CN114675362A - 光学玻璃的表面防护镀膜方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开光学玻璃的表面防护镀膜方法，包括基板，所述基板设有光谱区，所述光谱区分为透射区和反射区；反射区为所述基板的中部，基板反射区的两侧均为透射区；其步骤如下：S1步骤：对基板需要镀膜的表面进行前序处理；S2步骤：对反射区进行镀覆反射膜；S3步骤：对透射区的表面进行去波纹处理；S4步骤：对透射区进行镀覆折射膜；S5步骤：在折射膜的截面镀覆一层透光膜；S6步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜；所述S5步骤中，透光膜包括贴覆区和透光区，且两者交互成形；贴覆区的贴覆膜层与基板的镀膜表面呈真空状，透光区的透光膜层与基板的镀膜表面之间有间隙。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜领域，具体涉及光学玻璃的表面防护镀膜方法。
背景技术
目前，带阻滤光片或者带抑制滤光片，是指截止特点给波长的光，尽可能透过更多的其余波段的光谱，光谱特性呈凹形的滤光片。属于相对截止的滤光片，主要用于消除或减少特定光，提升其他光谱能量；
而带阻滤光片或者带抑制滤光片为了对特点的光谱进行过滤，就需要牺牲一些透光率，透光率的降低，使配套滤光片的设备因光线问题，造成相应设备性能得不到提升。
发明内容
为解决现有技术存在的不足，本发明提供了光学玻璃的表面防护镀膜方法。
本发明的技术方案为：光学玻璃的截面防护镀膜方法，包括基板，所述基板设有光谱区，所述光谱区分为透射区和反射区；反射区为所述基板的中部，基板反射区的两侧均为透射区；其步骤如下：
S1步骤：对基板需要镀膜的表面进行前序处理；
S2步骤：对反射区进行镀覆反射膜；
S3步骤：对透射区的表面进行去波纹处理；
S4步骤：对透射区进行镀覆折射膜；
S5步骤：在折射膜的表面镀覆一层透光膜；
S5步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜；
所述S5步骤中，透光膜包括贴覆区和透光区，且两者交互成形；贴覆区的贴覆膜层与基板的镀膜表面呈真空状，透光区的透光膜层与基板的镀膜表面之间有间隙。
优选的技术方案：所述贴覆膜层包括光扩散层和光吸收层，所述光吸收层能够吸收折射的光线，所述光扩散层用于增大出射的光线的发散角度。
优选的技术方案：所述透光膜层相对于所述折射膜的截面呈凸状。
优选的技术方案：左侧的透光膜层和右侧的透光膜层两者为水平镜像设置。
优选的技术方案：所述透光膜层的第一截面向反射区方向有相应的倾斜度。
优选的技术方案：所述透光膜层至少有两个截面，第一截面向反射区方向倾斜，第二截面与第一截面的方向相反；靠近所述反射区的截面低于远离所述反射区另一截面。
优选的技术方案：透光膜层包括第一截面、第二截面和连接所述第一截面和所述第二截面的第三截面，所述第一截面和所述第二截面相对于与所述基板的平行面的倾斜方向不同，靠近反射区方向的第一截面的设定位置处设有凹部；远离反射区方向的第二截面的设定位置处设有凸部。以第一角度范围内的入射角入射的所述投影光线的至少一部分连续在所述第一平面和所述第二平面处发生全反射进入观看者的所述视场范围内，以第二角度范围内的入射角入射的所述投影光线的至少一部分在所述第三平面处被所述反射层反射至观看者的所述视场范围内S1步骤中对基板需要镀膜的表面进行前序处理，包括如下步骤：
对基板的表面进行污渍处理；
对基板的表面进行静电处理；
对基板的表面进行气源引入，形成氧化钨层；
通过使气体流过处在低于其熔点的温度下的氯化钨以在该气体中携带氯化钨，并把该气流引入到基板的截面上。
优选的技术方案：在S5步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜之后，通过喷涂设备对防护膜的截面喷涂防氧化液体，使防护膜的截面形成防氧化层。
本发明所达到的有益效果为：本发明通过透明膜的结构特点，解决了透光率低的问题：第一，通过对透明膜的透光膜层与基板的镀膜表面之间有间隙，当光源穿过透射区时，因密封区域有空气，能很好的将光源穿透，从而提供相应的光源；第二，通过透光膜层的多个截面（2个或3个截面），解决了从多个角度的吸收光源，进一步提高光源的吸收；第三，通过使用该透明膜的一种光学玻璃的表面防护镀膜方法，从而解决在折射区透光率低的问题，并在基板的光谱区进行镀覆防护膜，增强该光学玻璃的安全性。
附图说明
图1是本发明光学玻璃防护镀膜流程图。
具体实施方式
为使本发明的上述目的、特征和优点能够更为明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施例做详细的说明。
需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
在本说明书的描述中，参考术语“实施例”、“一个实施例”和“一个实施方式”等的描述意指结合该实施例或实施方式描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示实施方式中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或实施方式。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或实施方式以合适的方式结合。
本发明提出一种透光膜，透光膜包括贴覆区和透光区，且两者交互成形；贴覆区的贴覆膜层与基板的镀膜截面呈真空状，透光区的透光膜层与基板的镀膜截面之间有间隙；所述透光膜层相对于所述折射膜的表面呈凸状；所述贴覆膜层包括光扩散层和光吸收层，所述光吸收层能够吸收折射的光线，所述光扩散层用于增大出射的光线的发散角度。
所述透光膜层相对于所述折射膜的表面呈凸状。
左侧的透光膜层和右侧的透光膜层两者为水平镜像设置。
所述透光膜层的第一截面向反射区方向有相应的倾斜度。
通过贴覆膜层贴覆在基板的左右两侧的透射区，使贴覆膜层与基板的截面形成紧密贴合状态，因贴覆膜层与透光膜层是一个整体，相邻贴覆膜层的透光膜层与基板的镀膜截面形成有空气的密封区域；当光源穿过透射区时，因密封区域有空气，能很好的将光源穿透，从而提供相应的光源。
相对于上述的技术方案，本技术方案在透光膜层的第一截面向反射区方向有相应的倾斜度；透光膜层的第一截面指代是能最大程度的接受光源密封区域的截面，密封区域在获取光源的情况下，因密封区域第一截面增加获取光源的面积，从而提高光亮度；
透光膜层至少有两个截面，第一截面向反射区方向倾斜，第二截面与第一截面的方向相反；靠近所述反射区的截面低于远离所述反射区另一截面；当透光膜层接受到光源时，第一截面最大程度的接受光源，而第二截面为了吸收其它光源，第二截面上设置的倾斜坡度要小于第一截面的倾斜坡度，从而最大限度的接受其它光源；
透光膜层包括第一截面、第二截面和连接所述第一截面和所述第二截面的第三截面，所述第一截面和所述第二截面相对于与所述基板的平行面的倾斜方向不同，靠近反射区方向的第一截面的设定位置处设有凹部；远离反射区方向的第二截面的设定位置处设有凸部；以第一角度范围内的入射角入射的光线的至少一部分连续在所述第一截面和所述第二截面处发生全折射进入观看者视场范围内，以第二角度范围内的入射角入射光线的至少一部分在所述第三截面处被所述反射层反射至观看者的所述视场范围内。
光学玻璃的截面防护镀膜方法，包括基板，所述基板设有光谱区，所述光谱区分为透射区和反射区；反射区为所述基板的中部，基板反射区的两侧均为透射区；其步骤如下：
S1步骤：对基板需要镀膜的表面进行前序处理；
S2步骤：对反射区进行镀覆反射膜；
S3步骤：对透射区的表面进行去波纹处理；
S4步骤：对透射区进行镀覆折射膜；
S5步骤：在折射膜的表面镀覆一层透光膜；
S5步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜；
S1步骤中对基板需要镀膜的表面进行前序处理，包括如下步骤：
对基板的表面进行污渍处理：置于高温炉中进行高温高压，煅烧时间2-5h，冷却后进行研磨，使之基板的表面达到100～300nm，高温的温度为1000～1350℃；压力为250～450MPa；使之冷却到自然温度；
对基板的表面进行静电处理；通过静电消除器对基板的表面进行静电处理；
对基板的表面进行气源引入，形成氧化钨层；
通过使气体流过处在低于其熔点的温度下的氯化钨以在该气体中携带氯化钨，并把该气流引入到基板的表面上。
S2:对反射区进行镀覆反射膜：
反射膜：包括覆盖有介电高反射率材料层的基底，介电高反射率材料层包含嵌入材料中的薄金属层，和覆盖所述介电高反射率材料层的另一半透明或透明材料层，嵌入金属层周期性地以50-800nm的周期中断以使得金属覆盖至少70％的基底面积；高反射率材料的反射率为大于2.9，优选为2.6-2.8；
S3步骤：对透射区的表面进行去波纹处理；
为了提高透射区的透光度，需要对高透射区的波纹去除；
S4步骤：对透射区进行镀覆折射膜；
折射膜：包括自表面向外依次层叠而成的3个介质层，3个所述电介质层依次包括：第一介质层，第一介质层为氧化钛层、氧化铌层、硅钛氧化物层、氮化硅铝层、氧化铌锆层、氧化铌钛层或氮化硅锆铝层中的一个或多个；所述第一介质层的折射率在1.8至2.3之间。所述第一介质层形成于所述基板的表面，可以通过磁控溅射的方式形成上述任一材料层，也可以选取上述材料中的多个材料层叠加形成复合材料层。其中，所述氮化硅锆铝层中锆的质量百分比可以为18.25％。可选地，所述第一介质层的厚度不小于10nm，且不超过17nm。所述第一介质层21的厚度可以为10nm，12nm。通过采用上述厚度选取，可以使所述镀膜玻璃在进行加工时具有良好的机械性能，并且能够保持较好的光透过性。
所述第二介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；所述第二介质层的折射率2在1.50至1.75之间。所述第二介质形成于所述第一介质层背向所述基板的一侧。可以采用磁控溅射的方式形成上述任一材料层，也可以选取上述两个材料层叠加形成复合材料层，其中，所述第一介质层的折射率大于所述第二介质层22的折射率。
所述第三介质层为氧化硼硅层或氧化硅铝层；所述第三介质层的折射率在1.20和0.9之间。所述第三介质层形成于所述第二介质层背向所述第二介质层的一侧，可以采用磁控溅射的方式形成所述第三介质层。所述第三介质层可以为上述氧化硼硅层或氧化硅铝层中的一个材料层，也可以为上述两个材料层叠加材料所形成的复合材料层。
三个所述介质层为高低折射率互搭叠加形成，以减小膜层对光线的反射，进而增加膜层0的透射光与反射光的比值，改善镀膜玻璃的后的物体的可见性。采用上述三个所述介质层设计，形成的膜层与基板相配合，形成镀膜玻璃，上述镀膜玻璃产品的可见光反射率低于5％、透过率高于原基层的透过率(原基层的透过率为3％)、双面颜色均为中性色、可阻隔对人体有害的紫外线。
S5步骤：在折射膜的截面镀覆一层透光膜；
在S6步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜之后，通过喷涂设备对防护膜的截面喷涂防氧化液体，使防护膜的截面形成防氧化层。
本发明通过透明膜的结构特点，解决了透光率低的问题：第一，通过对透明膜的透光膜层与基板的镀膜表面之间有间隙，当光源穿过透射区时，因密封区域有空气，能很好的将光源穿透，从而提供相应的光源；第二，通过透光膜层的多个截面（2个或3个截面），解决了从多个角度的吸收光源，进一步提高光源的吸收；第三，通过使用该透明膜的一种光学玻璃的表面防护镀膜方法，从而解决在折射区透光率低的问题，并在基板的光谱区进行镀覆防护膜，增强该光学玻璃的安全性。
虽然本公开披露如上，但本公开的保护范围并非仅限于此。本领域技术人员在不脱离本公开的精神和范围的前提下，可进行各种变更与修改，这些变更与修改均将落入本发明的保护范围。
Claims (9)
1.光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：包括基板，所述基板设有光谱区，所述光谱区分为透射区和反射区；反射区为所述基板的中部，基板反射区的两侧均为透射区；其步骤如下：
S1步骤：对基板需要镀膜的表面进行前序处理；
S2步骤：对反射区进行镀覆反射膜；
S3步骤：对透射区的表面进行去波纹处理；
S4步骤：对透射区进行镀覆折射膜；
S5步骤：在折射膜的表面镀覆一层透光膜；
S6步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜；
所述S5步骤中，透光膜包括贴覆区和透光区，且两者交互成形；贴覆区的贴覆膜层与基板的镀膜表面呈真空状，透光区的透光膜层与基板的镀膜表面之间有间隙。
2.根据权利要求1所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：所述贴覆膜层包括光扩散层和光吸收层，所述光吸收层能够吸收折射的光线，所述光扩散层用于增大出射的光线的发散角度。
3.根据权利要求1所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：所述透光膜层相对于所述折射膜的表面呈凸状。
4.根据权利要求1所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：左侧的透光膜层和右侧的透光膜层两者为水平镜像设置。
5.根据权利要求3所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：所述透光膜层的第一截面向反射区方向有相应的倾斜度。
6.根据权利要求4所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：所述透光膜层至少有两个截面，第一截面向反射区方向倾斜，第二截面与第一截面的方向相反；靠近所述反射区的截面低于远离所述反射区另一截面。
7.根据权利要求6所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：透光膜层包括第一截面、第二截面和连接所述第一截面和所述第二截面的第三截面，所述第一截面和所述第二截面相对于与所述基板的平行面的倾斜方向不同，靠近反射区方向的第一截面的设定位置处设有凹部；远离反射区方向的第二截面的设定位置处设有凸部。
8.根据权利要求1所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：S1步骤中对基板需要镀膜的表面进行前序处理，包括如下步骤：
对基板的表面进行污渍处理；
对基板的表面进行静电处理；
对基板的表面进行气源引入，形成氧化钨层；
通过使气体流过处在低于其熔点的温度下的氯化钨以在该气体中携带氯化钨，并把该气流引入到基板的表面上。
9.根据权利要求7所述光学玻璃的表面防护镀膜方法，其特征在于：在S5步骤：对基板的光谱区进行镀覆防护膜之后，通过喷涂设备对防护膜的表面喷涂防氧化液体，使防护膜的截面形成防氧化层。
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2022
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