转印来形成可连续或台阶表面结构。多次转印与套刻的制作方法工序复杂，套刻误差大，通过多台阶浮雕的轮廓去接近连续浮雕轮廓的形式加工误差明显，容易降低透镜的光学性能。而采用变剂量曝光的直写法存在技术壁垒高、制作成本大、不易进行推广的缺点，灰阶掩模图形转印法存在掩模制造成本高、掩模版设计加工时间长，掩模版通用性弱的问题。
发明内容
本发明要解决的技术问题为：克服传统的菲涅尔透镜制作方法套刻误差大、掩模版通用性若、成本高的问题，实现连续浮雕菲涅尔透镜低成本、高效率的制作加工，本发明提供一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法。
为实现上述目的，本发明所采取的技术方案如下：
一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，包括以下步骤：
步骤1：采用干涉仪测量待加工普通折射透镜1表面面形轮廓数据的三维空间分布；
步骤2：在面形测量数据分析软件中读出步骤1中的面形轮廓数据三维空间分布的x、y、 z值；x、y分别为横纵轴的坐标，z为面形轮廓的高度值；
步骤3：选定一个z值，令此z值对应的数据集区域为被加工区域2与非加工区域3的分界线4；
步骤4：在待加工普通折射透镜1的表面制作防护层5，并基于步骤3中被加工区域2与非加工区域3的分布对防护层5进行区域划分，被加工区域2的上方区域覆盖的防护层为可撕防护层6，非加工区域3的上方区域覆盖的防护层为贴合防护层7；
步骤5：选取工艺参数，采用激光源8所发出的激光束9对步骤4中贴合防护层7与可撕防护层6的交界区域进行扫描，对贴合防护层7与可撕防护层6进行激光裁剪；
步骤6：将被裁剪后的可撕防护层6从待加工普通折射透镜1的表面上移除；
步骤7：将表面覆盖有贴合防护层7的待加工普通折射透镜1放入刻蚀设备，选取工艺参数，设置相应的加工条件，对被加工区域2进行刻蚀加工；
步骤8：去除待加工普通折射透镜1表面的贴合防护层7；
步骤9：重复步骤3至步骤8，直至待加工普通折射透镜1被刻蚀成符合使用要求的连续浮雕菲涅尔透镜。
进一步地，步骤1中所述待加工普通折射透镜1的材料包括但不限于二氧化硅、微晶玻璃、亚克力等刚性光学基底以及聚酰亚胺、聚对苯二甲酸二甲酯等柔性光学薄膜。
进一步地，步骤1中所述待加工普通折射透镜1的表面可带有增透膜或增反膜或其它光学薄膜。
进一步地，步骤1中所述待加工普通折射透镜1的三维空间分布的面形数据为投射波前误差或反射波前误差或理论上的三维模型数据。
进一步地，步骤3中所述z值应满足zmin<z＝zmax-n*λ，其中zmax为面形数据中的最大z 值，zmin为面形数据中的最小z值，λ为所需被调制光波相位对应的浮雕高度，n为此时正在准备进行第几次刻蚀的次数。
进一步地，步骤4中所述防护层5紧密覆盖在待加工普通折射透镜1的表面，其材质包括但不限于柔性薄膜、First Contact清洁保护剂、特制的光学元件清洁保护胶。
进一步地，步骤4中所述制作防护层5，其制作方法包括但不限于旋涂、喷涂、刷涂。
进一步地，步骤5中所述激光源8包括但不限于具备红外激光光源、光纤激光光源、UV 激光光源、CO2激光光源、或混合式激光光源的激光设备。
进一步地，步骤6中所述将被裁剪后可撕防护层6从待加工普通折射透镜1的表面上移除，其移除方式包括但不限于揭膜贴胶粘黏附、静电吸引、酒精或丙酮擦拭、特制的移除工装。
进一步地，步骤7中所述刻蚀加工，刻蚀加工的深度满足H＝λ，其中H为刻蚀深度。
进一步地，步骤7中所述刻蚀加工，所采用的刻蚀方法包括但不限于容性耦合等离子体刻蚀、感应耦合等离子体刻蚀、反应离子刻蚀、离子束刻蚀。
本发明与现有技术相比的优点在于：
(1)本发明可以避免使用价格昂贵的灰阶掩膜版或直写方法来获得具有连续浮雕结构的衍射透镜，是一种低成本制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法。
(2)本发明可以避免通过多个掩模版进行转印、套刻所带来的复杂工序，能够减少套刻误差，降低制作掩模版所花费的时间，是一种高效制作具有连续浮雕结构的菲涅尔透镜的方法。
(3)本发明通过激光束对涂覆的防护层进行裁剪，去除可撕防护层，留下贴合防护层，能够降低传统曝光转印工艺中所产生的光线衍射误差，且通过激光束进行裁剪的方式灵活度高，这进一步扩宽了本发明在制作各种不同连续浮雕衍射透镜方面的应用范围。
附图说明
图1(a)为一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法待加工普通折射透镜样片的准备步骤示意图；图1(b)为表面防护层制作步骤示意图；图1(c)为表面防护层激光束裁剪步骤示意图；图1(d)为表面可撕防护层移除步骤示意图。
图2(a)为基于本发明通过1次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜示意图；图2(b)为基于本发明通过2次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜示意图；图2(c)为基于本发明通过3次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜示意图。
其中：1—待加工普通折射透镜；2—被加工区域；3—非加工区域；4—分界线；5—防护层；6—可撕防护层；7—贴合防护层；8—激光源；9—激光束；10—通过1次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜；11—通过2次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜；12—通过3次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜。
具体实施方式
下面结合附图以及具体实施方式进一步说明本发明。
结合一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法示意图的图1-图2，详细说明一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法的原理和工艺步骤。
实施例中一些工艺条件设置如下：待加工普通折射透镜的材料为二氧化硅，防护层为进口First Contact清洁保护剂，喷涂厚度为500纳米，刻蚀所用方法为反应离子刻蚀，反应气体为氧气与三氟甲烷，流量比为1:1.9，刻蚀功率为800瓦，刻蚀腔压为1.5帕，刻蚀设备为国产单频容性耦合反应离子刻蚀设备，激光源为进口三轴UV激光刻印机。
具体工艺过程包括：
步骤1：采用干涉仪测量待加工普通折射透镜1表面面形轮廓数据的三维空间分布；
步骤2：在面形测量数据分析软件中读出面形轮廓数据三维空间分布的x、y、z值，x、y分别为横纵轴的坐标，z为面形轮廓的高度值；
步骤3：选定一个z值，令zmin<z＝zmax-n*λ，其中zmax为面形轮廓数据中的最大z值，zmin为面形轮廓数据中的最小z值，λ为所需被调制光波相位对应的浮雕高度，n为此时正在准备进行第几次刻蚀的次数，本实施例中，λ为632.8纳米，第1次刻蚀时的z值为z＝zmax-632.8，令z值对应的数据集区域为被加工区域2与非加工区域3的分界线4；
步骤4：在待加工普通折射透镜1的表面上均匀喷涂材料为First Contact清洁保护剂的防护层5，使之厚度为500纳米，并基于步骤3中被加工区域2与非加工区域3的分布对防护层5进行区域划分，被加工区域2的上方区域覆盖的防护层为可撕防护层6，非加工区域3的上方区域覆盖的防护层为贴合防护层7；
步骤5：待喷涂的防护层液体凝固并形成为一张薄膜膜层覆盖于待加工普通折射透镜1 的表面后，采用三轴UV激光刻印机所发出的激光束9对贴合防护层7与可撕防护层6的交界区域进行扫描刻印，将贴合防护层7与可撕防护层6进行激光裁剪，使得可撕防护层6从防护层5中被分开；
步骤6：使用揭膜贴将被裁剪后的可撕防护层6从待加工普通折射透镜1的表面上移除；
步骤7：将表面覆盖有贴合防护层7的待加工普通折射透镜1放入单频容性耦合反应离子刻蚀设备中，对被加工区域2进行刻蚀加工，刻蚀深度为632.8纳米；
步骤8：使用揭膜贴将待加工普通折射透镜1表面的贴合防护层7进行移除，得到通过 1次刻蚀后制作的连续浮雕菲涅尔透镜10；
步骤9：连续两次重复步骤3至步骤8，分别得到具有连续浮雕特征的菲涅尔透镜11和 12。
显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。
Claims (9)
1.一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：采用干涉仪测量待加工普通折射透镜(1)表面面形轮廓数据的三维空间分布；
步骤2：在面形测量数据分析软件中读出步骤1中的面形轮廓数据三维空间分布的x、y、z值；x、y分别为横纵轴的坐标，z为面形轮廓的高度值；
步骤3：选定一个z值，令此z值对应的数据集区域为被加工区域(2)与非加工区域(3)的分界线(4)；其中所述z值应满足zmin<z＝zmax-n*λ，其中zmax为面形数据中的最大z值，zmin为面形数据中的最小z值，λ为所需被调制光波相位对应的浮雕高度，n为此时正在准备进行第几次刻蚀的次数；
步骤4：在待加工普通折射透镜(1)的表面制作防护层(5)，并基于步骤3中被加工区域(2)与非加工区域(3)的分布对防护层(5)进行区域划分，被加工区域(2)的上方区域覆盖的防护层为可撕防护层(6)，非加工区域(3)的上方区域覆盖的防护层为贴合防护层(7)；
步骤5：选取工艺参数，采用激光源(8)所发出的激光束(9)对步骤4中贴合防护层(7)与可撕防护层(6)的交界区域进行扫描，对贴合防护层(7)与可撕防护层(6)进行激光裁剪；
步骤6：将被裁剪后的可撕防护层(6)从待加工普通折射透镜(1)的表面上移除；
步骤7：将表面覆盖有贴合防护层(7)的待加工普通折射透镜(1)放入刻蚀设备，选取工艺参数，设置相应的加工条件，对被加工区域(2)进行刻蚀加工；所述刻蚀加工的深度满足H＝λ，其中H为刻蚀深度；
步骤8：去除待加工普通折射透镜(1)表面的贴合防护层(7)；
步骤9：重复步骤3至步骤8，直至待加工普通折射透镜(1)被刻蚀成符合使用要求的连续浮雕菲涅尔透镜。
2.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤1中所述待加工普通折射透镜(1)的材料包括二氧化硅、微晶玻璃或亚克力刚性光学基底以及聚酰亚胺或聚对苯二甲酸二甲酯柔性光学薄膜。
3.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤1中所述待加工普通折射透镜(1)的表面可带有增透膜或增反膜或其它光学薄膜。
4.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤1中所述待加工普通折射透镜(1)的三维空间分布的面形数据为投射波前误差或反射波前误差或理论上的三维模型数据。
5.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤4中所述防护层(5)紧密覆盖在待加工普通折射透(1)的表面，其材质包括柔性薄膜、FirstContact清洁保护剂或光学元件清洁保护胶。
6.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤4中所述制作防护层(5)，其制作方法包括旋涂、喷涂或刷涂。
7.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤5中所述激光源(8)包括具备红外激光光源、光纤激光光源、UV激光光源、CO2激光光源、或混合式激光光源的激光设备。
8.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：步骤6中所述将被裁剪后可撕防护层(6)从待加工普通折射透镜(1)的表面上移除，其移除方式包括揭膜贴胶粘黏附、静电吸引、酒精或丙酮擦拭或特制的移除工装。
9.根据权利要求1所述的一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法，其特征在于：
步骤7中所述刻蚀加工，所采用的刻蚀方法包括容性耦合等离子体刻蚀、感应耦合等离子体刻蚀、反应离子刻蚀或离子束刻蚀。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210256445.0A CN114815007B (zh) | 2022-03-16 | 2022-03-16 | 一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210256445.0A CN114815007B (zh) | 2022-03-16 | 2022-03-16 | 一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114815007A CN114815007A (zh) | 2022-07-29 |
| CN114815007B true CN114815007B (zh) | 2023-06-30 |
Family
ID=82529496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210256445.0A Active CN114815007B (zh) | 2022-03-16 | 2022-03-16 | 一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114815007B (zh) |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2713550B2 (ja) * | 1994-05-18 | 1998-02-16 | 松下電器産業株式会社 | 赤外用回折型レンズ |
| US6545807B2 (en) * | 1999-12-28 | 2003-04-08 | Pentax Corporation | Refractive-diffractive hybrid lens |
| CZ2004869A3 (cs) * | 2004-08-06 | 2006-03-15 | Optaglio S. R .O. | Zpusob vytvorení trojrozmerného obrazu, difraktivní prvek a zpusob jeho vytvorení |
| WO2014073299A1 (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-15 | シャープ株式会社 | フレネルレンズおよびその製造方法、ならびに、センシングデバイス |
| US10852460B2 (en) * | 2017-08-04 | 2020-12-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Diffraction optical element, manufacturing method thereof, and optical apparatus |
| WO2020014203A1 (en) * | 2018-07-09 | 2020-01-16 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | An optical device comprising a multi-order diffractive fresnel lens (mod-dfl) and an achromatizing compensation mechanism |
| CN111474610B (zh) * | 2020-05-19 | 2021-09-21 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种制备连续面形菲涅尔透镜的方法 |
-
2022
- 2022-03-16 CN CN202210256445.0A patent/CN114815007B/zh active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114815007A (zh) | 2022-07-29 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7662544B2 (en) | Method for manufacturing a master, master, method for manufacturing optical elements and optical element | |
| JP7179063B6 (ja) | 導波結合器のダイレクトエッチング製造の方法 | |
| US6958207B1 (en) | Method for producing large area antireflective microtextured surfaces | |
| CN103257383B (zh) | 一种可变闪耀角的闪耀光栅和双闪耀光栅制备方法及产品 | |
| JP2001235611A (ja) | ホログラフィック・グレーティング | |
| GB2360971A (en) | Technique for microstructuring replication moulds | |
| CN102004277B (zh) | 滤光元件制造方法 | |
| CN102540284A (zh) | 基于负性光刻胶和掩膜移动曝光工艺的微透镜阵列制备方法 | |
| TWI785482B (zh) | 超穎表面塗層 | |
| CN114966929B (zh) | 拼版工作模板及其制作方法、批量制作衍射光栅的方法 | |
| CN114913558B (zh) | 微透镜阵列成像组件的制备方法 | |
| CN112060422A (zh) | 一种贴合式菲林模具的制作工艺 | |
| US20090267245A1 (en) | Transmission Type Optical Element | |
| CN105359255A (zh) | 反射型光掩模及其制造方法 | |
| JP5182097B2 (ja) | 光導波路モジュールの製造方法 | |
| CN114488365A (zh) | 一种远红外超透镜及其加工方法 | |
| CN114815007B (zh) | 一种制作连续浮雕菲涅尔透镜的方法 | |
| US7900478B2 (en) | Method of manufacturing an ultrathin optical element | |
| JP4507928B2 (ja) | ホログラフィックグレーティング製造方法 | |
| CN113900354B (zh) | 纳米压印胶层的制作方法和光学元件 | |
| CN106707715A (zh) | 一种半导体器件及其制作方法 | |
| KR20080069926A (ko) | 마이크로렌즈를 형성하기 위한 다단식의 리소그래피를이용한 그레이스케일 레티클의 제조 방법 | |
| CN218974691U (zh) | 一种浸没式连续面型衍射分束器 | |
| CN110609344B (zh) | 表面浮雕光栅结构的制作方法 | |
| JP4279598B2 (ja) | 屈折率分布型レンズの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |