CN114728505A - 具有低透光率和高选择性的层压窗玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及层压窗玻璃,其包括两个由层压中间层隔开的透明基材,并用于装配建筑物或车辆。透明基材中一个涂覆有能够作用于太阳辐射和/或红外辐射的功能涂层,并且在第二基材的一个面上提供有低发射率(所谓的“低E”)涂层。

Description

具有低透光率和高选择性的层压窗玻璃
本发明涉及层压窗玻璃,其包括两个由层压中间层隔开透明基材,并用于装配建筑物或车辆。透明基材中一个涂覆有能够作用于太阳辐射和/或红外辐射的功能涂层,并且在第二基材的一个面上提供低辐射率(称为低E)涂层。
层压窗玻璃广泛用于车辆和建筑物中。它们以在它们被打碎时避免受伤风险而已知。此外,它们应允许足够量的光通过,同时不允许所有入射的太阳辐射通过,以不过分加热车辆或建筑物内部。满足这两个要求构成了一种折衷。因此,总是需要在对光的透明度方面相对于对能量的透明度具有增加的选择性的层压窗玻璃。
这些窗玻璃旨在:
-减少空调功率和/或防止过度加热,称为“太阳能控制”窗玻璃,以及:
-减少耗散到外部的能量,称为“低辐射率”玻璃。
在说明书的后面部分中,定性“功能涂层”的术语“功能”是指“能够作用于太阳辐射和/或红外辐射”。
根据安装这些窗玻璃的国家/地区的气候,特别地根据日照水平,在透光率和太阳能因子方面所需的性能可以有所不同。因此,开发了通过它们的透光水平进行表征的不同系列的窗玻璃。
例如,在日照水平高的国家,存在对具有25%至45%量级的透光率和足够低的太阳能因子值的窗玻璃强烈的需求。
选择性“S”允许评估这些窗玻璃的性能。它对应于窗玻璃在可见光范围内的透光率TLvis与窗玻璃的太阳能因子FS之比(S=TLvis/FS)。太阳能因子“FS或g”对应于穿过窗玻璃进入房屋的总能量与入射太阳能的比(以%计)。
高选择性的获得不应该损害美观,尤其是颜色。通常,希望在外部和内部反射中以及在透射中获得尽可能中性的外观。
用于获得高选择性和优异颜色中性的传统方法在于开发日益复杂的功能涂层。
已知的选择性窗玻璃包括涂覆有功能涂层的透明基材,该功能涂层包括若干金属功能层的堆叠体,每个金属功能层布置在两个介电涂层之间。这些功能涂层通常通过阴极溅射(任选地由磁场辅助)进行的一系列沉积获得。
传统上,窗玻璃的面是从建筑物的外部开始指定的,并从外部向从配备它的乘客舱或房屋内部的内部对基材的面进行编号。这意味着入射的阳光以递增的数字顺序穿过这些面。
通过调整构成功能涂层的层或涂层的性质、厚度来调整这些窗玻璃的色度。
功能涂层的复杂性使其难以同时获得良好的热性能和优异的颜色中性。
最后,这些功能涂层的复杂性也使给定功能涂层难以保持恒定的生产质量。实际上,由于增加构成这些功能涂层的层数和材料的数量,越来越难以调整沉积条件的校准,以获得来自在同一生产地点生产的两批产品或来自在两个不同的生产基地生产的两批产品的具有相同颜色的功能涂层。
在层压窗玻璃的情况下,透明基材的所有面都被编号,但层压中间层的面不被编号。面1在建筑物外部,因此构成窗玻璃的外墙,面4在建筑物内部,因此构成玻璃的内墙,面2和3与层压中间层接触。
与双层窗玻璃相比,使用层压窗玻璃更难获得良好的选择性。首先,它们不受益于由空腔实现的隔热性能,空腔通常填充有氩气,设置在双层窗玻璃的两个玻璃片材之间。其次,基于不能被设置在窗玻璃外表面上的银功能层,涂层可作用于太阳辐射和/或红外辐射。它们对环境条件的抵抗力使它们不足够耐用。因此,它们必须被定位在面2或面3上。然而,发现如果低辐射率层与层压中间层接触,其低辐射率性质不再对窗玻璃的热传导产生影响。
文献WO2006/108980A2描述了具有设置在面2上的功能涂层的层压窗玻璃,功能涂层包括两个插入在介电涂层之间的银层。使用的玻璃片材是有色玻璃。获得的透光率分别为9.6%和24.8%,或低于本发明所需的目标值。没有考虑加入传输和再发射热量的太阳能因子(TE+qi)。
文献EP1060876A2描述了具有在面2上提供的功能涂层和在面4上提供低E涂层的层压窗玻璃。获得的透光率为31%。69%的可见辐射被反射或根据情况被热层、低E层和有色PVB片材吸收。
面4上的低E涂层是通过热解沉积的氟掺杂SnO2层。然而,通过这种方法沉积的层与通过磁控溅射沉积的层相比具有缺陷,特别是在力学和美学方面。
因此,本发明的目的是通过开发提同时具有优良光学和热性能同时保证所需美学外观的层压窗玻璃来克服这些缺点。所需的光学性能是25-44%,优选30-40%的光透射率,小于30%,甚至小于25%的光反射率,以及尽可能高的选择性。
本发明涉及一种层压窗玻璃,其包括两个由层压中间层连接的透明基材,每个基材包括两个主面。第一透明基材在其一个主面上涂覆有可作用于太阳辐射和/或红外辐射的功能涂层,所述涂层包括至少一个金属功能层。第二基材的至少一个面包括低辐射(lowE)涂层,所述低辐射涂层包括至少一个位于两个介电涂层之间的低辐射层。
根据本发明的特定实施方案,低辐射涂层被设置在面4上,功能涂层被沉积在层压窗玻璃的面2上,所述面从窗玻璃的外部向内部进行编号。
有利地,第一基材的功能涂层包括一个或多个金属功能层,每个金属功能层被设置在两个介电涂层之间。
特别地,第一基材的功能涂层包括,从基材开始:
-下介电涂层,
-金属层,
-中间介电涂层,
-金属层,
-上介电涂层。
功能涂层有利地具有尽可能高的透光率(TL)/能量透射率(TE)比,特别地为1.20-2.50,优选为1.40-2.20,还更优选为1.50-2.00。
有利地,第一基材的功能涂层的一个或多个金属功能层是银基层。
第二基材的低辐射涂层可以包括:
-第一介电涂层,
-低辐射层,其选自透明导电氧化物和Ti、Zr或Hf的氮化物,
-第二介电涂层。
特别地,该涂层的发射率小于45%,优选小于40%,甚至更优选小于38%。
介电涂层(例如第二基材的涂层的SiO2或Si3N4)的厚度可以为5-100nm,优选15-80nm,并且还更优选20-75nm。
有利地,两种涂层(功能涂层或低辐射涂层)中之一包括吸收层。根据该实施方案,功能层可以作用于太阳辐射和/或红外辐射和/或低辐射涂层包括吸收层。吸收层吸收在光谱可见光部分中的太阳辐射。
该吸收层的厚度可以为2-100nm,优选4-50nm,甚至更优选5-25nm。
根据本发明的窗玻璃具有25-44%、优选30-40%的透光率。
所描述的所有光能性质均根据欧洲标准EN410的原则和方法获得,该标准涉及确定在用于建筑的玻璃中使用的窗玻璃的光和太阳特征。
通常,折光指数是在550nm波长处测量的。
能量传输TE对应于直接穿过窗玻璃传输的太阳能流的百分比。
光特征使用D65光源在垂直于窗玻璃的2°处进行测量(除非另有说明):
-TL对应于在可见光范围内的透光率,以%计,
-Rext对应于在可见光范围内的外部光反射,以%计,观察者在外部空间一侧,
-Rint对应于在可见光范围内的内部光反射,以%计,观察者在内部空间一侧,
-a*T和b*T对应于在L*a*b*体系中的透射中的颜色a*和b*,
-a*Rext和b*Rext对应于在L*a*b*体系中的反射中的颜色a*和b*,观察者在外部空间一侧,
-a*Rint和b*Rint对应于在L*a*b*体系中的反射中的颜色a*和b*,观察者在内部空间一侧。
功能涂层和/或低E涂层通过磁场辅助阴极溅射(磁控管法)进行沉积。根据该有利实施方案,涂层的所有层均通过磁场辅助阴极溅射进行沉积。
本发明还涉及获得根据本发明的窗玻璃的方法,其中所述涂层的层通过磁控管阴极溅射进行沉积。
在说明书的其余部分中出现的优选特征既适用于根据本发明的窗玻璃,在适当时也适用于根据本发明的方法、用途、建筑物或车辆。
除非特别规定,否则表述“在...上方”和“在...下方”不必然意味着两个层和/或涂层被设置成彼此接触。当规定一个层与另一个层或涂层“接触”沉积时,这意味着不能有一个(或多个)层插入在这两个层(或层和涂层)之间。
在本说明书中,除非另有说明,否则用于定性材料或层关于其所包含的内容的表述“基于”是指其所包含的成分的质量分数为至少50%,特别地至少70%,优选至少90%。
除非另有说明,否则在没有其它精确说明的情况下,本文件中提到的厚度是取名为Ep的物理、实际或几何厚度,并以纳米表示(而不是光学厚度)。光学厚度Eo被定义为所考虑层的物理厚度乘以其在550nm波长处的折光指数:Eo=n*Ep。由于折光指数是无量纲值,因此可以认为光学厚度的单位是为物理厚度所选择的单位。
根据本发明,介电涂层对应于包括至少一个介电层的层序列。如果介电涂层由多个介电层组成,则介电涂层的光学厚度对应于构成介电涂层的不同介电层的光学厚度之和。
特别地,基材由玻璃,特别是钠钙硅玻璃制成,或由聚合物有机材料制成,优选由透亮玻璃制成。
根据本发明,吸收在光谱的可见光部分中的太阳辐射的吸收层是吸收在可见光中的某些波长的层。吸收层的光学指数可以分为实部和虚部。实部n对应于折光指数。虚部或衰减因子k与层对光的吸收有关。
根据本发明:
-光反射对应于在光谱可见光部分中的太阳辐射的反射,
-光传输对应于在光谱可见光部分中的太阳辐射的传输,
-光吸收对应于在光谱可见光部分中的太阳辐射的吸收。
特别地,吸收层选自:
-基于一种或多种金属和/或准金属的层,
-一种或多种金属和/或准金属的氮化物层,
-一种或多种金属和/或准金属的氧氮化物层,
元素选自钯、铌、钨、铁,特别地为不锈钢形式、钛、铬、钼、锆、镍、钽、锌、锡、硅和铪。
吸收层可以基本上是金属或准金属元素形式。根据本发明,元素形式的材料是指该材料不故意与另一元素如氧、氮或碳组合或结合。这意味着例如该材料不是氧化物、氮化物、碳化物的形式。
尽管呈基本上以元素形式,但金属或准金属可具有痕量的氮化,这是由于来自相邻沉积区的氮污染的沉积气氛。吸收层可以是选自硅、钯、铌、钨、不锈钢、钛、铬、钼、锆、镍、钽、锌、这些元素的合金如NiCr、NiCrW、WTa、WCr、NbZr、TaNiV、CrZr和NbCr的金属或准金属的层。
吸收层可以是氮化物或亚氮化物,即相亚化学计量氮的氮化物。优选地,吸收层是选自SnZnN、TiN、NiCrWN、NiVN、TaN、CrN、ZrN、CrZrN、TiAlN、TiZrN、WN、SiZrN和SiNiCrN的氮化物层。
根据优选的实施方案,吸收层选自镍和/或铬的氮化物层、氮化钛层、氮化铌层或基于硅的层。
基于镍和铬的氮化物层优选地按优选递增顺序具有在90/10和70/30之间的镍与铬的重量比,优选地为80/20比率。
必须调整吸收层的厚度,特别是根据所选材料的或多或少的吸收性质。因此,将几何厚度的值乘以表示材料吸收性质的值是合理的。正如可以通过其几何厚度与其(实际)光学指数n的乘积来定义层的光学厚度一样;可以使用以下等式定义“有效吸收厚度”,其中tabs.effective是有效吸收厚度,tgeo是几何厚度,n是光学指数的实部,k是光学指数的虚部:
tabs.effective=2×tgeo×n×k 。
特别地,有效吸收厚度为5-1000nm,优选25-500nm,甚至更优选50-200nm。
该层的吸收性质的影响是该层必然降低该材料的或包括它的窗玻璃的透光率。为了减弱这种影响,可以向吸收层添加包括介电层的介电涂层,该介电层的材料和厚度进行明智选择。例如,吸收层可以被布置在包含具有高和低折光指数的介电层的两个介电涂层之间,使得可以在一定程度上调节光的透射和吸收。
这些介电涂层还允许保护吸收层。
吸收层可以形成功能涂层的一部分。在这种情况下,第一基材的功能涂层可以包括吸收层。特别地,第一基材的功能涂层可以包括,从基材开始:
-下介电涂层,
-金属功能层,
-中间介电涂层,其包括吸收层
-金属功能层,
-上介电涂层。
根据一个有利的实施方案,当第一基材的功能涂层包括吸收层时:
-第二基材的低辐射涂层包括透明导电层,和/或
-第二基材的低辐射涂层不包括吸收层。
然而,不排除同时在第一基材的功能涂层和第二基材的低辐射涂层中提供吸收层。
吸收层可以形成低辐射(或低E)涂层的一部分。在这种情况下,第二基材的低辐射涂层可以包括吸收层。
根据一个实施方案,吸收层可以是与低辐射层不同的层。
根据另一个实施方案,吸收层和低辐射层是同一个层。这意味着低辐射层也是吸收层。例如,这尤其是基于氮化钛的层的情况。
低E涂层可以包括一个或多个介电涂层和吸收层,特别是低辐射吸收层。
从基材开始,低E涂层可以包括:
-下介电涂层,
-吸收层,特别是低辐射吸收层,
-上介电涂层。
从基材开始,低E涂层可以包括:
-下介电涂层,
-吸收层,特别是低辐射吸收层,
-中间介电涂层,
-吸收层,特别是低辐射吸收层,
-上介电涂层。
根据一个实施方案,当第二基材的低辐射涂层包括吸收层时,第一基材的功能涂层不包括吸收层。
为了获得落入特定透光范围内的窗玻璃,选择落入透光范围内的功能涂层,在该涂层内添加适用的低E涂层。
功能涂层可以包括一个或多个金属功能层,优选基于银,每个设置在两个介电涂层之间。功能涂层尤其可以包括一个、两个、三个或四个金属功能层。根据这些实施方案:
-功能涂层包括至少一个银基金属功能层,或
-功能涂层包括至少两个银基金属功能层,或
-功能涂层包括至少三个银基金属功能层。
相对于功能层的重量,银基金属功能层包含按重量计至少95.0%,优选至少96.5%,并且更优选至少98.0%的银。优选地,相对于银基金属功能层的重量,银基金属功能层包含小于1.0重量%的除银以外的金属。
优选地,金属功能层的厚度是基本相同的。
该堆叠体还可以包括至少一个与金属功能层接触的阻挡层。
阻挡层通常具有保护功能层在上抗反射涂层的沉积期间以及在任选的退火、弯曲和/或淬火类型的高温热处理期间免受可能损坏的作用。
阻挡层选自基于金属或金属合金的金属层、金属氮化物层、金属氧化物层和选自钛、镍、铬和铌的一种或多种元素的金属氧氮化物层,例如Ti、TiN、TiOx、Nb、NbN、Ni、NiN、Cr、CrN、NiCr或NiCrN层。当这些阻挡层以金属、氮化物或氧氮化物形式沉积时,这些层可以根据它们的厚度和围绕它们的层的种类经历部分或完全氧化,例如,在沉积后面层期间或由于在与下邻层接触时的氧化。
根据本发明的有利实施方案,所述一个阻挡层或多个阻挡层满足以下条件中的一个或多个:
-每个金属功能层与至少一个选自下阻挡层和上阻挡层的阻挡层接触,和/或
-每个金属功能层与上阻挡层接触,和/或
-每个阻挡层的厚度至少为0.1nm,优选地为0.2-2.0nm。
根据本发明,阻挡层被认为不形成介电涂层的一部分。这意味着在计算与它们接触的介电涂层的光学厚度时不考虑它们的厚度。
本发明意义中的“介电层”应理解为,从其性质来看,该材料是“非金属的”,即不是金属。在本发明的上下文中,该术语表示在可见光区域(从380nm到780nm)的整个波长范围内具有等于或大于5的n/k比率的材料。
涂层的介电层具有以下单独的或组合的性质:
-它们通过磁场辅助阴极溅射进行沉积,
-它们选自钛、硅、铝、锆、锡和锌中的一种或多种元素的氧化物或氮化物,
-它们具有大于2nm,优选地为4-100nm的厚度。
根据本发明的有利的实施方案,功能涂层的介电涂层满足以下条件中的一个或多个:
-介电层可以基于选自硅、锆、钛、铝、锡、锌的一种或多种元素的氧化物或氮化物,和/或
-至少一个介电涂层包括至少一个具有阻挡功能的介电层,和/或
-每个介电涂层包括至少一个具有阻挡功能的介电层,和/或
-具有阻挡功能的介电层基于选自以下的硅和/或铝化合物:氧化物,例如SiO2和Al2O3,氮化硅Si3N4和AlN,和氧氮化物SiOxNy和AlOxNy,基于氧化锌和氧化锡,或基于氧化钛,
-具有阻挡功能的介电层基于硅和/或铝的化合物,任选地包含至少一种其它元素,例如铝、铪和锆,和/或
-至少一个介电涂层包括至少一个具有稳定功能的介电层,和/或
-每个介电涂层包括至少一个具有稳定功能的介电层,和/或
-具有稳定功能的介电层优选基于选自以下的氧化物:氧化锌、氧化锡、氧化锆或它们中至少两种的混合物,和/或
-具有稳定功能的介电层优选基于结晶氧化物,特别是基于氧化锌,任选地使用至少一种其它元素例如铝掺杂,和/或
-每个功能层在介电涂层上方,介电涂层的上层是具有稳定功能的介电层,优选基于氧化锌,和/或在介电涂层下方,介电涂层的下层是具有稳定功能的介电层,优选基于氧化锌。
当低E涂层包括吸收层(例如具有TiN)时,每个介电涂层仅由一个或多个介电层组成。优选地,在介电涂层中没有吸收层,以免进一步降低光透射。
在TiN类型层的情况下,吸收层的厚度可以为10-60nm,优选地为15-40nm。
当低E涂层不包括吸收层(例如ITO)时,功能涂层的介电涂层之一可以包括吸收层。在这种情况下,优选地,中间介电涂层包括吸收层。任选地,下介电涂层包括吸收层。
当吸收层为NbN类型时,其厚度可以为3-15nm,优选为4-10nm。
当功能涂层的介电涂层包括吸收层时,对于该吸收层,其在550nm处的折光指数包括非零(或不可忽略的)介电函数的虚部,对于计算介电涂层的光学厚度时,该层的厚度不考虑在内。
介电层可以具有阻挡功能。具有阻挡功能的介电层(以下称为阻挡层)应理解为由能够在高温下对来自环境大气或透明基材的氧和水向功能层扩散形成阻挡的材料制成的层。这种介电层选自以下层:
-基于选自以下硅和/或铝化合物的层:氧化物,如SiO2和Al2O3,氮化物,如氮化硅Si3N4和氮化铝AlN,和氧氮化物,如SiOxNy,AlOxNy,其任选使用至少一种其它元素进行掺杂,
-基于锌和锡的氧化物的层,
-基于二氧化钛的层。
优选地,每个涂层包括至少一个介电层,该介电层由以下组成:
-铝和/或硅的氮化物或氮氧化物,或
-锌和锡混合氧化物,或
-二氧化钛。
这些介电层的厚度为:
-小于或等于40nm、小于或等于30nm或小于或等于25nm,和/或
-大于或等于5nm、大于或等于10nm或大于或等于15nm。
本发明的功能涂层可以包括具有稳定功能的介电层。在本发明的含义内,“稳定的”是指选择层的种类以稳定在功能层和该层之间的界面。这种稳定作用引起增强该功能层与包围它的层的粘合力,并由此将阻止其组成材料的迁移。
具有稳定功能的一个或多个介电层可以直接与功能层直接接触或通过阻挡层隔开。
优选地,位于功能层下方的每个介电涂层的最终介电层是具有稳定功能的介电层。
还有利的是,在功能层上方存在具有稳定功能的层,例如基于氧化锌的层,以增加其粘附性并最佳地阻止在与基材相反的堆叠体一侧的扩散。
因此具有稳定功能的一个或多个介电层可以存在预至少一个功能层或每个功能层之上和/或之下,或者直接与其接触或者被阻挡层隔开。
有利地,每个具有阻挡功能的介电层通过至少一个具有稳定功能的介电层与功能层隔开。
氧化锌层可以任选地通过至少一种其它元素例如铝来掺杂。氧化锌结晶。基于氧化锌的层以递增优选地包含按质量计至少90.0%、至少92%、至少95%、至少98.0%的锌,相对于在基于氧化锌的层中除氧之外的元素的质量。
优选地,功能涂层的介电涂层包括基于氧化锌的介电层,其位于银基金属层下方并与其直接接触。
氧化锌层以递增优选地具有厚度:
-至少3.0nm,至少4.0nm,和/或
-至多25nm,至多10nm,至多8.0nm。
功能涂层可以任选地包括上保护层。上保护层优选是堆叠体的最后层,即离涂覆有堆叠体的基材最远的层。这些上保护层被认为包含在最后的介电涂层中。这些层通常具有为2-10nm、优选2-5nm的厚度。
保护层可以选自钛、锆、铪、锌和/或锡的层,这种或这些金属呈金属、氧化物或氮化物形式。有利地,保护层是氧化钛层、氧化锡锌层或基于氧化钛锆的层。
从透明基材开始定义的功能涂层的一个特别有利的实施方案包括:
-第一介电涂层,其包括至少一个具有阻挡功能的层和具有稳定功能的介电层,
-任选的阻隔层,
-第一功能层,
-任选的阻隔层,
-第二介电涂层,其包括至少一个具有稳定功能的介电层和具有阻挡功能的介电层,
-任选的保护层。
根据功能涂层的另一个特别有利的实施方案,它包括:
-第一介电涂层,其包括至少一个具有阻挡功能的层和具有稳定功能的介电层,
-任选的阻隔层,
-第一功能层,
-任选的阻隔层,
-第二介电涂层,其包括至少一个具有稳定功能的下介电层、具有阻挡功能的层和具有稳定功能的上介电层,
-任选的阻隔层,
-第二功能层,
-任选的阻隔层,
-第三介电涂层,其包括至少一个具有稳定功能的介电层,一个具有阻挡功能的层,
-任选的保护层。
根据另一个特别有利的实施方案,从透明基材开始定义的功能涂层的堆叠体包括:
-第一介电涂层,其包含至少一个具有阻挡功能的层和具有稳定功能的介电层,
-任选的阻隔层,
-第一功能层,
-任选的阻隔层,
-第二介电涂层,其包含至少一个具有稳定功能的下介电层、具有阻挡功能的层和具有稳定功能的上介电层,
-任选的阻隔层,
-第二功能层,
-任选的阻隔层,
-第三介电涂层,其包含至少一个具有稳定功能的下介电层、具有阻挡功能的层和具有稳定功能的上介电层,
-任选的阻隔层,
-第三功能层,
-任选的阻隔层,
-第四介电涂层,其包含至少一个具有稳定功能的介电层、具有阻挡功能的层,
-任选的保护层。
根据本发明的透明基材优选由刚性无机材料制成,例如由玻璃制成,或者基于聚合物的有机材料制成(或由聚合物制成)。
根据本发明的有机透明基材也可以由刚性的或柔性的聚合物制成。根据本发明适合的聚合物的实例尤其包括:
-聚乙烯,
-聚酯,例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN);
-聚丙烯酸酯,例如聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA);
-聚碳酸酯;
-聚氨酯;
-聚酰胺;
-聚酰亚胺;
-氟化聚合物,例如氟代酯,例如乙烯-四氟乙烯(ETFE)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚三氟氯乙烯(PCTFE)、乙烯-三氟氯乙烯(ECTFE)、氟化乙烯-丙烯共聚物(FEP);
-可光交联和/或可光聚合的树脂,例如硫烯、聚氨酯、聚氨酯-丙烯酸酯、聚酯-丙烯酸酯树脂,和
-聚硫氨酯。
基材优选为玻璃片材。
基材优选是透明的、无色的(这时是透亮或超透亮玻璃)或有色的,例如蓝色、灰色或青铜色。玻璃优选为钠钙硅类型玻璃,但它也可以由硼硅酸盐或铝硼硅酸盐玻璃制成。
无堆叠体的普通钠钙玻璃类型基材的透光率(TL)大于89%,优选为90%。
4-6毫米厚的普通透亮玻璃具有以下光性质:
-为89%-91.5%的透光率,
-为7-9.5%的光反射,
-为0.3-3%的光吸收。
根据优选实施方案,基材由玻璃,特别是钠钙硅玻璃制成,或由聚合物有机材料制成。
基材有利地具有至少一个大于或等于1m,甚至2m,甚至3m的尺寸。基材的厚度通常在0.5mm-19mm之间,优选地在0.7mm-9mm之间,特别地在2mm-8mm之间,甚至在4mm-6mm之间变化。基材可以是平坦的或弯曲的,甚至是柔性的。
经涂覆的基材可经受在高温的热处理,例如退火,例如通过闪光退火,例如激光或火焰退火、淬火和/或弯曲。热处理的温度高于400℃,优选高于450℃,更好地高于500℃。涂覆有功能涂层的基材因此可以被弯曲和/或淬火。
根据有利的实施方案,根据本发明的层压窗玻璃尤其允许实现以下性能:
-小于或等于40%,优选小于30%,更优选小于或等于29%的太阳能因子g;和/或
-为25-44%,优选30-40%,更优选32-38%的透光率;和/或
-至少1.05,优选至少1.10,甚至更优选至少1.15的选择性;和/或
-小于或等于30%,优选小于或等于25%,甚至更优选小于20%的在外侧的光反射;和/或
-小于或等于30%,优选小于或等于25%的在内侧的光反射;和/或
-按递增优选的顺序,在-10和+5之间,在-8和+1之间,在-6和0之间的外部反射a*和b*值;和/或
-按递增优选的顺序,在-5和+8之间,在-3和+6之间,在-1和+3之间的内部反射a*和b*值;和/或
-按递增优选的顺序,在-10和+5之间,在-8和+1之间,在-6和0之间的透射a*和b*值。
本发明的细节和有利特征来自以下非限制性实施例。
实施例
I. 功能涂层
将功能涂层(RF1、RF2)沉积在厚度为4毫米的由透亮钠钙玻璃制成的基材上。
下面的表1总结了与构成功能涂层的不同层的厚度相关的特征。在层压窗玻璃中,经涂敷的面将构成第一基材的内部面,即层压窗玻璃的面2。
层的厚度是物理厚度,以nm表示。
Figure 358441DEST_PATH_IMAGE001
RDS=上介电涂层;CA=吸收层;
CF=功能层;RDInt=中间介电涂层;
RDI=下介电涂层;SUB=基材。
层的物质种类
金属功能层(CF)是基于银(Ag)的层。阻挡层是由镍铬合金(NiCr)制成的金属层。功能涂层的介电涂层包括阻挡层和稳定层。阻挡层基于掺杂铝的氮化硅(Si3N4:Al)或基于锌和锡混合氧化物(SnZnOx)。稳定层由氧化锌(ZnO)制成。
当吸收层插入功能涂层时,它优选基于氮化物,特别是NbN。
这些层通过溅射(称为“磁控阴极”溅射)进行沉积。
II. 低E涂料
将低E涂层沉积在厚度为4毫米的透明钠钙玻璃基材上。涂覆面将构成第二基材的外部面,即层压窗玻璃的面4。
当功能涂层为上述的RF1堆叠体时,从基材开始的低E涂层为:Si3N4(25nm)/TiN(23nm)/Si3N4(25nm)。
它具有为35%的发射率。
当功能涂层为上述的RF2堆叠体时,从基材开始的低E涂层为:Si3N4(25nm)/ITO(95nm)/SiO2(72nm)。
它具有为20%的发射率。
III.层压窗玻璃的结构
表面2上的功能涂层(RF)的第一涂覆基材和表面4上的低E涂层的第二涂覆基材已通过传统的层压中间层以层压窗玻璃的形式组装。
因此,层压窗玻璃具有以下类型的结构:
第一基材/RF/层压中间层/第二基材/低E涂层。
V.“太阳能控制”与比色性能
下表2列出了所得层压窗玻璃的主要光学特征。
Figure 806739DEST_PATH_IMAGE002
比较发明1与参照1和参照2,可以看出,由于具有高TL的功能涂层和吸收性低E层,获得的层压窗玻璃具有在目标范围30%至40%内的透光率,分别为16%和15%的低的内部和外部光反射率,与具有相同的TL的参照2相比改善的选择性。
相对于参照1和参照2,TE能够被降低。
通过比较发明2与参照1和2,可以看出,由于透明导电涂层和低TL功能涂层,包括吸收层,获得了在目标内具有30-40%的透光率、低内部和外部反射率分别为13%和15%,与参照2具有相同的TL。
本发明不限于使用具有两个银层的功能涂层。

Claims (16)

1.一种层压窗玻璃,其包括两个由层压中间层隔开的透明基材,每个基材包括两个主面,第一透明基材在其一个主面上涂覆有能够作用于太阳辐射和/或红外辐射的功能涂层,所述涂层包括至少一个金属功能层,其特征在于:
第二基材的至少一个面包括低辐射涂层,所述低辐射涂层包括至少一个位于两个介电涂层之间的低辐射层。
2.根据前一项权利要求所述的窗玻璃,其特征在于,所述第二基材的低辐射涂层包括:
-第一介电涂层,
-低辐射层,其选自透明导电氧化物和Ti、Zr或Hf的氮化物,
-第二介电涂层。
3.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述低辐射涂层被设置在面4上,并且所述功能涂层被沉积在所述层压窗玻璃的面2上,所述面从窗玻璃的外部向内部进行编号。
4.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述第一基材的功能涂层包括一个或多个金属功能层,每个金属功能层被沉积在两个介电涂层之间。
5.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述第一基材的功能涂层从所述基材开始包括:
-下介电涂层,
-金属功能层,
-中间介电涂层,
-金属功能层,
-上介电涂层。
6.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述第一基材的功能涂层的金属功能层是银基层。
7.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述第二基材的涂层的介电涂层具有为5-100nm,优选15-80nm,更优选20-75nm的厚度。
8.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述两个涂层之一包括吸收层。
9.根据前一项权利要求所述的窗玻璃,其特征在于,所述吸收层的厚度为2-100nm,优选4-50nm,甚至更优选5-25nm。
10.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,其具有25-44%、优选30-40%的透光率。
11.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述第一基材的功能涂层包括吸收层。
12.根据前一项权利要求所述的窗玻璃,其特征在于,所述第一基材的功能涂层从所述基材开始包括:
-下介电涂层,
-金属功能层,
-中间介电涂层,
-金属功能层,
-上介电涂层,
中间介电涂层包括吸收层。
13.根据权利要求11和12中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述第二基材的低辐射涂层包括透明导电层。
14.根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃,其特征在于,所述基材由玻璃,特别地硅钠钙玻璃,或聚合物有机材料制成。
15.根据前一项权利要求所述的窗玻璃,其特征在于,所述基材由透亮玻璃制成。
16.用于制备根据前述权利要求中任一项所述的窗玻璃的方法,其特征在于,所述涂层通过磁控管阴极溅射进行沉积。
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