CN114751930A - 一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法 - Google Patents
一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114751930A CN114751930A CN202210538855.4A CN202210538855A CN114751930A CN 114751930 A CN114751930 A CN 114751930A CN 202210538855 A CN202210538855 A CN 202210538855A CN 114751930 A CN114751930 A CN 114751930A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- hexamethyldisiloxane
- fraction
- waste solvent
- solvent containing
- acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 89
- 239000010887 waste solvent Substances 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- 238000010992 reflux Methods 0.000 claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000004821 distillation Methods 0.000 claims abstract description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 8
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 claims description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 abstract description 5
- 229940073561 hexamethyldisiloxane Drugs 0.000 description 36
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 13
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 9
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000002910 solid waste Substances 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N methoxysilane Chemical compound CO[SiH3] ARYZCSRUUPFYMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/20—Purification, separation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
Abstract
本发明公开了一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,包括以下步骤:向反应釜中加入废溶剂,缓慢升温进行常压蒸馏至80℃,收集80℃之前采出的低沸点馏分;停止加热后降温,剩余釜残直接进行焚烧处理;将得到的低沸点馏分加入反应釜中,加入水搅拌,静置分层,得上层液和下层液;将得到的上层液加入混合酸和水,升温回流;降温至室温后分层,得上层液和下层液;将得到的上层液进行精馏;升温至回流状态,采集42‑99℃馏分,此为前馏分;继续加热,采集99‑100℃馏分,此为合格馏分。本发明解决了废液难处理的问题,又回收了大量硅醚,增加了效益。
Description
技术领域
本发明属于废液回收处理技术领域,特别是涉及一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法。
背景技术
六甲基二硅氧烷作为封头剂、清洗剂、脱膜剂,主要用于有机化工及医药生产中;作为憎水剂、绝缘材料及防潮剂,主要用于仪器仪表循环冷却液和制造各类有机硅产品;也作憎水剂,用于纤维织物表面处理,无线电零件的绝缘防潮;还用于气相色谱固定液,用作硅油生产中的封头剂;也可用作硅氮烷原料;用于硅橡胶、药品、气相色谱固定液、分析试剂、憎水剂等,回收价值高。
有机溶液中含有三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷,两者共沸,通过直接精馏难以分开,直接排放会危害环境造成污染,且会造成原料的浪费,通常用焚烧炉焚烧的方法,但会生成二氧化硅,固废量明显增多,造成了成本增加,耽误生产时间。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,将含三甲基硅甲醚、六甲基二硅氧烷的废溶剂通过水解、精馏的方法,将其中的三甲基硅甲醚水解为六甲基二硅氧烷,既解决了废液难处理的问题,又回收了大量硅醚,增加了效益;剩余釜残中因为没有含硅物质,直接焚烧后仅会生成二氧化碳,不会产生二氧化硅,大大减少了固废的产生。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,包括以下步骤:
(1)向反应釜中加入废溶剂,缓慢升温进行常压蒸馏至80℃,收集80℃之前采出的低沸点馏分;
(2)停止加热后降温,剩余釜残直接进行焚烧处理;
(3)将步骤(1)中得到的低沸点馏分加入反应釜中,加入水搅拌,静置分层,得上层液和下层液;
(4)将步骤(3)得到的上层液加入混合酸和水,升温回流;
(5)降温至室温后分层,得上层液和下层液;
(6)将步骤(5)得到的上层液进行精馏;
(7)升温至回流状态,采集42-99℃馏分,此为前馏分;
(8)继续加热,采集99-100℃馏分,此为合格馏分;
(9)反应完毕,得到的合格馏分六甲基二硅氧烷含量均在99%以上,得到的六甲基二硅氧烷为合格的六甲基二硅氧烷,可以进行后续的实验,且能得到合格的产品。
进一步地说,步骤(3)中,低沸点馏分和水的体积添加比为0.5-1.5:1。
进一步地说,步骤(3)中,搅拌速率为300-400r/min。
进一步地说,步骤(3)中,所述上层液、所述混合酸和所述水的体积添加比为1:1:5。
进一步地说,步骤(4)中,所述混合酸的pH=1。
进一步地说,步骤(4)中,所述混合酸包括硫酸、盐酸、醋酸和硝酸。
进一步地说,所述硫酸的浓度为45-50%,所述盐酸的浓度为20-25%,所述醋酸的浓度为1-3%,所述硝酸的浓度为30-35%。
进一步地说,所述硫酸、所述盐酸、所述醋酸和所述硝酸的体积添加比为4:4:0.8:1。
进一步地说,步骤(4)中,回流时间为3-5h。
进一步地说,步骤(6)中,精馏时的回流比为3:1。
本发明的有益效果至少具有以下几点:
1、本发明不同于常规的处理方法,焚烧处理前,将溶液中的含硅溶剂全部回收,焚烧后不会再生成二氧化硅,减少了固废的生成;
2、本发明将其中的三甲基硅甲醚水解为六甲基二硅氧烷,通过精馏,将三甲基硅甲醚、六甲基二硅氧烷全部回收,得到可以直接使用的高纯度的六甲基二硅氧烷。
具体实施方式
下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
将某含三甲基硅甲醚、六甲基二硅氧烷等有机溶液的废溶剂作为处理对象,本发明实施例所用的废液中含六甲基二硅氧烷4%左右,含三甲基硅甲醚20%左右。
实施例1:
(1)向反应釜中加入废溶剂,缓慢升温进行常压蒸馏至80℃,收集80℃之前采出的低沸点馏分,馏分取样检测,含三甲基硅甲醚、六甲基二硅氧烷及低沸点的有机溶剂;
(2)停止加热后降温,剩余釜残直接进行焚烧处理,剩余釜残中仅含有高沸点有机溶剂;
(3)将步骤(1)中得到的低沸点馏分加入反应釜中,按照体积添加比为0.5:1加入水以300r/min搅拌30min,静置分层,得上层液(有机层)和下层液(水层),取样检测,有机层为三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷和少量有机溶剂;
(4)将步骤(3)得到的上层液加入混合酸和水,体积添加比为1:1:5,混合酸的pH=1,所述混合酸包括硫酸、盐酸、醋酸和硝酸,所述硫酸的浓度为45%,所述盐酸的浓度为20%,所述醋酸的浓度为1%,所述硝酸的浓度为30%,所述硫酸、所述盐酸、所述醋酸和所述硝酸的体积添加比为4:4:0.8:1,升温回流3h;
(5)降温至室温后分层,得上层液(有机层)和下层液(水层),取样检测,上层为六甲基二硅氧烷和少量有机溶剂,无三甲基硅甲醚,全部水解完成;
(6)将步骤(5)得到的上层液进行精馏,精馏时的回流比为3:1;
(7)升温至回流状态,采集42-99℃馏分,此为前馏分;
(8)继续加热,采集99-100℃馏分,此为合格馏分;
(9)将合格馏分送样检测六甲基二硅氧烷含量。
实施例2:
(1)向反应釜中加入废溶剂,缓慢升温进行常压蒸馏至80℃,收集80℃之前采出的低沸点馏分,馏分取样检测,含三甲基硅甲醚、六甲基二硅氧烷及低沸点的有机溶剂;
(2)停止加热后降温,剩余釜残直接进行焚烧处理,剩余釜残中仅含有高沸点有机溶剂;
(3)将步骤(1)中得到的低沸点馏分加入反应釜中,按照体积添加比为1:1加入水以350r/min搅拌30min,静置分层,得上层液(有机层)和下层液(水层),取样检测,有机层为三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷和少量有机溶剂;
(4)将步骤(3)得到的上层液加入混合酸和水,体积添加比为1:1:5,混合酸的pH=1,所述混合酸包括硫酸、盐酸、醋酸和硝酸,所述硫酸的浓度为48%,所述盐酸的浓度为23%,所述醋酸的浓度为2%,所述硝酸的浓度为34%,所述硫酸、所述盐酸、所述醋酸和所述硝酸的体积添加比为4:4:0.8:1,升温回流4h;
(5)降温至室温后分层,得上层液(有机层)和下层液(水层),取样检测,上层为六甲基二硅氧烷和少量有机溶剂,无三甲基硅甲醚,全部水解完成;
(6)将步骤(5)得到的上层液进行精馏,精馏时的回流比为3:1;
(7)升温至回流状态,采集42-99℃馏分,此为前馏分;
(8)继续加热,采集99-100℃馏分,此为合格馏分;
(9)将合格馏分送样检测六甲基二硅氧烷含量。
实施例3:
(1)向反应釜中加入废溶剂,缓慢升温进行常压蒸馏至80℃,收集80℃之前采出的低沸点馏分,馏分取样检测,含三甲基硅甲醚、六甲基二硅氧烷及低沸点的有机溶剂;
(2)停止加热后降温,剩余釜残直接进行焚烧处理,剩余釜残中仅含有高沸点有机溶剂;
(3)将步骤(1)中得到的低沸点馏分加入反应釜中,按照体积添加比为1.5:1加入水以400r/min搅拌30min,静置分层,得上层液(有机层)和下层液(水层),取样检测,有机层为三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷和少量有机溶剂;
(4)将步骤(3)得到的上层液加入混合酸和水,体积添加比为1:1:5,混合酸的pH=1,所述混合酸包括硫酸、盐酸、醋酸和硝酸,所述硫酸的浓度为50%,所述盐酸的浓度为25%,所述醋酸的浓度为3%,所述硝酸的浓度为35%,所述硫酸、所述盐酸、所述醋酸和所述硝酸的体积添加比为4:4:0.8:1,升温回流5h;
(5)降温至室温后分层,得上层液(有机层)和下层液(水层),取样检测,上层为六甲基二硅氧烷和少量有机溶剂,无三甲基硅甲醚,全部水解完成;
(6)将步骤(5)得到的上层液进行精馏,精馏时的回流比为3:1;
(7)升温至回流状态,采集42-99℃馏分,此为前馏分;
(8)继续加热,采集99-100℃馏分,此为合格馏分;
(9)将合格馏分送样检测六甲基二硅氧烷含量。
分别对原料废溶剂以及实施例1-3所产生的六甲基二硅氧烷进行气相色谱检测,获得如下数据:
组分 | 原料 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 |
三甲基硅甲醚(%) | 14.38 | / | / | / |
六甲基二硅氧烷(%) | 4.18 | 99.92 | 99.93 | 99.96 |
其他有机溶剂(%) | 81.44 | 0.08 | 0.07 | 0.04 |
以上数据不难看出,采用本发明的处理方法能够得到高纯度的六甲基二硅氧烷,同时将三甲基硅甲醚水解为六甲基二硅氧烷,处理方法更简单,回收率高。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:包括以下步骤:
(1)向反应釜中加入废溶剂,缓慢升温进行常压蒸馏至80℃,收集80℃之前采出的低沸点馏分;
(2)停止加热后降温,剩余釜残直接进行焚烧处理;
(3)将步骤(1)中得到的低沸点馏分加入反应釜中,加入水搅拌,静置分层,得上层液和下层液;
(4)将步骤(3)得到的上层液加入混合酸和水,升温回流;
(5)降温至室温后分层,得上层液和下层液;
(6)将步骤(5)得到的上层液进行精馏;
(7)升温至回流状态,采集42-99℃馏分,此为前馏分;
(8)继续加热,采集99-100℃馏分,此为合格馏分;
(9)反应完毕,得到的合格馏分六甲基二硅氧烷含量均在99%以上,得到的六甲基二硅氧烷为合格的六甲基二硅氧烷,可以进行后续的实验,且能得到合格的产品。
2.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(3)中,低沸点馏分和水的体积添加比为0.5-1.5:1。
3.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(3)中,搅拌速率为300-400r/min。
4.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(3)中,所述上层液、所述混合酸和所述水的体积添加比为1:1:5。
5.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(4)中,所述混合酸的pH=1。
6.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(4)中,所述混合酸包括硫酸、盐酸、醋酸和硝酸。
7.根据权利要求6所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:所述硫酸的浓度为45-50%,所述盐酸的浓度为20-25%,所述醋酸的浓度为1-3%,所述硝酸的浓度为30-35%。
8.根据权利要求7所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:所述硫酸、所述盐酸、所述醋酸和所述硝酸的体积添加比为4:4:0.8:1。
9.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(4)中,回流时间为3-5h。
10.根据权利要求1所述的一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法,其特征在于:步骤(6)中,精馏时的回流比为3:1。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210538855.4A CN114751930A (zh) | 2022-05-17 | 2022-05-17 | 一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202210538855.4A CN114751930A (zh) | 2022-05-17 | 2022-05-17 | 一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114751930A true CN114751930A (zh) | 2022-07-15 |
Family
ID=82334712
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202210538855.4A Pending CN114751930A (zh) | 2022-05-17 | 2022-05-17 | 一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114751930A (zh) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4210496A (en) * | 1978-06-07 | 1980-07-01 | Arthur G. Mckee & Company | Distillation process for recovery of hexamethyl disiloxane |
CN1139443A (zh) * | 1993-12-28 | 1997-01-01 | 多摩化学工业株式会社 | 从聚有机硅氧烷回收有机烷氧基甲硅烷的方法 |
CN102604099A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-07-25 | 山东大学 | 一种有效处理工业废料正丙基三官能基硅烷的方法 |
CN103539810A (zh) * | 2013-10-23 | 2014-01-29 | 泸州北方化学工业有限公司 | 有机硅低沸物的处理方法 |
CN109503649A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-03-22 | 山东硅科新材料有限公司 | 一种高纯度三甲基甲氧基硅烷的制备工艺 |
CN111004267A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-04-14 | 杭州崇耀科技发展有限公司 | 一种六甲基二硅氧烷的制备方法 |
-
2022
- 2022-05-17 CN CN202210538855.4A patent/CN114751930A/zh active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4210496A (en) * | 1978-06-07 | 1980-07-01 | Arthur G. Mckee & Company | Distillation process for recovery of hexamethyl disiloxane |
CN1139443A (zh) * | 1993-12-28 | 1997-01-01 | 多摩化学工业株式会社 | 从聚有机硅氧烷回收有机烷氧基甲硅烷的方法 |
CN102604099A (zh) * | 2012-01-12 | 2012-07-25 | 山东大学 | 一种有效处理工业废料正丙基三官能基硅烷的方法 |
CN103539810A (zh) * | 2013-10-23 | 2014-01-29 | 泸州北方化学工业有限公司 | 有机硅低沸物的处理方法 |
CN109503649A (zh) * | 2018-12-27 | 2019-03-22 | 山东硅科新材料有限公司 | 一种高纯度三甲基甲氧基硅烷的制备工艺 |
CN111004267A (zh) * | 2019-12-13 | 2020-04-14 | 杭州崇耀科技发展有限公司 | 一种六甲基二硅氧烷的制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
何培之: "机械工业出版社", 31 July 1987, 机械工业出版社, pages: 127 * |
黄培强等: "有机合成", 30 June 2004, 高等教育出版社, pages: 377 - 378 * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN106519246B (zh) | 多烷氧基封端聚硅氧烷及其制备方法 | |
JP2012506250A5 (zh) | ||
But et al. | Organocatalytic Mitsunobu reactions with 3, 5-dinitrobenzoic acid | |
CN111004267A (zh) | 一种六甲基二硅氧烷的制备方法 | |
CN114751930A (zh) | 一种从含三甲基硅甲醚和六甲基二硅氧烷的废溶剂中回收六甲基二硅氧烷的方法 | |
WO2012002648A2 (ko) | 클로로히드린류의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클로로히드린류를 사용하는 에피클로로히드린의 제조방법 | |
WO2012002652A2 (ko) | 클로로히드린류 조성물의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클로로히드린류 조성물을 사용하는 에피클로로히드린의 제조방법 | |
CN109053627A (zh) | 头孢曲松钠二氯甲烷母液中2-巯基苯并噻唑、三乙胺和二氯甲烷的综合回收方法 | |
CN106621757B (zh) | 氯硅烷分析废气回收处理装置和处理方法 | |
WO2023236938A1 (zh) | 磷酸三(丁氧基乙基)酯生产过程中的副产物2-丁氧基氯乙烷的分离提纯工艺 | |
WO2012002650A2 (ko) | 클로로히드린류 조성물의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클로로히드린류 조성물을 사용하는 에피클로로히드린의 제조방법 | |
CN110357921A (zh) | 一种高纯度三(丁氧基乙基)磷酸酯的工业化制备方法 | |
CN102120717B (zh) | 以氯苯为溶剂生产三氯甲氧基苯的方法 | |
CN1883729A (zh) | 双乙烯酮精馏残渣的处理方法 | |
CN110305322A (zh) | 二甲基硅油的生产方法 | |
WO2012002651A2 (ko) | 클로로히드린류 조성물의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클로로히드린류 조성물을 사용하는 에피클로로히드린의 제조방법 | |
CN110357045A (zh) | 一种有机硅废酸资源化利用的方法 | |
CN114874205A (zh) | 一种缺电子杂环核心小分子电子给体材料及其制备与应用 | |
WO2012002649A2 (ko) | 클로로히드린류의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 클로로히드린류를 사용하는 에피클로로히드린의 제조방법 | |
CN112624896A (zh) | 一种基于微通道反应器的间二氟苯的连续化合成方法 | |
CN110975935B (zh) | 一种固体酸催化剂的制备方法及其应用 | |
CN110387279B (zh) | 用于脱除煤中硫分的亲水型离子液体的回收方法 | |
CN107573373A (zh) | 一种液体亚磷酸酯抗氧剂的制备方法 | |
CN102659515A (zh) | 一种从雷珀法生产1,4-丁二醇的废液中回收1,4-丁二醇的方法 | |
CN111018665A (zh) | 环氧氯丙烷重组分中三氯丙烷的回收利用方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination |