CN114730554A - 演奏操作装置及键盘乐器 - Google Patents

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Abstract

键盘乐器具有：键，其与演奏动作相对应地位移；检测系统，其包含有第1线圈和第2线圈，生成与第1线圈和第2线圈之间的距离相对应的电平的检测信号，该第1线圈设置于键，该第2线圈与第1线圈相对并通过电流的供给而发生磁场；以及电磁屏蔽，其用于将从检测系统辐射的电磁波屏蔽。

Description

演奏操作装置及键盘乐器
技术领域
本发明涉及一种在演奏中利用的演奏操作装置。
背景技术
以往，提出有用于对例如键盘乐器的键等可动部件的位移进行检测的各种技术。在专利文献1中公开了如下结构，即，利用在键盘乐器的框架设置的第1线圈和在各键设置的第2线圈，对各键的位置进行检测。在以上的结构中，如果通过按键而第2线圈位移，则在第1线圈流动的电流变化。通过对在第1线圈流动的电流进行检测，生成表示按键的有无的检测信号。
专利文献1：美国专利第4580478号说明书
发明内容
但是，在专利文献1的技术中，存在因向各线圈供给的电流引起的电磁波影响位于键盘乐器的周围的其他电子设备这样的课题。考虑到以上的情况，本发明的一个方式的目的在于，实现用于对键等可动部件的位置进行检测的系统的EMI(ElectromagneticInterference电磁干扰)对策。
为了解决以上的课题，本发明的一个方式涉及的演奏操作装置具有：可动部件，其与演奏动作相对应地位移；检测系统，其包含有在所述可动部件设置的磁性体和与所述磁性体相对并通过电流的供给而发生磁场的线圈，生成与所述磁性体和所述线圈之间的距离相对应的电平的检测信号；以及电磁屏蔽，其用于将从所述检测系统辐射的电磁波屏蔽。
本发明的一个方式涉及的键盘乐器具有：键，其与演奏动作相对应地位移；检测系统，其包含有在所述键设置的磁性体和与所述磁性体相对并通过电流的供给而发生磁场的线圈，生成与所述磁性体和所述线圈之间的距离相对应的电平的检测信号；电磁屏蔽，其用于将从所述检测系统辐射的电磁波屏蔽；以及声音生成部，其生成与所述检测信号相对应的声音。
附图说明
图1是例示出第1实施方式的键盘乐器的结构的框图。
图2是例示出键盘乐器的结构的框图。
图3是信号生成部的电路图。
图4是被检测部的电路图。
图5是例示出信号处理电路的结构的框图。
图6是从信号生成部侧观察的键的俯视图
图7是例示出被检测部的具体结构的俯视图。
图8是图7的a－a线的剖视图。
图9是在被检测部的第1线圈发生的磁场的说明图。
图10是从键侧观察的信号生成部的俯视图。
图11是例示出信号生成部的具体结构的俯视图。
图12是图10的b－b线的剖视图。
图13是信号生成部的第2线圈发生的磁场的说明图。
图14是第2实施方式的信号生成部的俯视图。
图15是图14的c－c线的剖视图。
图16是第2实施方式的第2屏蔽部的俯视图。
图17是第2实施方式的变形例的第2屏蔽部的俯视图。
图18是第3实施方式的被检测部的俯视图。
图19是图18的d－d线的剖视图。
图20是第3实施方式的第1屏蔽部的俯视图。
图21是第4实施方式的信号生成部的剖视图。
图22是第5实施方式的被检测部的剖视图。
图23是第6实施方式涉及的检测系统的示意图。
图24是第7实施方式涉及的检测系统的示意图。
图25是第8实施方式涉及的检测系统的示意图。
图26是变形例涉及的第1屏蔽部的剖视图。
具体实施方式
A：第1实施方式
图1是例示出本发明的第1实施方式涉及的键盘乐器100的结构的框图。键盘乐器100(“演奏操作装置”的例示)是具有键盘10、检测系统20、信息处理装置30及放音装置40的电子乐器。键盘10由包含多个白键和多个黑键的多个键12(“可动部件”的例示)构成。多个键12各自是与利用者的演奏动作相对应地位移的可动部件。检测系统20对各键12的位置进行检测。信息处理装置30生成与检测系统20的检测结果相对应的音响信号V。音响信号V是表示与利用者所操作的键12对应的音高的乐音的信号。放音装置40对音响信号V表示的音响进行放音。例如扬声器或耳机作为放音装置40而利用。
图2是着眼于键盘10的1个键12而例示出键盘乐器100的具体结构的框图。设想X轴和Y轴。多个键12沿X轴排列。Y轴与X轴正交。X-Y平面是水平面。各键12以长度方向沿着Y轴的方式配置。即，Y轴是沿着各键12的长边的轴线。以下，将从垂直于X-Y平面的方向观察记述为“俯视观察时”。
键盘10的各键12以支点部(平衡销)13作为支点而支撑于支撑体14。支撑体14是对键盘乐器100的各要素进行支撑的构造体(框架)。各键12的端部121通过利用者的按键及放键而沿铅锤方向位移。检测系统20针对多个键12的每一者生成与铅锤方向的端部121的位置Z相对应的电平的检测信号D。位置Z由以载荷未作用于键12的释放状态的端部121的位置作为基准的该端部121的位移量表现。
检测系统20具有被检测部50、信号生成部60、基材65及信号处理电路21。被检测部50及信号生成部60针对每个键12而设置。信号生成部60设置于支撑体14。被检测部50设置于键12。具体而言，被检测部50设置于键12的底面(以下，称为“设置面”)122。被检测部50包含第1线圈51(“磁性体”的例示)。信号生成部60包含第2线圈61(“线圈”的例示)。第1线圈51和第2线圈61在铅锤方向相互隔开间隔而相对。信号生成部60和被检测部50之间的距离(第1线圈51和第2线圈61之间的距离)与键12的端部121的位置Z相对应地变化。
图3是例示出信号生成部60的电气结构的电路图。信号生成部60具有谐振电路，该谐振电路包含输入端子T1、输出端子T2、第2线圈61、电容元件62及电容元件63。第2线圈61连接于输入端子T1和输出端子T2之间。电容元件62连接于输入端子T1和接地线之间，电容元件63连接于输出端子T2和接地线之间。信号生成部60作为对向输入端子T1供给的信号的低频成分进行抑制的低频去除滤波器起作用。
图4是例示出被检测部50的电气结构的电路图。被检测部50具有谐振电路，该谐振电路包含第1线圈51及电容元件52。第1线圈51的两端和电容元件52的两端相互连接。被检测部50的谐振频率和信号生成部60的谐振频率共通。但是，被检测部50的谐振频率和信号生成部60的谐振频率也可以不同。
图2的信号处理电路21生成与第1线圈51和第2线圈61之间的距离相对应的电平的检测信号D。图5是例示出信号处理电路21的具体的功能结构的框图。信号处理电路21具有供给电路22及输出电路23。供给电路22向多个信号生成部60的每一者供给基准信号R。基准信号R是电平周期性变动的电流信号或电压信号。例如，正弦波等任意波形的周期信号作为基准信号R而利用。供给电路22将基准信号R以时分方式对各信号生成部60进行供给。具体而言，供给电路22是依次选择多个信号生成部60的每一者，对选择状态的信号生成部60供给基准信号R的解复用器。即，对多个信号生成部60的每一者以时分方式供给基准信号R。此外，基准信号R的周期与供给电路22选择1个信号生成部60的期间的时间长度相比充分短。另外，基准信号R的频率与信号生成部60及被检测部50的谐振频率大致相同。但是，基准信号R的频率和信号生成部60及被检测部50的谐振频率也可以不同。
如图3所例示的那样，基准信号R被供给至信号生成部60的输入端子T1。通过将与基准信号R相对应的电流供给至第2线圈61而在第2线圈61发生磁场。通过由在第2线圈61发生的磁场引起的电磁感应，在第1线圈51发生感应电流。因此，在第1线圈51发生将第2线圈61的磁场的变化抵消的方向的磁场。在第1线圈51发生的磁场与第1线圈51和第2线圈61之间的距离相对应地变化。因此，从信号生成部60的输出端子T2输出与第1线圈51和第2线圈61的距离相对应的振幅电平δ的检测信号d。检测信号d是电平以与基准信号R相同的周期变动的周期信号。
图5的输出电路23通过将从多个信号生成部60的每一者依次输出的检测信号d在时间轴上排列而生成检测信号D。即，检测信号D是各键12的与第1线圈51和第2线圈61之间的距离相对应的振幅电平δ的电压信号。如前述，第1线圈51和第2线圈61之间的距离与各键12的位置Z联动，因此检测信号D表现为与多个键12各自的位置Z相对应的信号。输出电路23生成的检测信号D被供给至信息处理装置30。
图2的信息处理装置30通过对从信号处理电路21供给的检测信号D进行解析而对各键12的位置Z进行解析。信息处理装置30由具有控制装置31、存储装置32、A/D变换器33及声源电路34的计算机系统实现。A/D变换器33将从信号处理电路21供给的检测信号D从模拟变换为数字。
控制装置31由对键盘乐器100的各要素进行控制的单个或多个处理器构成。例如，控制装置31由CPU(Central Processing Unit)、SPU(Sound Processing Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、FPGA(Field Programmable Gate Array)、或ASIC(Application Specific Integrated Circuit)等1种以上的处理器构成。
存储装置32是对控制装置31执行的程序和控制装置31使用的数据进行存储的单个或多个存储器。存储装置32例如由磁记录介质或半导体记录介质等公知的记录介质构成。此外，也可以由多种记录介质的组合构成存储装置32。另外，也可以将相对于键盘乐器100能够装卸的移动型的记录介质、或能够与键盘乐器100通信的外部记录介质(例如网络硬盘)作为存储装置32而利用。
控制装置31通过对由A/D变换器33变换后的检测信号D进行解析而对各键12的位置Z进行解析。另外，控制装置31将与各键12的位置Z相对应的乐音的发音指示给声源电路34。声源电路34生成表示从控制装置31指示的乐音的音响信号V。即，声源电路34生成与检测信号D的振幅电平δ相对应的音响信号V。例如，与振幅电平δ相对应地对音响信号V的音量进行控制。通过将音响信号V从声源电路34供给至放音装置40，从放音装置40对与利用者的演奏动作(各键12的按键或放键)相对应的乐音进行放音。此外，也可以通过控制装置31执行在存储装置32存储的程序而实现声源电路34的功能。
检测系统20通过从第1线圈51发生的磁场和从第2线圈61发生的磁场而辐射电磁波。图2的电磁屏蔽70利用为针对从检测系统20辐射的电磁波影响位于周围的其他电子设备的EMI(Electromagnetic Interference)的对策。具体而言，电磁屏蔽70是用于将从检测系统20辐射的电磁波屏蔽的障壁。电磁屏蔽70由磁性材料或导电材料形成。例如，由金属形成电磁屏蔽70。
具体而言，电磁屏蔽70以将检测系统20包围的方式形成。第1实施方式的电磁屏蔽70包含第1屏蔽部71和第2屏蔽部72。第1屏蔽部71是用于将从被检测部50辐射的电磁波屏蔽的障壁。另一方面，第2屏蔽部72是用于将从信号生成部60辐射的电磁波屏蔽的障壁。第1屏蔽部71设置于键12，第2屏蔽部72设置于支撑体14。第1屏蔽部71及第2屏蔽部72的具体结构将后述。
图6是从信号生成部60侧观察的键12的俯视图。被检测部50针对每个键12而设置。第1屏蔽部71针对每个被检测部50(第1线圈51)而设置。图7是例示出被检测部50的具体结构的俯视图。在图7中示出从信号生成部60侧观察被检测部50的俯视图。另外，图8是图7的a－a线的剖视图。
第1实施方式的被检测部50由包含第1线圈51和基材55的配线基板构成。基材55是包含表面F1和表面F2的矩形形状的板状部件。表面F2是键12的与设置面122相对的表面。表面F1是表面F2的相反侧的表面。因此，表面F1与信号生成部60相对。基材55的宽度小于1个键12的宽度。
第1线圈51是在基材55的表面(表面F1及表面F2)形成的导电膜。具体而言，通过选择性地去除将基材55的整个面覆盖的导电膜的图案化而形成第1线圈51。第1线圈51包含第1区间511和第2区间512。第1区间511和第2区间512形成于表面F1。第1区间511和第2区间512在从垂直于表面F1方向的俯视观察时形成于不同的区域。具体而言，第1区间511和第2区间512沿着键12的长度方向(Y轴)而相互相邻。
第1区间511是从内周侧的端部Ea1至外周侧的端部Ea2为止顺时针旋转的螺旋状的部分。另一方面，第2区间512是从内周侧的端部Eb1至外周侧的端部Eb2为止顺时针旋转的螺旋状的部分。
第1线圈51包含有在基材55的表面F2形成的连结配线514。端部Ea1和端部Eb1经由连结配线514而相互连接。另外，安装于表面F1的电容元件52介于端部Ea2和端部Eb2之间。
如根据以上说明所理解的那样，在第1区间511流动的电流的方向和在第2区间512流动的电流的方向是相反方向。具体而言，在方向Q1的电流流过第1区间511的状态下，与方向Q1相反的方向Q2的电流流过第2区间512。因此，如图9所例示的那样，在第1区间511和第2区间512发生相反方向的磁场。即，形成从第1区间511及第2区间512的一者朝向另一者的磁场。
如图8所例示的那样，第1实施方式的第1屏蔽部71埋设于键12。第1屏蔽部71以俯视观察时与第1线圈51重叠的方式形成。具体而言，第1屏蔽部71包含第1基体部71a、第1侧壁部71b1和第1侧壁部71b2。第1基体部71a是从第1线圈51观察而位于第2线圈61的相反侧的部分。即，第1线圈51位于第2线圈61和第1基体部71a之间。具体而言，第1基体部71a是与基材55平行的板状部件。如图6所例示的那样，俯视观察时第1线圈51位于第1基体部71a的内侧。第1基体部71a例如遍布键12的横向方向(X轴的方向)的整个范围而形成。
如图8所例示的那样，第1侧壁部71b1及第1侧壁部71b2是从第1基体部71a朝向支撑体14凸出的部分。即，从第1基体部71a的表面朝向设置面122而形成。在第1基体部71a中的沿X轴的周缘形成第1侧壁部71b1及第1侧壁部71b2。第1侧壁部71b1在第1基体部71a中的在Y轴的负方向沿着X轴的周缘形成。第1侧壁部71b2在第1基体部71a中的在Y轴的正方向沿着X轴的周缘形成。如图6所例示的那样，第1线圈51位于第1侧壁部71b1和第1侧壁部71b2之间。此外，也可以省略第1侧壁部71b1及第1侧壁部71b2的一者或两者。
从第1线圈51辐射的电磁波被第1屏蔽部71屏蔽。在第1实施方式中，第1屏蔽部71包含第1基体部71a，因此如图9所例示的那样，能够在线圈的相反侧通过第1屏蔽部71更有效地将从磁性体辐射的电磁波屏蔽。另外，第1屏蔽部71包含第1侧壁部71b1及第1侧壁部71b2，因此具有能够有效地将从第1线圈51向周围辐射的电磁波屏蔽。
图10是从键12侧观察的信号生成部60的俯视图。第2线圈61针对每个第1线圈51而设置。第1实施方式的第2屏蔽部72遍布多个键12而连续地设置。即，沿X轴以长条状形成第2屏蔽部72。图11是例示出信号生成部60的具体结构的俯视图。在图11中示出从被检测部50侧观察信号生成部60的俯视图。另外，图12是图11的b－b线的剖视图。
如图11所例示的那样，信号生成部60由包含第2线圈61的配线基板构成。在基材65形成信号生成部60。基材65是遍布多个键12而连续的长条状的板状部件。如图12所例示的那样，基材65是包含表面F3和表面F4的板状部件。表面F4与第2基体部72a相对。表面F3是与表面F4相反侧的表面。因此，表面F3与被检测部50相对。此外，也可以将基材65针对每个键12而单独设置。
如图11所例示的那样，第2线圈61是在基材65的表面(表面F3及表面F4)形成的导电膜。具体而言，通过选择性地去除将基材65的整个面覆盖的导电膜的图案化而集中形成多个第2线圈61。与不同的键12对应的多个第2线圈61形成于基材65。具体而言，第2线圈61包含第3区间611和第4区间612。第3区间611和第4区间612形成于表面F3。第3区间611和第4区间612在从垂直于表面F3的方向的俯视观察时形成于不同的区域。具体而言，第3区间611和第4区间612沿着键12的长度方向而相互相邻。
第3区间611是从内周侧的端部Ec1至外周侧的端部Ec2为止逆时针旋转的螺旋状的部分。另一方面，第4区间612是从内周侧的端部Ed1至外周侧的端部Ed2为止旋转的螺旋状的部分。第2线圈61的中心轴的方向(即，垂直于表面F3的方向)的第1线圈51和第2线圈61之间的距离与键12的位置Z相对应地变化。
第2线圈61包含有在基材65的表面F4形成的连结配线614。端部Ec1和端部Ed1经由连结配线614而相互连接。另外，在表面F3形成输入端子T1和输出端子T2。电容元件62连接于输入端子T1和第3区间611的端部Ec2之间。电容元件63连接于输出端子T2和第4区间612的端部Ed2之间。将电容元件62和电容元件63相互连接的配线与设定为接地电位的接地点G连接。
如根据以上说明所理解的那样，在第3区间611流动的电流的方向和在第4区间612流动的电流的方向是相反方向。具体而言，在方向Q3的电流流过第3区间611的状态下，与方向Q3相反的方向Q4的电流流过第4区间612。因此，如图13所例示的那样，在第3区间611和第4区间612发生相反方向的磁场。即，形成从第3区间611及第4区间612的一者朝向另一者的磁场。
如图12所例示的那样，第2屏蔽部72设置于支撑体14的表面。具体而言，俯视观察时在与多个第2线圈61重叠的位置设置第2屏蔽部72。第1实施方式的第2屏蔽部72包含第2基体部72a、第2侧壁部72b1和第2侧壁部72b2。第2基体部72a是从第2线圈61观察而位于第1线圈51的相反侧的部分。即，第2线圈61位于第1线圈51和第2基体部72a之间。如图10所例示的那样，第1实施方式的第2基体部72a是沿X轴的长条的板状部件。例如，第2基体部72a从键盘10的一端延伸至另一端。在支撑体14的表面设置第2基体部72a。
如图10所例示的那样，第2侧壁部72b是从第2基体部72a朝向键12凸出的部分。在第2基体部72a中的沿着X轴的周缘形成第2侧壁部72b1及第2侧壁部72b2。第2侧壁部72b1在第2基体部72a中的在Y轴的负方向沿着X轴的周缘形成。第2侧壁部72b2在第1基体部71a中的在Y轴的正方向沿着X轴的周缘形成。如图10所例示的那样，信号生成部60(多个第2线圈61)位于第2侧壁部72b1和第2侧壁部72b2之间。此外，也可以省略第2侧壁部72b1及第2侧壁部72b2的一者或两者。
如图12所例示的那样，形成有信号生成部60的基材65设置于由第2基体部72a、第2侧壁部72b1和第2侧壁部72b2包围的空间内。第1实施方式的基材65支撑于第2屏蔽部72。具体而言，基材65支撑于在第2基体部72a的表面设置的固定部件81。固定部件81例如由绝缘材料形成，是相对于第2基体部72a在隔开间隔的位置对基材65进行保持的间隔件。即，基材65和第2屏蔽部72不直接接触。
从第2线圈61辐射的电磁波被第2屏蔽部72屏蔽。在第1实施方式中，能够在第1线圈51的相反侧通过第2屏蔽部72更有效地对从第2线圈61辐射的电磁波进行屏蔽。另外，第2屏蔽部72包含第2侧壁部72b1及第2侧壁部72b2，因此具有能够有效地将从第2线圈61向周围辐射的电磁波屏蔽。例如，从第2线圈61向Y轴的方向辐射的电磁波被第2侧壁部72b1及第2侧壁部72b2屏蔽。
如根据以上说明所理解的那样，在第1实施方式中，通过用于将从包含第1线圈51和第2线圈61的检测系统20辐射的电磁波屏蔽的电磁屏蔽70，实现EMI对策。因此，能够降低从检测系统20辐射的电磁波对周围的电子设备带来的影响。在第1实施方式中，特别是，电磁屏蔽70包含有在键12设置的第1屏蔽部71和在支撑体14设置的第2屏蔽部72，因此与仅在支撑体14及键12中的一者设置了电磁屏蔽70的结构相比较，能够实现更有效的EMI对策。
B：第2实施方式
以下说明第2实施方式。此外，在以下所例示的各结构中对于功能与第1实施方式相同的要素，沿用在第1实施方式的说明中使用的标号而适当省略各自的详细说明。
图14是第2实施方式的信号生成部60的俯视图。图15是图14的c－c线的剖视图。另外，图16是第2实施方式的第2屏蔽部72的俯视图。在图16中示出将基材65从图14去除后的状态。
第2屏蔽部72的第2基体部72a在俯视观察时包含区域A20、区域A21和区域A22。区域A21是沿着第2侧壁部72b1而在X轴的方向上延伸的带状的区域。区域A22是沿着第2侧壁部72b2在X轴的方向上延伸的带状的区域。区域A20是在区域A21和区域A22之间沿X轴的方向延伸的带状的区域。如根据图14及图15所理解的那样，多个第2线圈61在基材65的表面F3中的俯视观察时与区域A20重叠的带状的区域内，排列于X轴的方向。在基材65中的与区域A21及区域A22重叠的区域不形成第2线圈61。
如图14至图16所例示的那样，在第2实施方式的第2基体部72a形成多个开口O2(O21、O22)。各开口O2是将第2基体部72a贯通的大致矩形形状的贯通孔。
多个开口O21形成于第2基体部72a的区域A21。具体而言，多个开口O21在俯视观察时，在区域A21内相互隔开间隔而排列于X轴的方向。另外，多个开口O22形成于第2基体部72a的区域A22。具体而言，多个开口O22在俯视观察时，在区域A22内相互隔开间隔而排列于X轴的方向。另一方面，在区域A20不形成开口O2。即，第2实施方式的各开口O2在俯视观察时不与任何多个第2线圈61重叠。
在第2实施方式中，也实现与第1实施方式相同的效果。此外，在如第2实施方式那样在第2屏蔽部72形成了开口O2的结构中，对在第2线圈61发生的磁场进行妨碍的第2屏蔽部72的作用通过开口O2而得到缓和。因此，可以适度地维持基于第2屏蔽部72实现的EMI对策的效果，并且在第2线圈61的周围的大范围发生磁场。通过将第2线圈61的磁场的范围扩大，从而使磁场变化的键12的位置Z的范围扩大。即，容易确保能够对键12的位置Z进行检测的范围。
此外，第2屏蔽部72的开口O2的形态(例如，平面形状或个数)是任意的。例如，在图16中例示出多个开口O21排列于X轴的方向的结构，但沿X轴的方向延伸的1个开口O21也可以形成于区域A21内。相同地，也可以取代在X轴的方向排列的多个开口O22，将沿X轴的方向延伸的1个开口O22形成于区域A22内。
另外，在以上的说明中，在第2基体部72a的区域A21及区域A22的每一者形成了开口O2，但也可以如图17所例示的那样，在第2基体部72a的区域A20内形成开口O2。即，沿X轴的方向延伸的1个开口O2形成于区域A20内。开口O2在俯视观察时与多个第2线圈61重叠。即，在俯视观察时多个第2线圈61位于开口O2的内侧。此外，也可以将相互隔开间隔而在X轴的方向排列的多个开口O2形成于区域A20内。
C：第3实施方式
图18是从信号生成部60侧观察的键12的俯视图。图19是图18的d－d线的剖视图。另外，图20是第3实施方式的第1屏蔽部71的俯视图。在图20中示出将多个被检测部50从图18去除后的状态。
第1屏蔽部71的第1基体部71a在俯视观察时包含区域A10、区域A11和区域A12。区域A11是与第1侧壁部71b1相邻的区域。区域A12是与第1侧壁部71b2相邻的区域。区域A10是区域A11和区域A12之间的区域。如根据图18及图19所理解的那样，第1线圈51形成于基材55的表面F1中的俯视观察时与区域A10重叠的区域内。在基材55中的与区域A11及区域A12重叠的区域不形成第1线圈51。
如图18至图20所例示的那样，在第3实施方式的第1基体部71a形成多个开口O1(O11、O12)。各开口O1是将第1基体部71a贯通的大致矩形形状的贯通孔。
开口O11形成于第1基体部71a的区域A11。开口O12形成于第1基体部71a的区域A12。另一方面，在区域A10不形成开口O1。即，第2实施方式的各开口O1在俯视观察时不与第1线圈51重复。
在第3实施方式中，也实现与第1实施方式相同的效果。此外，在如第3实施方式那样在第1屏蔽部71形成了开口O1的结构中，对在第1线圈51发生的磁场进行妨碍的第1屏蔽部71的作用通过开口O1而得到缓和。因此，可以适度地维持基于第1屏蔽部71实现的EMI对策的效果，并且在第1线圈51发生充分的磁场。通过将第1线圈51的磁场的范围扩大，从而使磁场变化的键12的位置Z的范围扩大。即，容易确保能够对键12的位置Z进行检测的范围。
此外，也可以在区域A11及区域A12的每一者形成多个开口O1。另外，可以将在俯视观察时与第1线圈51重叠的1个以上的开口O1形成于区域A10。也可以省略区域A11或区域A12的开口O1。
D：第4实施方式
图21是第4实施方式的信号生成部60的剖视图。图21的螺钉821是用于将基材65及第2屏蔽部72固定于支撑体14的螺钉。即，螺钉821从在基材65形成的贯通孔和在第2屏蔽部72形成的贯通孔通过而插入于支撑体14。弹簧822介于基材65和第2屏蔽部72(第2基体部72a)之间。弹簧822是将螺钉821包围的线圈弹簧。弹簧822将基材65向从支撑体14远离的方向施力。
在以上的结构中，基材65和第2屏蔽部72之间的距离(间隔)与螺钉821的紧固的程度相对应地变化。即，螺钉821及弹簧822作为用于对基材65和第2屏蔽部72之间的距离进行调整的调整部件起作用。由第2线圈61产生的磁场与基材65和第2屏蔽部72之间的距离相对应地变化。此外，通过对基材65和第2屏蔽部72的距离进行调整，从而第1线圈51和第2线圈61之间的距离也变化。即，由螺钉821及弹簧822实现的调整部件也作为对第1线圈51和第2线圈61的距离进行调整的要素起作用。
在第4实施方式中，也实现与第1实施方式相同的效果。另外，在第4实施方式中，通过调整部件(螺钉821及弹簧822)对基材65和第2屏蔽部72之间的距离进行调整，由此能够对在第2线圈61发生的磁场进行调整。
此外，用于对基材65和第2屏蔽部72之间的距离进行调整的方式不限定于以上的例示。例如，也可以通过将全长不同的多个固定部件81的任意者选择性地介于基材65和第2屏蔽部72之间，对两者间的距离进行调整。即，固定部件81被作为调整部件而利用。
E：第5实施方式
图22是第5实施方式的被检测部50的剖视图。被检测部50通过螺钉831而设置于键12的设置面122。弹簧832介于被检测部50的基材55的表面F2和设置面122之间。弹簧832例如是将螺钉831包围的线圈弹簧。弹簧832将基材55向从设置面122远离的方向施力。
在以上的结构中，基材55和第1屏蔽部71之间的距离与螺钉831的紧固的程度相对应地变化。即，螺钉831及弹簧832作为用于对基材55和第1屏蔽部71之间的距离进行调整的调整部件起作用。由第1线圈51发生的磁场与基材55和第1屏蔽部71的距离相对应地变化。此外，通过对基材55和第1屏蔽部71之间的距离进行调整，从而第1线圈51和第2线圈61之间的距离也变化。即，由螺钉831及弹簧832实现的调整部件也作为对第1线圈51和第2线圈61之间的距离进行调整的要素起作用。
在第5实施方式中，也实现与第1实施方式相同的效果。另外，在第5实施方式中，通过调整部件(螺钉831及弹簧832)对基材55和第1屏蔽部71之间的距离进行调整，由能够对在第1线圈51发生的磁场进行调整。
此外，用于对基材55和第1屏蔽部71之间的距离进行调整的方式不限定于以上的例示。例如，也可以通过将全长不同的多个固定部件的任意者选择性地介于基材55和第1屏蔽部71之间，对两者间的距离进行调整。
F：第6实施方式
图23是第6实施方式涉及的检测系统20的示意图。检测系统20与第1实施方式相同地，针对多个键12的每一者而生成与铅锤方向的端部121的位置Z相对应的电平的检测信号D。
各键12将支点部G1作为支点而支撑于支撑体14。支点部G1经由在支撑体14设置的支撑支点部141而设置于支撑体14。即，键12经由支点部G1及支撑支点部141而支撑于支撑体14。键12以支点部G1作为中心而旋转。
第6实施方式的键12具有凸出部124。凸出部124是在端部121从设置面122凸出的部分。凸出部124通过利用者的按键及放键而沿铅锤方向位移。凸出部124的前端是曲面。
第6实施方式的键盘乐器100具有框体200及施力体90。框体200是中空的构造体，设置于支撑体14。凸出部124将在框体200形成的开口贯通。施力体90是用于对利用者赋予按键的操作感的构造体。针对多个键12的每一者而设置施力体90。在框体200的内部收容多个施力体90。具体而言，施力体90将支点部G2作为支点而支撑于支撑体14。支点部G2经由在框体200的内部空间设置的支点支撑部142而设置于框体200。即，施力体90经由支点部G2、支点支撑部142和框体200而支撑于支撑体14。
在施力体90没有被按压的状态下，施力体90与在框体200的内部空间设置的止动器19抵接。如果通过按键而凸出部124的前端对施力体90进行按压，则施力体90从止动器19远离而以支点部G2作为中心进行旋转。此外，在施力体90中的与被检测部50相反侧的端部的内部，设置有用于对该端部进行加重的锤部N。因此，施力体90如果被凸出部124按压，则将适度的抵抗感赋予给利用者。即，能够对演奏者赋予良好的操作感。
被检测部50设置于施力体90。例如，设置于施力体90中的与凸出部124相反侧的面。在第6实施方式中，在俯视观察时与凸出部124重叠的位置设置被检测部50。此外，在施力体90设置被检测部50的位置是任意的。例如，也可以在施力体90中的凸出部124侧的面设置被检测部50。另一方面，信号生成部60设置于框体200的内壁面Wa。信号生成部60的第2线圈61以俯视观察时与被检测部50的第1线圈51重叠的方式设置。
设置了第1线圈51的施力体90由于按键而进行位移。因此，与第1实施方式相同地，由检测系统20生成与第1线圈51和第2线圈61之间的距离相对应的电平的检测信号D。
框体200的内壁面Wa由磁性材料或导电材料形成。框体200的内壁面Wa将第1线圈51及第2线圈61包围。即，框体200的内壁面Wa作为将从检测系统20辐射的电磁波屏蔽的电磁屏蔽起作用。第6实施方式的内壁面Wa(即电磁屏蔽)包含第1部分Wa1、第2部分Wa2、第3部分Wa3和第4部分Wa4。
第1部分Wa1是相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的负方向(“第1方向”的例示)的部分。第2部分Wa2是相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的正方向(以下“第2方向”的例示)的部分。第3部分Wa3是位于第1线圈51及第2线圈61的上方的部分。第4部分Wa4是位于第1线圈51及第2线圈61的下方的部分。此外，也可以在键12的凸出部124中的与框体200的开口对应的位置埋设作为电磁屏蔽起作用的屏蔽部126。屏蔽部126由磁性材料或导电材料形成。屏蔽部126(“第3部分”的例示)位于第1线圈51及第2线圈61的上方。
在第6实施方式中，作为电磁屏蔽起作用的内壁面Wa将第1线圈51及第2线圈61包围，因此能够实现有效的EMI对策。
G：第7实施方式
图24是第7实施方式涉及的检测系统20的示意图。在第7实施方式中，被检测部50及信号生成部60的位置与第6实施方式不同。
第7实施方式的键盘乐器100取代框体200而具有框体300。框体300是中空的构造体，设置于支撑体14。针对多个键12而设置1个框体200。各键12的与端部121相反侧(支撑于支撑体14的侧)的端部128收容于框体300的内部空间。各键12将框体的贯通孔贯通。
第7实施方式的被检测部50在框体300的内部空间设置于键12的设置面122。信号生成部60在框体300的内壁面Wb设置于与信号生成部60相对的位置。即，框体300的内壁面Wb将第1线圈51及第2线圈61包围。
框体300的内壁面Wb由磁性材料或导电材料形成。框体300的内壁面Wb将第1线圈51及第2线圈61包围。即，框体300的内壁面Wb作为对从检测系统20辐射的电磁波进行屏蔽的电磁屏蔽起作用。第7实施方式的内壁面Wb(即电磁屏蔽)包含第1部分Wb1、第2部分Wb2、第3部分Wb3和第4部分Wb4。
第1部分Wb1是相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的负方向的部分。第2部分Wb2是相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的正方向的部分。第3部分Wb3是位于第1线圈51及第2线圈61的上方的部分。第4部分Wb4是位于第1线圈51及第2线圈61的下方的部分。此外，也可以在键12中的与框体300的开口对应的位置，埋设作为电磁屏蔽起作用的屏蔽部127。例如，由磁性材料或导电材料形成屏蔽部127。屏蔽部127(“第2部分”的例示)相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的正方向。
在第7实施方式中，也与第6实施方式相同地，作为电磁屏蔽起作用的内壁面Wb将第1线圈51及第2线圈61包围，因此能够实现有效的EMI对策。此外，例如，在省略了图24的框体300的结构中，由例如金属等磁性体形成的锤部N与键12联动地上下移动，由此影响被检测部50或信号生成部60的周围的磁场。在第7实施方式中，框体300的一部分介于锤部N和检测系统20(被检测部50及信号生成部60)之间，因此能够降低锤部N对检测系统20的影响。即，能够抑制位于检测系统20的附近的要素(例如，锤部N)影响用于位置Z的检测的磁场。因此，还具有能够高精度地对各键12的位置Z进行检测的优点。此外，在第7实施方式中，也可以省略施力体90。
H：第8实施方式
在第8实施方式中，例示出在键盘乐器100的击弦机构91应用检测系统20的结构。图25是例示出第8实施方式涉及的检测系统20的结构的示意图。击弦机构91与自然乐器的钢琴相同地，是与键盘10的各键12的位移联动地对弦(省略图示)进行击打的动作机构。具体而言，击弦机构91针对每个键12而具有：弦槌(hammer)911，其能够通过转动而击弦；以及与键12的位移联动地使弦槌911转动的传递机构912(例如，联动杆(wippen)，顶杆(jack)、复动杠杆(repetition lever)等)。在以上的结构中，检测系统20对弦槌911(“可动部件”的例示)的位移进行检测。
第8实施方式的被检测部50设置于弦槌911(例如弦槌杆((hammer shank))。第8实施方式的第1屏蔽部71埋设于弦槌911。第1屏蔽部71与第1实施方式相同地，包含第1基体部71a、第1侧壁部71b1和第1侧壁部71b2，设置于俯视观察时与第1线圈51重叠的位置。
信号生成部60与第1实施方式相同地，设置于支撑体14。第8实施方式的支撑体14例如是对击弦机构91进行支撑的构造体。另外，也可以在击弦机构91的弦槌911以外的部件设置被检测部50。第2屏蔽部72与第1实施方式相同地，包含第2基体部72a、第2侧壁部72b1和第2侧壁部72b2。与第1实施方式相同地，信号生成部60经由固定部件81而支撑于在支撑体14的表面设置的第2屏蔽部72(第2基体部72a)。在第8实施方式中，也实现与第1实施方式相同的效果。此外，第2实施方式至第6实施方式的结构也同样能够应用于第8实施方式。
I：变形例
以下，例示出向以上例示的各方式附加的具体变形的方式。可以在彼此不矛盾的范围，适当将从以下例示任意选择出的2个以上方式合并。
(1)在前述的各方式中，例示出将键12及施力体90作为可动部件，但可动部件不限定于键12及施力体90。可动部件只要是与演奏相对应地位移的部件，可以是任意的。例如，也可以在键盘乐器100的踏板机构应用检测系统20。踏板机构具有：踏板，利用者用脚对该踏板进行操作；以及支撑体14，其对踏板进行支撑。在以上的结构中，检测系统20对踏板的位移进行检测。例如，被检测部50设置于踏板，信号生成部60以与被检测部50相对的方式设置于支撑体14。踏板是可动部件的例示。
如根据以上的例示所理解的那样，由检测系统20检测的对象总括地表现为与演奏动作相对应地位移的可动部件。可动部件除了利用者直接操作的键12或踏板等演奏操作件以外，包含与针对演奏操作件的操作联动地位移的弦槌911等构造体。但是，本发明的可动部件不限定于与演奏动作相对应地位移的部件。即，可动部件总括地表现为能够位移的部件，与发生位移的契机无关。
(2)在前述的各方式中，只要被检测部50设置于可动部件，信号生成部60以与该被检测部50相对的方式设置，则设置被检测部50和信号生成部60的位置是任意的。
(3)在第1实施方式及第8实施方式中，第1屏蔽部71包含第1基体部71a、第1侧壁部71b1和第1侧壁部71b2，但第1屏蔽部71的结构不限定于以上的例示。例如，也可以采用第1屏蔽部71仅具有第1基体部71a及第1侧壁部71b(71b1、71b2)中的任一者的结构、或者第1屏蔽部71具有与第1基体部71a及第1侧壁部71b(71b1、71b2)不同的部分的结构。另外，也可以是第1屏蔽部71具有第1基体部71a中的从X轴的周缘朝向支撑体14凸出的第1侧壁部。如根据以上说明所理解的那样，第1屏蔽部71的形状是任意的。
(4)在第1实施方式及第8实施方式中，第2屏蔽部72包含第2基体部72a、第2侧壁部72b1和第2侧壁部72b2，但第2屏蔽部72的结构不限定于以上的例示。例如，还可以采用第2屏蔽部72仅具有第2基体部72a及第2侧壁部72b(72b1，72b2)中的任一者的结构、或者第2屏蔽部72具有与第2基体部72a及第2侧壁部72b(72b1、72b2)不同的部分的结构。另外，也可以是第2屏蔽部72具有第2基体部72a中的从X轴的周缘朝向可动部件凸出的第2侧壁部。如根据以上说明所理解的那样，第2屏蔽部72的形状是任意的。
(5)在第1实施方式及第8实施方式中，电磁屏蔽70包含第1屏蔽部71和第2屏蔽部72，但电磁屏蔽70的结构不限定于以上的例示。例如，还可以采用电磁屏蔽70仅包含第1屏蔽部71及第2屏蔽部72中的任一者的结构、或者电磁屏蔽70包含与第1屏蔽部71及第2屏蔽部72不同的部分的结构。
(6)在第1实施方式中，将第1屏蔽部71的整体埋设于键12，但只要第1屏蔽部71的至少一部分埋设于可动部件即可。另外，不是必须将第1屏蔽部71埋设于键12。如图26所例示的那样，例如也可以在键12的表面设置第1屏蔽部71，在该第1屏蔽部71的表面经由由绝缘材料形成的固定部件81而设置被检测部50。此外，在第8实施方式中，也可以相同地不将第1屏蔽部71的整体埋设于弦槌911。
(7)在第1实施方式中，将第2屏蔽部72设置于支撑体14的表面，但也可以将第2屏蔽部72埋设于支撑体14。在以上的结构中，例如在支撑体14的表面，在俯视观察时与第2屏蔽部72重叠的位置设置信号生成部60。
(8)在第1实施方式及第8实施方式中，也可以针对每个键12而设置第2屏蔽部72。
(9)在第6实施方式中，也可以将框体200的整体由磁性材料或导电材料形成。即，框体200的整体作为用于将从检测系统20辐射的电磁波屏蔽的电磁屏蔽起作用。在第7实施方式中，也可以相同地将框体300的整体由磁性材料或导电材料形成。
(10)在第6实施方式及第7实施方式中，将框体(200或300)内壁面(Wa或Wb)作为电磁屏蔽而利用，但也可以不将该框体作为电磁屏蔽而利用。即，也可以将与框体不同的部件作为电磁屏蔽而利用。将电磁屏蔽中的相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的负方向的部分总括地表现为第1部分，将电磁屏蔽中的相对于第1线圈51及第2线圈61而位于Y轴的正方向的部分总括地表现为第2部分。另外，将电磁屏蔽中的位于第1线圈51及第2线圈61的上方的部分总括地表现为第3部分，将电磁屏蔽中的位于第1线圈51及第2线圈61的下方的部分总括地表现为第4部分。此外，可以说第1屏蔽部71是第3部分的例示，第2屏蔽部72是第4部分的例示。电磁屏蔽可以仅包含第1部分、第2部分、第3部分和第4部分中的一部分，也可以包含与第1部分、第2部分、第3部分和第4部分不同的部分。
(11)在第6实施方式中，也可以针对每个施力体90而设置框体200。相同地，在第7实施方式中，也可以针对每个键12而设置框体300。
(12)在前述的各方式中，例示出键盘乐器100具有声源电路34的结构，但例如在键盘乐器100具有击弦机构91等发音机构的结构中，也可以省略声源电路34。检测系统20是为了对键盘乐器100的演奏内容进行记录而利用的。发音机构及声源电路34总括地表现为与检测系统20的检测结果相对应地生成声音的声音生成部。
如根据以上说明所理解的那样，本发明还可以特定为，通过向声源电路34或发音机构输出与演奏动作相对应的操作信号而对乐音进行控制的装置(演奏操作装置)。如前述的各方式所例示的那样，除了具有声源电路34或发音机构的乐器(键盘乐器100)以外，不具有声源电路34或发音机构的设备(例如MIDI控制器或前述的踏板机构92)包含于演奏操作装置(instrument playing apparatus)的概念。即，本发明的演奏操作装置总括地表现为演奏者(操作者)为了演奏而操作的装置。
(13)在前述的各方式中，例示出第1线圈51包含第1区间511和第2区间512的结构，但第1线圈51由2个线圈形成的结构并不是必须的。也可以将第1线圈51由1个线圈(例如，仅是第1区间511及第2区间512中的一者)形成。对于第2线圈61，也相同地，由2个线圈(第3区间611及第4区间612)形成的结构并不是必须的。
(14)在前述的各方式中，被检测部50也可以取代第1线圈51而包含例如金属板等。被检测部50只要具有通过由在第2线圈61发生的磁场产生的电磁感应而发生感应电流的磁性体即可。第1线圈51是磁性体的例示。
J：附录
根据以上所例示的方式，例如能够掌握以下的结构。
本发明的一个方式(方式1)涉及的演奏操作装置具有：可动部件，其与演奏动作相对应地位移；检测系统，其包含有在所述可动部件设置的磁性体和与所述磁性体相对并通过电流的供给而发生磁场的线圈，生成与所述磁性体和所述线圈之间的距离相对应的电平的检测信号；以及电磁屏蔽，其用于将从所述检测系统辐射的电磁波屏蔽。在以上的方式中，通过用于将从包含磁性体和线圈的检测系统辐射的电磁波屏蔽的电磁屏蔽，实现EMI对策。因此，能够降低从检测系统辐射的电磁波给周围的电子设备带来的影响。另外，还能够降低位于检测系统的附近的要素给线圈的周围的磁场带来的影响。
在方式1的具体例(方式2)中，所述演奏操作装置还具有对所述可动部件进行支撑的支撑体，所述电磁屏蔽包含：在所述可动部件设置的第1屏蔽部；以及在所述支撑体设置的第2屏蔽部。在以上的方式中，电磁屏蔽包含有在可动部件设置的第1屏蔽部和在支撑体设置的第2屏蔽部，因此，与仅在支撑体及可动部件中的一者设置电磁屏蔽的结构相比较，能够实现有效的EMI对策。
在方式2的具体例(方式3)中，所述第1屏蔽部包含第1基体部，所述线圈位于所述磁性体和所述第1基体部之间。根据以上的方式，线圈位于磁性体和第1基体部之间，因此，能够在线圈的相反侧通过第1屏蔽部更有效地将从磁性体辐射的电磁波屏蔽。
在方式3的具体例(方式4)中，所述可动部件与所述支撑体相对，所述第1屏蔽部包含从所述第1基体部朝向所述支撑体凸出的第1侧壁部。根据以上的方式，第1屏蔽部包含第1侧壁部，因此能够有效地将从磁性体向周围辐射的电磁波屏蔽。
在方式2至方式4中的任一者的具体例(方式5)中，所述第1屏蔽部的至少一部分埋设于所述可动部件。根据以上的方式，第1屏蔽部的至少一部分埋设于可动部件，因此无需将可动部件的本来的大概形状大幅度变更，就能够实现EMI对策。
在方式2的具体例(方式6)中，所述第2屏蔽部包含第2基体部，所述线圈位于所述磁性体和所述第2基体部之间。根据以上的方式，线圈位于磁性体和第2基体部之间，因此能够在磁性体的相反侧通过第2屏蔽部更有效地将从线圈辐射的电磁波屏蔽。
在方式6的具体例(方式7)中，所述可动部件与所述支撑体相对，所述第2屏蔽部包含从所述第2基体部朝向所述可动部件凸出的第2侧壁部。根据以上的方式，第2屏蔽部包含第2侧壁部，因此能够有效地将从线圈向周围辐射的电磁波屏蔽。
方式2至方式7的具体例(方式8)涉及的演奏操作装置具有：基材，其设置有所述线圈；以及调整部件，其对所述基材和所述第2屏蔽部之间的距离进行调整。根据以上的方式，能够通过第2屏蔽部和基材之间的距离的调整而使在线圈发生的磁场变化。
在方式1的具体例(方式9)中，所述电磁屏蔽将所述磁性体及所述线圈包围。根据以上的方式，电磁屏蔽将磁性体及线圈包围，因此能够实现有效的EMI对策。
在方式9的具体例(方式10)中，所述可动部件是构成键盘乐器的键盘的长条状的键，所述电磁屏蔽包含：第1部分，其相对于所述磁性体及所述线圈位于沿着所述键的长边的第1方向；第2部分，其相对于所述磁性体及所述线圈位于与所述第1方向相反的第2方向；第3部分，其位于所述磁性体及所述线圈的上方；以及第4部分，其位于所述磁性体及所述线圈的下方。根据以上的方式，电磁屏蔽将磁性体及线圈包围，因此能够实现有效的EMI对策。
本发明的一个方式(方式11)涉及的键盘乐器具有：键，其与演奏动作相对应地位移；检测系统，其包含有在所述键设置的磁性体和与所述磁性体相对并通过电流的供给而发生磁场的线圈，生成与所述磁性体和所述线圈之间的距离相对应的电平的检测信号；电磁屏蔽，其用于将从所述检测系统辐射的电磁波屏蔽；以及声音生成部，其生成与所述检测信号相对应的声音。
标号的说明
100…键盘乐器(演奏操作装置)，10…键盘，12…键，122…设置面，124…凸出部，126、127…屏蔽部，14…支撑体，19…止动器，20…检测系统，200…框体，21…信号处理电，22…供给电路，23…输出电路，30…信息处理装置，300…框体，31…控制装置，32…存储装置，33…变换器，34…声源电路，40…放音装置，50…被检测部，51…第1线圈，511…第1区间，512…第2区间，514…连结配线，52…电容元件，55…基材，60…信号生成部，61…第2线圈，611…第3区间，612…第4区间，614…连结配线，62、63…电容元件，65…基材，70…电磁屏蔽，71…第1屏蔽部，71a…第1基体部，71b1、71b2…第1侧壁部，72…第2屏蔽部，72a…第2基体部，72b1、72b2…第2侧壁部，81…固定部件，90…施力体，91…击弦机构，911…弦槌，912…传递机构，T1…输入端子，T2…输出端子，Wa…内壁面，Wa1…第1部分，Wa2…第2部分，Wa3…第3部分，Wa4…第4部分，Wb…内壁面，Wb1…第1部分，Wb2…第2部分，Wb3…第3部分，Wb4…第4部分，G1、G2…支点部，141、142…支点支撑部。

Claims (11)

1.一种演奏操作装置，其具有：
可动部件，其与演奏动作相对应地位移；
检测系统，其包含有在所述可动部件设置的磁性体和与所述磁性体相对并通过电流的供给而发生磁场的线圈，生成与所述磁性体和所述线圈之间的距离相对应的电平的检测信号；以及
电磁屏蔽，其用于将从所述检测系统辐射的电磁波屏蔽。
2.根据权利要求1所述的演奏操作装置，其中，
还具有对所述可动部件进行支撑的支撑体，
所述电磁屏蔽包含：
在所述可动部件设置的第1屏蔽部；以及
在所述支撑体设置的第2屏蔽部。
3.根据权利要求2所述的演奏操作装置，其中，
所述第1屏蔽部包含第1基体部，
所述线圈位于所述磁性体和所述第1基体部之间。
4.根据权利要求3所述的演奏操作装置，其中，
所述可动部件与所述支撑体相对，
所述第1屏蔽部包含从所述第1基体部朝向所述支撑体凸出的第1侧壁部。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的演奏操作装置，其中，
所述第1屏蔽部的至少一部分埋设于所述可动部件。
6.根据权利要求2至5中任一项所述的演奏操作装置，其中，
所述第2屏蔽部包含第2基体部，
所述线圈位于所述磁性体和所述第2基体部之间。
7.根据权利要求6所述的演奏操作装置，其中，
所述可动部件与所述支撑体相对，
所述第2屏蔽部包含从所述第2基体部朝向所述可动部件凸出的第2侧壁部。
8.根据权利要求2至7中任一项所述的演奏操作装置，其中，
具有：
基材，其设置有所述线圈；以及
调整部件，其对所述基材和所述第2屏蔽部之间的距离进行调整。
9.根据权利要求1所述的演奏操作装置，其中，
所述电磁屏蔽将所述磁性体及所述线圈包围。
10.根据权利要求9所述的演奏操作装置，其中，
所述可动部件是构成键盘乐器的键盘的长条状的键，
所述电磁屏蔽包含：
第1部分，其相对于所述磁性体及所述线圈位于沿着所述键的长边的第1方向；
第2部分，其相对于所述磁性体及所述线圈位于与所述第1方向相反的第2方向；
第3部分，其位于所述磁性体及所述线圈的上方；以及
第4部分，其位于所述磁性体及所述线圈的下方。
11.一种键盘乐器，其具有：
键，其与演奏动作相对应地位移；
检测系统，其包含有在所述键设置的磁性体和与所述磁性体相对并通过电流的供给而发生磁场的线圈，生成与所述磁性体和所述线圈之间的距离相对应的电平的检测信号；
电磁屏蔽，其用于将从所述检测系统辐射的电磁波屏蔽；以及
声音生成部，其生成与所述检测信号相对应的声音。
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