CN114694477B - 一种光学闪粉的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种光学闪粉的制作方法，所述方法包括：对特定尺寸的母版版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状；利用专用显影液对所述母版进行显影处理，使所述图文、所述几何形状、所述光栅显现；对经过所述显影处理的母版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版；对所述镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的光学闪粉。利用本申请各实施例，可以使光学闪粉具有防伪功能。
Description
技术领域
本发明涉及光学材料领域，尤其涉及一种光学闪粉的制作方法。
背景技术
光学闪粉在行业内又称为镭射粉、镭射散粉，其作为一种效果独特的表层处理材料，广泛应用于工艺品、化妆品、丝网印刷行业、装饰材料、油漆装璜、家具喷漆等领域，其特点在于闪光的特性增强产品的视觉效果，使装饰部分有层次，更具立体感，使装饰物鲜艳夺目、倍添光彩。行业内光学闪粉制作是使用通用镭射母版通过模压机批量模压带有镭射纹理的基膜，表面镀折射层或金属层，通过专用破碎机进行破碎，制作成带有基膜或是无基膜粉状颗粒。传统的制作使用是通用纹理镭射版模压，即大面积面阵或点阵光刻而制作出镭射母版，此母版国内外广泛使用，制作频率固定单一，无任何隐藏信息，使用在产品上仅是作为装饰之用，会给一些不法分子有空可钻，用相同制造工艺代替真品进行销售而厂商无法从外观进行鉴别真假；另外，现有的光学闪粉形状是固定几种即方形，正方形、六边形或随机形，同一个形状下的散粉颗粒大小也不相同，很难做到尺寸统一。
发明内容
有鉴于此，本申请提出了一种光学闪粉的制作方法，可以制作出具有定制频率的且具有防伪功能的光学闪粉，同时可以提高光学闪粉的均匀性，提高光学闪粉的装饰效果。
根据本申请的第一方面，提供了一种光学闪粉的制作方法，所述方法包括：
对特定尺寸的光刻胶版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述光刻胶版上，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状；
利用专用显影液对所述光刻胶版进行显影处理，使所述图文、所述几何形状、所述光栅显现；
对经过所述显影处理的光刻胶版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版；
对所述镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的光学闪粉。
在一种可能的实现方式中，所述对特定尺寸的光刻胶版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述光刻胶版上包括：
将所述图文所在区域之外的区域刻写成第一光栅结构，所述第一光栅结构的光栅频率为第一频率值，对应的刻写功率为第一功率值；
将所述图文所在区域刻写成无光栅结构或光栅频率不等于所述第一频率值的光栅结构；
将所述几何形状的边框刻写成第二光栅结构，所述第二光栅结构对应的刻写功率为所述第一功率值的特定倍数。
在一种可能的实现方式中，所述图文、几何形状的设计包括：
按照特定的排版方式排列设计所述图文，形成图文阵列，每个所述图文的尺寸和内容相同；
在所述图文阵列的基础上按照特定排版方式设计所述几何形状，所述几何形状的位置与所述图文的位置相匹配，每个几何形状的形状和尺寸相同。
在一种可能的实现方式中，所述图文包括图形、数字、文字中的一种或多种。
在一种可能的实现方式中，所述对经过所述显影处理的光刻胶版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版包括：
通过UV组版方式，将多个所述光刻胶版组成更大面积的母版；
将所述更大面积的母版放入专用电铸机中进行金属化铸版，得到所述镭射版。
在一种可能的实现方式中，所述第一频率值的范围为10至2500线对，所述特定倍数为3倍到10倍。
在一种可能的实现方式中，所述光刻胶版的尺寸范围为2英寸到20英寸，所述光刻胶版的胶层厚度为1微米到3微米。
根据本申请的第二方面，提供了一种光学闪粉的制作方法，所述方法包括：
选取具有特定频率的镭射版；
在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状；
将带有所述图文、几何形状、光栅的镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的具有固定频率的光学闪粉。
在一种可能的实现方式中，所述在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状包括：
在所述具有特定频率的表面涂布光刻胶层，用高精掩膜制作出所述图文、所述几何形状、所述光栅，曝光显影使所述图文、几何形状、光栅显现。
在一种可能的实现方式中，所述在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状包括：
在所述具有特定频率的表面涂布光刻胶层，用高精度光刻机按设计文件进行刻写显影，使所述图文、几何形状、光栅显现。
根据本申请的各方面提供的实现方式，可以制作出具有定制频率的镭射母版，在闪粉色相上可以定制从消色到彩虹色，搭配不同颜色的色料，更是色彩丰富，层次明显；可以在不同频率上制作隐藏信息，可以是字母或图形，在后期制作出散粉后，每个单颗粒都会有隐藏信息出现，通过放大镜进行识别，可以快速确认该产品添加的光学闪粉内容，从而判别产品的来源和真伪；本工艺制作出镭射母版还具有定制断裂形状特点，通过在制作的过程中控制镭射母版每个断裂小颗粒边缘及和厚度，在后期模压时产生断裂形状，可以生产出每个颗粒尺寸相等，让光学闪粉更加均匀，不同的产品使用不同的定制图形光学闪粉，具有明显的信息区别。本工艺可以同时制作出具有隐藏信息不同频率的镭射母版，还具有定制断裂图形特性，在传统工艺上有着非常明显的区别，让光学闪粉具有装饰功能的同时，具有更为突出的防伪功能和追溯功能。
根据下面参考附图对示例性实施例的详细说明，本申请的其它特征及方面将变得清楚。
附图说明
包含在说明书中并且构成说明书的一部分的附图与说明书一起示出了本申请的示例性实施例、特征和方面，并且用于解释本申请的原理。
图1示出本申请一种实施例提供的一种光学闪粉的制作方法的方法流程示意图。
图2示出本申请另一种实施例提供的一种光学闪粉的制作方法的方法流程示意图。
图3示出本申请一种实施例提供的所述镭射版的设计示意图。
图4示出本申请一种实施例提供的所镭射版的微结构示意图。
具体实施方式
以下将参考附图详细说明本申请的各种示例性实施例、特征和方面。附图中相同的附图标记表示功能相同或相似的元件。尽管在附图中示出了实施例的各种方面，但是除非特别指出，不必按比例绘制附图。
在这里专用的词“示例性”意为“用作例子、实施例或说明性”。这里作为“示例性”所说明的任何实施例不必解释为优于或好于其它实施例。
另外，为了更好的说明本申请，在下文的具体实施方式中给出了众多的具体细节。本领域技术人员应当理解，没有某些具体细节，本申请同样可以实施。在一些实例中，对于本领域技术人员熟知的方法、手段、元件和电路未作详细描述，以便于凸显本申请的主旨。
图1示出本申请一种实施例提供的一种光学闪粉的制作方法的方法流程示意图。具体的，如图1所示，所述方法可以包括：
S110：对特定尺寸的母版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状。
S120：利用专用显影液对所述母版进行显影处理，使所述图文、所述几何形状、所述光栅显现。
S130：对经过所述显影处理的母版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版。
S140：对所述镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的光学闪粉。
在本申请一种实施例中，所述对特定尺寸的母版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上可以包括：
将所述图文所在区域之外的区域刻写成第一光栅结构，所述第一光栅结构的光栅频率为第一频率值，对应的刻写功率为第一功率值；
将所述图文所在区域刻写成无光栅结构或光栅频率不等于所述第一频率值的光栅结构；
将所述几何形状的边框刻写成第二光栅结构，所述第二光栅结构对应的刻写功率为所述第一功率值的特定倍数。
在上述实施方式中，其中母版可以包括但不限于光刻胶版、镍板及PC版。
在本申请一种实施例中，所述图文、几何形状的设计可以包括：
按照特定的排版方式排列设计所述图文，形成图文阵列，每个所述图文的尺寸和内容相同；
在所述图文阵列的基础上按照特定排版方式设计所述几何形状，所述几何形状的位置与所述图文的位置相匹配，每个几何形状的形状和尺寸相同。
在本申请一种实施例中，所述图文可以包括图形、数字、文字中的一种或多种。
所述图文(隐藏信息)的设计可以通过通过PS、CDR、CAD、AI等图形制作软件绘制，图形内容可以是图形、数字、LOGO、几何图形，可以设置图形尺寸为10到300微米，图文的设计排版方式可以是阵列式或随机排列，满足独立断裂颗粒都有隐藏内容。
所述几何形状图形可以在隐藏信息原稿上进行设计，内容可以是多边形、长方形、正方形、梭形、异形等连续重复的几何框线图形，且每个图形大小一致，设置图形尺寸高度30微米～1000微米，线条粗细设置为1～5微米，设计排版方式可以是阵列式或错位排列，图形连续。
在本申请一种实施例中，所述对经过所述显影处理的光刻胶版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版包括：
通过UV组版方式，将多个所述光刻胶版组成更大面积的母版；
将所述更大面积的母版放入专用电铸机中进行金属化铸版，得到所述镭射版。
在本申请一种实施例中，所述第一频率值的范围为10至2500线对，所述特定倍数为3倍到10倍。
在本申请一种实施例中，所述光刻胶版的尺寸范围为2英寸到20英寸，所述光刻胶版的胶层厚度为1微米到3微米。
使用光刻机专用制作软件设置定义光刻内容及光刻参数，定义隐藏信息区域外的部分为光栅结构，光栅频率为10～2500线对，功率为正常输出值，设置输出功率正常值。定义隐藏信息区域为无结构或光栅结构，区别于a，设置输出功率正常值。定义断裂重复几何框线图形为光栅结构，功率为正常输出值3-10倍。可以使用光刻分辨率200纳米以上高精度光刻机光刻制作，将设计图形进行光刻转化。
可以使用2～20英寸或以上尺寸光刻胶版进行光刻，胶层厚度为1-3微米正性光刻胶。光刻完成后用专用显影液对光刻胶版显影，使图文、几何线框与光栅显现。用高倍放大镜检查光刻效果与质量。为保证光刻质量，光刻环境必须是洁净室内，使用安全灯。
图3示出本申请一种实施例提供的所述镭射版的设计示意图。图4示出本申请一种实施例提供的所镭射版的微结构示意图。如图3、图4所示，所述图文2所示的“OK”字样是光学闪粉的隐藏信息，每个几何形状3(断裂图形，即每个光学闪粉的形状)内具有一个隐藏信息图文2，可以保证后期模压制出的光学闪粉均具有隐藏信息图文，图文2之外的区域为光栅结构区域，图文内部区域可以是无光栅结构。另外，如图4所示，断裂图形3内可以采用光栅结构，对应的，断裂图形边框处也采用光栅结构，且边框处光栅的深度是内部的数倍，即对应的光刻机的光刻功率值被设置为内部的数倍。
图2示出本申请另一种实施例提供的一种光学闪粉的制作方法的方法流程示意图。具体的，如图2所示，所述方法可以包括：
S210：选取具有特定频率的镭射版。
S220：在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状。
S230：将带有所述图文、几何形状、光栅的镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的具有固定频率的光学闪粉。
在本申请一种实施例中，所述在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状可以包括：
在所述具有特定频率的表面涂布光刻胶层，用高精掩膜制作出所述图文、所述几何形状、所述光栅，曝光显影使所述图文、几何形状、光栅显现。
在本申请一种实施例中，所述在所述镭射版上刻写显影出预先设计的图文、几何形状、光栅，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状可以包括：
在所述具有特定频率的表面涂布光刻胶层，用高精度光刻机按设计文件进行刻写显影，使所述图文、几何形状、光栅显现。
利用上述各实施例所述的方法，有别于传统闪粉制作的工艺，其主要特点是制作作出的镭射母版，可以定制频率，在散粉色相上可以定制从消色到彩虹色，搭配不同颜色的色料，更是色彩丰富，层次明显；可以在不同频率上制作隐藏信息，可以是字母或图形，在后期制作出散粉后，每个单颗粒都会有隐藏信息出现，通过放大镜进行识别，可以快速确认该产品添加的光学闪粉内容，从而判别产品的来源和真伪；本工艺制作出镭射母版还具有定制断裂形状特点，通过在制作的过程中控制镭射母版每个断裂小颗粒边缘及和厚度，在后期模压时产生断裂形状，可以生产出每个颗粒尺寸相等，让光学闪粉更加均匀，不同的产品使用不同的定制图形光学闪粉，具有明显的信息区别。本工艺可以同时制作出具有隐藏信息不同频率的镭射母版，还具有定制断裂图形特性，在传统工艺上有着非常明显的区别，让光学闪粉具有装饰功能的同时，具有更为突出的防伪功能和追溯功能。
以上已经描述了本申请的各实施例，上述说明是示例性的，并非穷尽性的，并且也不限于所披露的各实施例。在不偏离所说明的各实施例的范围和精神的情况下，对于本技术领域的普通技术人员来说许多修改和变更都是显而易见的。本文中所用术语的选择，旨在最好地解释各实施例的原理、实际应用或对市场中的技术的技术改进，或者使本技术领域的其它普通技术人员能理解本文披露的各实施例。
Claims (6)
1.一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
对特定尺寸的母版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上，所述图文为闪粉的隐藏信息，所述几何形状对应闪粉的断裂形状；
利用专用显影液对所述母版进行显影处理，使所述图文、所述几何形状、所述光栅显现；
对经过所述显影处理的母版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版；
对所述镭射版进行模压处理，得到形状为所述几何形状、带有所述图文和所述光栅的光学闪粉；
所述母版包括光刻胶版、镍板及PC版，对特定尺寸的母版进行光刻，将预先设计的图文、几何形状、光栅刻写在所述母版上包括：
将所述图文所在区域之外的区域刻写成第一光栅结构，所述第一光栅结构的光栅频率为第一频率值，对应的刻写功率为第一功率值；
将所述图文所在区域刻写成无光栅结构或光栅频率不等于所述第一频率值的光栅结构；
将所述几何形状的边框刻写成第二光栅结构，所述第二光栅结构对应的刻写功率为所述第一功率值的特定倍数。
2.如权利要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述图文、几何形状的设计包括：
按照特定的排版方式排列设计所述图文，形成图文阵列，每个所述图文的尺寸和内容相同；
在所述图文阵列的基础上按照特定排版方式设计所述几何形状，所述几何形状的位置与所述图文的位置相匹配，每个几何形状的形状和尺寸相同。
3.如权利要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述图文包括图形、数字、文字中的一种或多种。
4.如权利要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述对经过所述显影处理的母版进行表面金属化处理，得到带有所述图文、所述几何形状、所述光栅的镭射版包括：
通过UV组版方式，将多个所述母版组成更大面积的母版；
将所述更大面积的母版放入专用电铸机中进行金属化铸版，得到所述镭射版。
5.如权利要求2所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述第一频率值的范围为10至2500线对，所述特定倍数为3倍到10倍。
6.如权利要求1所述的一种光学闪粉的制作方法，其特征在于，所述母版的尺寸范围为2英寸到20英寸，所述母版的胶层厚度为1微米到3微米。
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2022
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