CN114649735A - 一种高信噪比超快激光再生放大装置及其工作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种高信噪比超快激光再生放大装置及其工作方法，包括光纤锁模超快激光种子源、声光选单模块、光隔离系统、再生放大腔和电光斩波系统。光纤锁模超快激光种子源用于产生高稳定性的超快激光种子光；声光选单模块用于将种子光选单降频；光隔离系统用于输出放大光同时防止返回光损坏种子源；再生放大腔用于放大降频后的种子光；电光斩波系统用于提高再生放大主脉冲的信噪比。本发明提供的高信噪比超快激光再生放大装置，通过声光预选单消除放大激光脉冲基底，通过电光斩波消除再生放大主脉冲两侧的预脉冲、尾脉冲以及其他杂乱脉冲，并且通过合理设置重复频率避免首脉冲效应，可实现高信噪比的超快激光脉冲，结构简单，成本低。
Description
技术领域
本发明属于全固态激光技术领域，具体涉及一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置及其工作方法。
背景技术
超短脉冲具有脉宽窄(皮秒和飞秒)、峰值功率高、光谱范围宽等特点，在工业、医疗、科学研究和军事国防等众多领域具有广泛的用途。以光纤锁模激光器作为种子源再通过激光放大系统进行脉冲能量和功率的放大是实现高功率、大能量超快激光的主要技术途径。其中，超快激光放大主要包括行波放大和再生放大两种方案。行波放大器结构复杂、放大效率较低，适用于超快激光功率放大；再生放大器结构紧凑、放大效率高，可以将纳焦(nJ)级的超快种子激光放大到毫焦(mJ)级，适用于作为微弱信号光的预放大级，后接功率放大级可将超快激光放大到百mJ。
由超快激光再生放大原理可知：再生腔内的普克尔盒不加高压时，超快激光种子脉冲也会在再生放大腔中往返一次，提取增益晶体中的能量；普克尔盒加高压时，经过双通放大后的激光脉冲会随再生放大脉冲同时输出，形成放大激光脉冲基底。放大激光脉冲基底将会消耗储存到再生放大和功率放大器中增益介质的能量，降低放大激光脉冲的提取效率，对再生放大、后续功率放大和激光频率变换产生不利影响。
在超快激光再生放大系统中，由于腔内偏振片和普克尔盒消光比限制，当腔内循环脉冲能量增大时，脉冲每次通过偏振片都会有一小部分光漏出，脉冲间隔即是光在再生放大器中的往返时间。这样，在激光峰值功率增加的同时，在主脉冲前后出现一系列信号较弱的次脉冲。与上述的放大激光脉冲基底相比，这些次脉冲的能量要高几千倍，可达十微焦(μJ)甚至以上量级，这样的强度的次脉冲噪声导致超快激光信噪比低。
综上所述，当前高功率、大能量超快激光再生放大系统中的放大激光脉冲基底和次脉冲导致超快激光的信噪比低，严重限制了超快激光在加工、医疗、科研等领域的实际应用。例如：放大激光脉冲基底作用到加工样品上会产生严重的热效应，影响超快激光的精细加工效果；在科研中，放大脉冲基底和次脉冲会影响大能量主脉冲与物质的相互作用，影响实验结果和物理现象的分析。
发明内容
针对当前超快激光再生放大过程中存在的由激光脉冲基底以及次脉冲等导致信噪比低的问题，本发明提出一种高信噪比的超快激光再生放大装置。
该装置通过声光预选单消除放大激光脉冲基底，通过电光斩波消除再生放大主脉冲两侧的预脉冲、尾脉冲以及其他杂乱脉冲，并通过合理设置重复频率有效避免首脉冲效应，极大提升超快激光的信噪比，为工业、医疗、科研等领域提供优秀的超快激光光源。
本发明还提供了上述激光再生放大装置的工作方法。
本发明的技术方案为：
一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，包括光路部分和电路部分，所述光路部分包括光纤锁模种子源、声光选单模块、第一光隔离系统、光束整形系统、第二光隔离系统、再生放大腔、第二电光调制模块；所述再生放大腔内包括第一电光调制模块和增益晶体；所述电路部分包括同步信号控制器、声光驱动模块、第一电光驱动模块和第二电光驱动模块；
所述光纤锁模种子源用于产生高可靠性超快激光种子光；
所述声光选单模块用于将种子激光选频；
所述光束整形系统用于对超快种子激光进行整形，使其与再生放大腔内模式匹配；
所述第一光隔离系统用于防止放大后的返回光损坏种子源；
所述第二光隔离系统用于防止放大后的返回光损坏种子源并输出放大后的激光脉冲；
所述第一电光调制模块用于控制种子光在所述再生放大腔内的偏振态，从而控制种子光的放大程数与导出再生腔的时间；
所述第二电光调制模块用于将再生放大后主脉冲前后的预脉冲与尾脉冲斩去；
所述声光驱动模块与所述声光选单模块电连接，用于为所述声光选单模块提供分频后的射频信号，并输出分频同步信号，所述分频同步信号用于触发所述同步信号控制器；
所述第一电光驱动模块与所述第一电光调制模块电连接，用于为所述第一电光调制模块提供时间与幅值可调的高压信号，所述第二电光驱动模块与所述第二电光调制模块电连接，用于为所述第二电光调制模块提供时间与幅值可调的高压信号；
所述同步信号控制器分别与所述光纤锁模种子源、所述声光驱动模块、所述第一电光驱动模块和所述第二电光驱动模块电连接，所述同步信号控制器用于同步所述锁模光纤种子源输出的锁模同步信号作为时钟基准信号，用于同步所述的声光驱动模块输出的分频同步信号作为外触发信号以及产生四路触发信号，所述四路触发信号用于触发所述第一电光驱动模块和所述第二电光驱动模块的开启或关断。锁模同步信号是由种子源的一部分分光经过光电探测器采样放大后输出。
根据本发明优选的，所述再生放大腔包括按光的传播路径依次设置的第三偏振片、第一电光调制模块、第三透镜、第一二向色镜、增益晶体、第二二向色镜、泵浦光整形系统、泵浦源和第二0°全反射镜。
进一步优选的，所述泵浦源是光纤耦合输出的激光二极管，所述激光二极管用于为增益晶体提供泵浦能量，所述泵浦光整形系统用于将泵浦光整形成所需大小，所述泵浦光通过泵浦光整形系统扩束后经过所述第二二向色镜进入增益晶体，为所述增益晶体提供泵浦能量；
进一步优选的，所述激光二极管中心波长为808nm或880nm，或为940nm或976nm。
根据本发明优选的，所述第一光隔离系统包括按光的传播路径依次设置的第一半波片、光隔离器和第二半波片。
根据本发明优选的，所述第二光隔离系统包括按光的传播路径依次设置的第一偏振片、法拉第旋光器、第二偏振片和第三半波片。
根据本发明优选的，所述光束整形系统位于第一光隔离系统和第二光隔离系统之间，包括第一透镜和第二透镜；
进一步优选的，所述光束整形系统还包括第一45°全反射镜和第二45°全反射镜，所述第一45°全反射镜和第二45°全反射镜设置在所述第二光隔离系统和所述第三偏振片之间，用于将所述第二光隔离系统的出射光反射到所述再生放大腔中。
根据本发明优选的，所述第一电光调制系统包括依次按光的传播路径设置的四分之一波片、第一普克尔盒和第一0°全反射镜。
根据本发明优选的，所述第二电光调制系统包括依次按光的传播路径设置的第四偏振片、第二普克尔盒和第三0°全反射镜；
进一步优选的，所述第二电光调制系统还包括光收纳装置，所述光收纳装置用于收集再生放大主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲。
根据本发明优选的，所述再生放大腔的腔长满足L＞c×(τr+τf+tpw+2×tj)/4；L是指所述再生放大腔的腔长，τr为第一普克尔盒及第二普克尔盒的上升沿时间，τf为第一普克尔盒及第二普克尔盒下升沿时间，tpw为电光驱动脉冲宽度，tj为电光驱动施加到第一普克尔盒及第二普克尔盒上的高压电信号与光脉冲信号之间的时间抖动。
根据本发明优选的，所述光纤锁模种子源采用光纤锁模激光器。
根据本发明优选的，所述增益晶体是Nd3+离子掺杂激光晶体或Yb3+离子掺杂激光晶体。
根据本发明优选的，所述第一普克尔盒及第二普克尔盒采用BBO、RTP、LiNbO3在内的横向电光晶体。
上述再生放大激光器装置的工作方法，包括：
从光纤锁模种子源输出的锁模脉冲激光先经过声光选单模块进行选单降频，获得所需重频的脉冲激光同时消除放大激光脉冲基底；
选出种子光依次通过第一光隔离系统、光束整形系统和第二光隔离系统，其中光束整形系统对光束进行整形为直径1.8mm的准直光，以实现模式匹配与防止电光晶体损坏；
种子光往返通过第一电光调制模块，种子光的偏振态由水平偏振变为垂直偏振的同时，通过控制同步信号控制器进而控制第一电光驱动模块，使第一电光调制系统从0V加压至四分之一波电压，加压过程在种子光经所述第二0°全反射镜反射回第一电光调制系统之前完成；将种子光关在再生放大腔内，多次通过增益晶体提取能量，放大到所需能量时，将第一电光调制系统的四分之一波电压关闭，放大后的种子光即从第一偏振片输出；
放大后的种子光进入第二电光调制模块，通过控制同步信号控制器进而控制第二电光驱动模块，使第二电光调制模块从0V加压至四分之一波电压和降压到0V，升压与降压过程分别在放大后的主脉冲与主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲之间完成，消除放大后主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲，同时产生的微弱自发辐射基底与声光选单不完全所致的微弱放大激光脉冲基底也被进一步消除；
高信噪比的再生放大超快激光从所述第四偏振片输出。
与现有技术相比，本发明的有益效果为：
1、本发明采用了光纤锁模超快激光种子源，相比固体锁模振荡器和光纤固体混合激光器成本低且容易获得长期稳定的超快脉冲激光，光束质量好、稳定性好、结构简单、体积小。
2、本发明采用了声光选单模块作为降频装置，相比与传统的电光选单模块降频装置，温度稳定性好、成本低、结构简单，搭配后续的第二电光调制系统可以更好的消除放大激光脉冲基底。
3、本发明采用了电光斩波的方法消除主脉冲前后的预脉冲、尾脉冲以及其他杂乱信号，与利用非线性光学效应提升时间对比度的方法相比，所采用的电光斩波的方法更加简单且容易实现。
4、本发明采用了自主研发的同步信号控制器，此同步信号控制器与声光选单模块均采用种子源所提供的超快激光同步信号作为时钟基准信号，声光选单模块又为同步信号控制器提供分频同步信号，这样可以使光信号与电信号之间的抖动小于1ns，从而提高再生放大的能量稳定性，同时保证第二电光调制系统斩波后的能量稳定性。
附图说明
图1为现有技术中再生放大过程中预脉冲与尾脉冲现象的示意图；
图2为本发明实施例的高信噪比再生放大装置结构示意图；
图3为本发明实施例的高信噪比再生放大装置中同步信号控制器的控制时序示意图；
图4为本发明实施例的高信噪比再生放大装置输出的高信噪比脉冲示意图。
1、光纤锁模种子源，2、声光选单模块，301、第一半波片，302、光隔离器，303、第二半波片，401、第一透镜，402、第二透镜，501、第一偏振片，502、法拉第旋转器，503、第二偏振片，504、第三半波片，601、第三偏振片，602、第三透镜，603、第一二向色镜，604、增益晶体，605、第二二向色镜，606、第二0°全反射镜，607、泵浦光整形系统，608、激光二极管，701、第一0°全反射镜，702、第一普克尔盒，703、四分之一波片，801、第四偏振片，802、第二普克尔盒，803、第三0°全反射镜，804、光收纳器，9、声光驱动模块，10、同步信号控制器，11、第一电光驱动模块，12、第二电光驱动模块，13、第一45°全反射镜，14、第二45°全反射镜。
具体实施方式
为了使本发明的内容更容易清楚地被理解，下面根据具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细地说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
实施例1
如图1所示，为现有技术中再生放大过程中预脉冲与尾脉冲现象的示意图；为解决图1中现有技术中再生放大主脉冲前后预脉冲与尾脉冲的问题，本发明提出了一种电光斩波的方法来同时消除再生放大主脉冲前后预脉冲与尾脉冲。
如图2所示，为本发明实施例的高信噪比再生放大激光器装置的结构示意图。包括光路部分和电路部分，光路部分包括按光的传播路径依次设置的光纤锁模种子源1、声光选单模块2、第一光隔离系统、光束整形系统、第二光隔离系统、再生放大腔(再生放大腔内包括第一电光调制模块和增益晶体604)、第二电光调制模块，电路部分包括声光驱动模块9、同步信号控制器10、第一电光驱动模块11和第二电光驱动模块12。
本实施例中的光纤锁模种子源1用于发射超快种子激光，同时光纤锁模种子源1有一定分光在经过光电探测器采样后输出锁模同步信号，锁模同步信号接声光驱动模块9和同步信号控制器10作为两者的时钟基准信号。光纤锁模种子源1采用光纤锁模激光器，可以为飞秒激光，也可以为皮秒或纳秒激光。
本实施例中的声光选单模块2用于将种子光降频，相对于现有技术中采用电光选单模块作为降频装置，声光选单模块2具有更高的温度稳定性、系统复杂性，成本也更低，搭配后续的第二电光调制系统可以更好的消除放大激光脉冲基底，同时通过合理设置分频可以避免首脉冲效应延长激光器使用寿命。
首脉冲效应是指重复频率在kHz以上的连续泵浦再生放大器首次开启或激光加工间歇期后，再生放大器的放大能力远大于稳定工作时的放大能力，其首脉冲或前几个脉冲的能量要明显高于后续稳定脉冲的能量。对于超短脉冲激光器来说，如此高能量的首脉冲对应的激光峰值功率密度可达到GW/cm2，极易造成光学元器件的损伤，降低激光器的使用寿命。同时在加工对脉冲能量敏感的材料时，可造成材料破裂、缺损、加工效果不一致等现象，极大影响了精细加工的效果。而造成此现象的根本原因就是不同脉冲放大时增益晶体604的储能不一致性，当种子光的重复频率小于增益晶体604上能级寿命的倒数时，便可以实现不同时刻增益晶体604储能的一致。
本实施例中的第一光隔离系统用于防止放大后的返回光损坏光纤锁模种子源1，本实施例中的光束整形系统4用于准直种子光，是种子光与腔内模式匹配，本实施例中的第二光隔离系统用于传输种子光并输出放大后的激光脉冲，第一电光调制模块用于控制种子光在再生放大腔内的偏振态，以控制种子光的放大程数与导出再生腔的时间，
实施例2
根据实施例1所述的高信噪比再生放大激光器装置，其区别在于：
光纤锁模种子源1采用重频25MHz、脉冲能量为nJ级别的皮秒激光。
增益晶体604为Nd:YVO4晶体，其上能级寿命为98μs，当分频后的种子光频率小于10.2kHz时，便可以避免首脉冲效应。
第一光隔离系统包括依次按照光的传播路径设置的第一半波片301、光隔离器302和第二半波片303。
光束整形系统包括依次按照光的传播路径设置的第一透镜401和第二透镜402。
第二光隔离系统包括依次按照光的传播路径设置的第一偏振片501、法拉第旋转器502、第二偏振片503和第三半波片504。在种子光入射时，从第一光隔离系统出射的水平偏振态种子光通过第一偏振片501进入第二光隔离系统，在通过法拉第旋转器502后种子光的偏振方向从水平偏振变为45°线偏振，而第二偏振片503与水平方向呈45°放置，使得45°偏振的种子光能够顺利通过第二偏振片503，然后经过第三半波片504偏振方向变为水平偏振态后，通过第一45°全反射镜13和第二45°全反射镜14将第二光隔离系统的出射光反射到再生放大腔中。在放大光脉冲出射时，放大光依次经过第三偏振片601、第二45°全反射镜14、第一45°全反射镜13、第三半波片504、第二偏振片503和法拉第旋转器502后，偏振方向从水平偏振变为竖直偏振，在第一偏振片501处反射输出。
再生放大腔包括依次按光的传播路径设置的第三偏振片601、第一电光调制模块、第三透镜602、第一二向色镜603、增益晶体604、第二二向色镜605、第二0°全反射镜606、泵浦光整形系统607和激光二极管608。
激光二极管608用于为增益晶体604提供泵浦能量，泵浦光整形系统607用于将泵浦光整形成所需大小，在一种实施例中采用的激光二极管608输出中心波长为808nm、平均功率为50W的泵浦光，泵浦光通过泵浦光整形系统607扩束后经过第二二向色镜605进入增益晶体604，为增益晶体604提供泵浦能量。
第一电光调制模块包括沿光的传播路径设置的四分之一波片703、第一普克尔盒702和第一0°全反射镜701。
在第一普克尔盒702关闭时，种子光往返经过四分之一波片703后，在第三偏振片601上反射，往返经过增益晶体604得到放大，再两次经过四分之一波片703后，竖直偏振的种子光再变为水平偏振，射出再生放大腔。如果没有声光选单模块2，未分频种子光得到双通放大将形成放大激光脉冲基底。
在第一普克尔盒702打开时，第一普克尔盒702加压过程需要在种子光第二次和第三次经过第一普克尔盒702之间完成，此时给第一普克尔盒702施加的是四分之一波电压，其与四分之一波片703构成一个半波片，往返通过增益晶体604的竖直偏振态种子光两次经过这个复合半波片后不改变偏振态从而被关进再生放大腔，被关进再生放大腔的种子光在腔内可以持续往返提取储存与增益晶体604上的能量。当种子光被放大到所需能量时，将第一普克尔盒702上的高压撤掉，降压过程与升压过程一致，同样是在激光脉冲两次通过第一普克尔盒702之间完成，降压完成后放大脉冲两次经过四分之一波片703变为水平偏振态而被再生放大腔输出，进而通过上述的第二光隔离系统中的第一偏振片501反射进第二电光调制系统。
随着再生放大主脉冲光强的不断提高，主脉冲前后的预脉冲与尾脉冲等噪声成分的光强也会随之提升，并严重影响主脉冲与物质相互作用效果。对再生放大脉冲激光进行后续功率放大时，时序靠前的预脉冲会提前提取增益晶体604中储存的能量使信噪比进一步降低。如图1所示，为现有技术中再生放大过程中预脉冲与尾脉冲现象的示意图。
为解决现有技术中再生放大主脉冲前后预脉冲与尾脉冲的问题，本发明提出了一种电光斩波的方法来同时消除再生放大主脉冲前后预脉冲与尾脉冲。为实现预脉冲与尾脉冲的同时消除，第一普克尔盒702和第二普克尔盒802的升压、脉冲宽度和降压过程需要在主脉冲前最近预脉冲与主脉冲后的尾脉冲之间完成，即满足公式T＞τr+τf+tpw+2×tj，其中T为主脉冲前最近预脉冲与主脉冲后尾脉冲之间时间间隔，τr为第一普克尔盒702和第二普克尔盒802上升沿时间，τf为第一普克尔盒702和第二普克尔盒802下升沿时间，tpw为电光驱动脉冲宽度，tj为电光驱动施加到第一普克尔盒702和第二普克尔盒802上的高压电信号与光脉冲信号之间的时间抖动。而主脉冲前最近预脉冲与主脉冲后尾脉冲之间时间间隔与腔长又存在如下关系，T＝4×L/c，其中L为再生放大的腔长，c为光速。所以要实现预脉冲与尾脉冲的同时消除，需要腔长满足L＞c×(τr+τf+tpw+2×tj)/4。市场上升、降压快的电光驱动最小脉冲宽度在15ns左右，本实施例所采用的第一普克尔盒702和第二普克尔盒802的实际上升沿、下降沿宽度在10ns左右，本实施例所采用的电路系统的光电信号抖动在0.5ns左右，根据以上参数可以算出在本施例中再生放大腔长需要大于2.7m。
当再生放大光从第二光隔离系统输出后，便进入第二电光调制系统进行电光斩波，第二电光调制系统包括沿光的传播路径设置的第四偏振片801、第二普克尔盒802、第三0°全反射镜803和光收纳器804。
在第二普克尔盒802关闭时，再生放大光往返经过第二普克尔盒802后，不改变偏振态仍为竖直偏振，在第四偏振片801上反射，然后依次经过第一偏振片501、法拉第旋转器502后，在第二偏振片503上反射进入光收纳器804。
在第二普克尔盒802打开时，第二普克尔盒802的加压过程需要在再生放大主脉冲和它前一个预脉冲之间完成，第二普克尔盒802的降压过程需要在再生放大主脉冲和它后一个尾脉冲之间完成。此时给第二普克尔盒802施加的是四分之一波电压，往返通过第二普克尔盒802的竖直偏振态再生放大光变为水平偏振态，从而通过第四偏振片801透射输出，输出的高信噪比超短脉冲激光如图4所示。再生放大主脉冲之外的预脉冲、尾脉冲以及其他杂乱信号不改变偏振态，将依次经过第四偏振片801、第一偏振片501、法拉第旋转器502后，在第二偏振片503上反射进入光收纳器804。
激光器系统的电路部分用于在时序上控制声光选单模块2和电光调制模块，电路部分包括声光驱动模块9、同步信号控制器10、第一电光驱动模块11和第二电光驱动模块12。如图3所示，为本实施例高信噪比再生放大装置中控制器的控制时序图。以下结合图3，对本发明的控制时序进行详细说明。
种子源1提供一定分光在经过光电探测器采样后输出锁模同步信号，锁模同步信号接声光驱动模块9和同步信号控制器10作为两者的时钟基准信号。由种子源发出的锁模光序列如图3中“种子光序列”所示。
声光驱动模块9根据时钟基准信号、设置分频和延时，向声光选单模块2输出射频信号，如图3中“声光调制信号”所示。同时，声光驱动模块9会输出分频同步信号，用作同步信号控制器10的外触发信号。
经声光选单模块2选出的分频种子光如图3中“选出种子光”所示。
同步信号控制器10根据时钟基准信号、分频同步信号、设置延时和加压脉宽，向第一电光驱动模块11输出电信号，第一电光驱动模块11接收信号后向第一电光调制模块702输出相应的高压信号，如图3中“第一电光调制信号”所示。
在第一电光调制信号时间内，选出种子光在再生放大腔内不断地再生振荡放大，在高压撤去后，再生放大脉冲激光输出，如图3中“再生放大输出激光”所示。
此时同步信号控制器10根据时钟基准信号、分频同步信号、设置延时和加压脉宽，向第二电光驱动模块12输出电信号，第二电光驱动模块12接收信号后向第二电光调制模块802输出相应的高压信号，高压信号的升压、脉冲宽度和降压过程需要在主脉冲前最近预脉冲与主脉冲后的尾脉冲之间完成，如图3中“第二电光调制信号”所示。
在第二电光调制信号时间内的再生放大主脉冲激光透过第四偏振片801输出，如图3中“电光斩波输出激光”所示。
如图4所示，为本发明实施例的高信噪比再生放大装置输出的高信噪比脉冲示意图。为了测量次脉冲的幅值，对光电探测器进行了过度曝光，测得主脉冲前预脉冲的幅值为2.5mV，如图4中插图所示。此时用衰减镜将光强衰减100倍，在光电探测器的线性范围内，测得主脉冲幅值为585mV。因此可以算出本发明实施例的高信噪比再生放大装置输出脉冲的时间对比度优于43dB。
在一种实施例中，高信噪比的再生放大激光器实现了重复频率1Hz～10kHz可调、单脉冲能量大于1mJ、脉冲宽度为12ps的高信噪比激光输出，无首脉冲效应、放大激光脉冲基底以及再生放大主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲。
实施例3
实施例1或2所述的再生放大激光器装置的工作方法，包括：
从光纤锁模种子源1输出的锁模脉冲激光先经过声光选单模块2进行选单降频，获得所需重频的脉冲激光同时消除放大激光脉冲基底；
选出种子光依次通过第一光隔离系统、光束整形系统和第二光隔离系统，其中光束整形系统对光束进行整形为直径1.8mm的准直光，以实现模式匹配与防止电光晶体损坏；
种子光往返通过第一电光调制模块，种子光的偏振态由水平偏振变为垂直偏振的同时，通过控制同步信号控制器10进而控制第一电光驱动模块11，使第一电光调制系统从0V加压至四分之一波电压，加压过程在种子光经第二0°全反射镜606反射回第一电光调制系统之前完成；将种子光关在再生放大腔内，多次通过增益晶体604提取能量，放大到所需能量时，将第一电光调制系统的四分之一波电压关闭，放大后的种子光即从第一偏振片501输出；
放大后的种子光进入第二电光调制模块，通过控制同步信号控制器10进而控制第二电光驱动模块12，使第二电光调制模块从0V加压至四分之一波电压和降压到0V，升压与降压过程分别在放大后的主脉冲与主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲之间完成，消除放大后主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲，同时产生的微弱自发辐射基底与声光选单不完全所致的微弱放大激光脉冲基底也被进一步消除；
高信噪比的再生放大超快激光从第四偏振片801输出。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，包括光路部分和电路部分，所述光路部分包括光纤锁模种子源、声光选单模块、第一光隔离系统、光束整形系统、第二光隔离系统、再生放大腔、第二电光调制模块；所述再生放大腔内包括第一电光调制模块和增益晶体；所述电路部分包括同步信号控制器、声光驱动模块、第一电光驱动模块和第二电光驱动模块；
所述光纤锁模种子源用于产生高可靠性超快激光种子光；
所述声光选单模块用于将种子激光选频；
所述光束整形系统用于对超快种子激光进行整形，使其与再生放大腔内模式匹配；
所述第一光隔离系统用于防止放大后的返回光损坏种子源；
所述第二光隔离系统用于防止放大后的返回光损坏种子源并输出放大后的激光脉冲；
所述第一电光调制模块用于控制种子光在所述再生放大腔内的偏振态，从而控制种子光的放大程数与导出再生腔的时间；
所述第二电光调制模块用于将再生放大后主脉冲前后的预脉冲与尾脉冲斩去；
所述声光驱动模块与所述声光选单模块电连接，用于为所述声光选单模块提供分频后的射频信号，并输出分频同步信号，所述分频同步信号用于触发所述同步信号控制器；
所述第一电光驱动模块与所述第一电光调制模块电连接，用于为所述第一电光调制模块提供时间与幅值可调的高压信号，所述第二电光驱动模块与所述第二电光调制模块电连接，用于为所述第二电光调制模块提供时间与幅值可调的高压信号；
所述同步信号控制器分别与所述光纤锁模种子源、所述声光驱动模块、所述第一电光驱动模块和所述第二电光驱动模块电连接，所述同步信号控制器用于同步所述锁模光纤种子源输出的锁模同步信号作为时钟基准信号，用于同步所述的声光驱动模块输出的分频同步信号作为外触发信号以及产生四路触发信号，所述四路触发信号用于触发所述第一电光驱动模块和所述第二电光驱动模块的开启或关断。
2.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述再生放大腔包括按光的传播路径依次设置的第三偏振片、第一电光调制模块、第三透镜、第一二向色镜、增益晶体、第二二向色镜、泵浦光整形系统、泵浦源和第二0°全反射镜；
进一步优选的，所述泵浦源是光纤耦合输出的激光二极管，所述激光二极管用于为增益晶体提供泵浦能量，所述泵浦光整形系统用于将泵浦光整形成所需大小，所述泵浦光通过泵浦光整形系统扩束后经过所述第二二向色镜进入增益晶体，为所述增益晶体提供泵浦能量；
所述激光二极管中心波长为808nm或880nm，或为940nm或976nm。
3.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述第一光隔离系统包括按光的传播路径依次设置的第一半波片、光隔离器和第二半波片。
4.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述第二光隔离系统包括按光的传播路径依次设置的第一偏振片、法拉第旋光器、第二偏振片和第三半波片。
5.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述光束整形系统位于第一光隔离系统和第二光隔离系统之间，包括第一透镜和第二透镜；
进一步优选的，所述光束整形系统还包括第一45°全反射镜和第二45°全反射镜，所述第一45°全反射镜和第二45°全反射镜设置在所述第二光隔离系统和所述第三偏振片之间，用于将所述第二光隔离系统的出射光反射到所述再生放大腔中。
6.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述第一电光调制系统包括依次按光的传播路径设置的四分之一波片、第一普克尔盒和第一0°全反射镜。
7.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述第二电光调制系统包括依次按光的传播路径设置的第四偏振片、第二普克尔盒和第三0°全反射镜；
进一步优选的，所述第二电光调制系统还包括光收纳装置，所述光收纳装置用于收集再生放大主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲。
8.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述再生放大腔的腔长满足L＞c×(τr+τf+tpw+2×tj)/4；L是指所述再生放大腔的腔长，τr为第一普克尔盒及第二普克尔盒的上升沿时间，τf为第一普克尔盒及第二普克尔盒下升沿时间，tpw为电光驱动脉冲宽度，tj为电光驱动施加到第一普克尔盒及第二普克尔盒上的高压电信号与光脉冲信号之间的时间抖动。
9.根据权利要求1所述的一种高信噪比的超快激光再生放大激光器装置，其特征在于，所述光纤锁模种子源采用光纤锁模激光器；所述增益晶体是Nd3+离子掺杂激光晶体或Yb3+离子掺杂激光晶体；所述第一普克尔盒及第二普克尔盒采用BBO、RTP、LiNbO3在内的横向电光晶体。
10.权利要求1-9任一所述的再生放大激光器装置的工作方法，其特征在于，包括：
从光纤锁模种子源输出的锁模脉冲激光先经过声光选单模块进行选单降频，获得所需重频的脉冲激光同时消除放大激光脉冲基底；
选出种子光依次通过第一光隔离系统、光束整形系统和第二光隔离系统，其中光束整形系统对光束进行整形；
种子光往返通过第一电光调制模块，种子光的偏振态由水平偏振变为垂直偏振的同时，通过控制同步信号控制器进而控制第一电光驱动模块，使第一电光调制系统从0V加压至四分之一波电压，加压过程在种子光；反射回第一电光调制系统之前完成；将种子光关在再生放大腔内，多次通过增益晶体提取能量，放大到所需能量时，将第一电光调制系统的四分之一波电压关闭，放大后的种子光输出；
放大后的种子光进入第二电光调制模块，通过控制同步信号控制器进而控制第二电光驱动模块，使第二电光调制模块从0V加压至四分之一波电压和降压到0V，升压与降压过程分别在放大后的主脉冲与主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲之间完成，消除放大后主脉冲前后的预脉冲和尾脉冲，同时产生的微弱自发辐射基底与声光选单不完全所致的微弱放大激光脉冲基底也被进一步消除；
高信噪比的再生放大超快激光输出。
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116609956A (zh) * | 2023-07-21 | 2023-08-18 | 北京盛镭科技有限公司 | 一种高频信号的选单装置以及激光放大系统 |
| CN116722433A (zh) * | 2023-08-10 | 2023-09-08 | 北京卓镭激光技术有限公司 | 一种输出能量不变的皮秒再生放大器 |
| CN117872659A (zh) * | 2024-03-12 | 2024-04-12 | 北京盛镭科技有限公司 | 激光放大装置和激光放大方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20060039419A1 (en) * | 2004-08-16 | 2006-02-23 | Tan Deshi | Method and apparatus for laser trimming of resistors using ultrafast laser pulse from ultrafast laser oscillator operating in picosecond and femtosecond pulse widths |
| EP1775806A1 (de) * | 2005-10-11 | 2007-04-18 | TRUMPF Laser GmbH + Co. KG | Verfahren und Ultrakurzpuls-Laser Vorrichtung zur Erzeugung zeitlich rechteckiger Ultrakurzpulse |
| CN106848826A (zh) * | 2017-01-12 | 2017-06-13 | 中国科学院光电研究院 | 一种双电光q开关再生放大装置 |
| CN108365513A (zh) * | 2018-04-28 | 2018-08-03 | 哈尔滨工业大学 | 一种激光再生放大器的脉冲稳定性控制装置及方法 |
| CN108493747A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-09-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于光纤固体级联放大的2μm高能量单频脉冲激光器 |
-
2022
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Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20060039419A1 (en) * | 2004-08-16 | 2006-02-23 | Tan Deshi | Method and apparatus for laser trimming of resistors using ultrafast laser pulse from ultrafast laser oscillator operating in picosecond and femtosecond pulse widths |
| EP1775806A1 (de) * | 2005-10-11 | 2007-04-18 | TRUMPF Laser GmbH + Co. KG | Verfahren und Ultrakurzpuls-Laser Vorrichtung zur Erzeugung zeitlich rechteckiger Ultrakurzpulse |
| CN106848826A (zh) * | 2017-01-12 | 2017-06-13 | 中国科学院光电研究院 | 一种双电光q开关再生放大装置 |
| CN108493747A (zh) * | 2018-03-12 | 2018-09-04 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于光纤固体级联放大的2μm高能量单频脉冲激光器 |
| CN108365513A (zh) * | 2018-04-28 | 2018-08-03 | 哈尔滨工业大学 | 一种激光再生放大器的脉冲稳定性控制装置及方法 |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN116609956A (zh) * | 2023-07-21 | 2023-08-18 | 北京盛镭科技有限公司 | 一种高频信号的选单装置以及激光放大系统 |
| CN116609956B (zh) * | 2023-07-21 | 2023-09-19 | 北京盛镭科技有限公司 | 一种高频信号的选单装置以及激光放大系统 |
| CN116722433A (zh) * | 2023-08-10 | 2023-09-08 | 北京卓镭激光技术有限公司 | 一种输出能量不变的皮秒再生放大器 |
| CN116722433B (zh) * | 2023-08-10 | 2023-11-03 | 北京卓镭激光技术有限公司 | 一种输出能量不变的皮秒再生放大器 |
| CN117872659A (zh) * | 2024-03-12 | 2024-04-12 | 北京盛镭科技有限公司 | 激光放大装置和激光放大方法 |
| CN117872659B (zh) * | 2024-03-12 | 2024-05-07 | 北京盛镭科技有限公司 | 激光放大装置和激光放大方法 |
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