CN114355679B - 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法 - Google Patents

阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114355679B
CN114355679B CN202111675434.8A CN202111675434A CN114355679B CN 114355679 B CN114355679 B CN 114355679B CN 202111675434 A CN202111675434 A CN 202111675434A CN 114355679 B CN114355679 B CN 114355679B
Authority
CN
China
Prior art keywords
pixel electrode
common electrode
layer
array substrate
shaped groove
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN202111675434.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN114355679A (zh
Inventor
李辉
康报虹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HKC Co Ltd
Original Assignee
HKC Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HKC Co Ltd filed Critical HKC Co Ltd
Priority to CN202111675434.8A priority Critical patent/CN114355679B/zh
Publication of CN114355679A publication Critical patent/CN114355679A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN114355679B publication Critical patent/CN114355679B/zh
Priority to US18/079,779 priority patent/US12050388B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134372—Electrodes characterised by their geometrical arrangement for fringe field switching [FFS] where the common electrode is not patterned
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133357—Planarisation layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134318—Electrodes characterised by their geometrical arrangement having a patterned common electrode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222—Colour filters incorporated in the active matrix substrate
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/123—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode pixel
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/124—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode interdigital

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

本申请公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法，阵列基板应用于显示面板，包括衬底、多条扫描线、多条数据线、彩色滤光层和平坦层；彩色滤光层至少包括多个第一色阻层，至少一个第一色阻层靠近数据线的区域具有凸起部，远离数据线的区域具有中间部，且凸起部的厚度大于中间部的厚度；平坦层对应凸起部设置有至少一个第一条形槽，且第一条形槽沿数据线的排布方向延伸，对应凸起部设置的像素电极分支和/或公共电极分支设置于第一条形槽内。本申请通过以上方式将像素电极分支或公共电极分支设置在第一条形槽内，使像素电极和公共电极的上表面齐平，利于电场稳定，减小暗态漏光。

Description

阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法。
背景技术
目前市场上主流的TFT-LCD显示面板由于具有机身薄，省电，价格便宜等优点，得到了广泛的应用。
尤其，采用COA(将彩色滤光层制作在阵列基板上)技术制作的阵列基板的液晶显示面板被广泛应用，然而在COA制程当中，由于色阻材料存在流平性的问题，会呈现中间低两边高的凹形结构，即使使用了平坦层进行平坦化，但是还是会存在凹型趋势，因此，设置在平坦层上的像素电极和/或公共电极在这个凹型的地形上排列，会导致电场不均匀，使得液晶显示面板出现暗态漏光现象。因此，有必要提出一种新的设计来改善液晶显示面板的暗态漏光的问题。
发明内容
本申请的目的是提供一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法，通过将像素电极分支或公共电极分支设置在第一条形槽内，使像素电极和公共电极的上表面齐平，利于电场稳定，减小暗态漏光。
本申请公开了一种阵列基板，应用于显示面板，所述阵列基板包括衬底、多条扫描线、多条数据线、彩色滤光层和平坦层；多条所述扫描线和多条所述数据线均设置在所述衬底上，且纵横交错排列形成多个像素区；所述彩色滤光层包括多个不同颜色的色阻层，并对应所述像素区设置；所述平坦层设置于所述彩色滤光层上；所述像素区还设置有像素电极和公共电极，至少所述像素电极和所述公共电极中的一个设置在所述平坦层上，所述像素电极包括多条相互连接且间隔设置的像素电极分支，和/或所述公共电极包括多条相互连接且间隔设置的公共电极分支；其中，所述彩色滤光层至少包括多个第一色阻层，至少一个所述第一色阻层靠近所述数据线的区域具有凸起部，远离所述数据线的区域具有中间部，且所述凸起部的厚度大于所述中间部的厚度；所述平坦层对应所述凸起部设置有至少一个第一条形槽，且所述第一条形槽沿所述数据线的排布方向延伸，对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第一条形槽内。
可选的，所述第一条形槽设置有多个，且多个所述第一条形槽的深度从所述凸起部向所述中间部的方向逐渐减小，对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支均设置于所述第一条形槽内。
可选的，所述平坦层对应所述中间部也设置有至少一个第一条形槽，且对应所述中间部，所述第一条形槽的深度与所述像素电极分支或所述公共电极分支的厚度相当；对应所述凸起部，所述第一条形槽的深度大于所述像素电极分支和/或所述公共电极分支的厚度；所述像素电极分支和/或所述公共电极分支均设置于所述第一条形槽内。
可选的，所述彩色滤光层还包括至少一个第二色阻层，且所述第二色阻层的厚度均匀；所述平坦层对应所述第二色阻层设置有多个第二条形槽，所述第二条形槽沿所述数据线的排布方向延伸，且多个所述第二条形槽的深度一致，对应所述第二色阻层设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第二条形槽内。
可选的，所述第二条形槽的深度与所述像素电极分支和/或所述公共电极分支的厚度相当。
可选的，所述显示面板为边缘场开关技术显示面板，所述像素电极和所述公共电极中的一个设置在所述平坦层上；所述像素电极和所述公共电极中的另一个为整面性电极，且设置在所述衬底与所述彩色滤光层之间，所述像素电极和所述公共电极形成边缘电场；对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第一条形槽内。
可选的，所述显示面板为平面转换型显示面板，且所述像素电极和所述公共电极均设置在所述平坦层上，多条所述像素电极分支和多条所述公共电极分支间隔排布，以形成水平电场；对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第一条形槽内。
可选的，所述阵列基板还包括第二平坦层，所述第二平坦层覆盖设置在所述像素电极和/或所述公共电极的上方，且所述第二平坦层远离所述像素电极和/或所述公共电极的表面与所述衬底平行。
本申请还公开了一种显示面板，包括对置基板和本申请公开的任意一种所述的阵列基板，所述对置基板和所述阵列基板对盒设置。
本申请还公开了一种阵列基板的制备方法，用于制作本申请公开的任意一种所述的阵列基板，包括步骤：
提供衬底，依次在所述衬底上制备多条扫描线和多条数据线，且纵横交错排列形成多个像素区；
对应所述像素区处形成多个第二色阻层，最后再形成多个第一色阻层，以形成彩色滤光层；
在所述彩色滤光层上形成平坦层，并在所述平坦层上，对应至少一个所述第一色阻层靠近所述数据线区域形成至少一个第一条形槽；
在所述平坦层上，对应所述第一色阻层和所述第二色阻层形成多条像素电极分支和多条公共电极分支，且形成的至少一条所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置在所述第一条形槽内，以在所述像素区形成像素电极和公共电极。
相对于像素电极和公共电极表面呈凹形，电场水平性低造成暗态漏光的方案来说，本申请通过在平坦层对应第一色阻层的凸起部设置至少一个第一条形槽，将第一色阻层厚度大的位置处的像素电极分支和/或公共电极分支设置在第一条形槽内，以使得像素电极和公共电极的上表面趋近于齐平，有利于提高电场的稳定性，特别的有利于提高电场的水平分量的稳定性，减少显示面板的暗态漏光现象；并且在平坦层上设置第一条形槽，改变了平坦层的地形，使得对应凸起部处平坦层的平均厚度变小，有利于提高边缘位置的穿透率，并且由于凸起的像素电极和公共电极下陷，在一定程度也改善了液晶层的厚度均匀性，同样有利于提升显示面板的显示效果，提高产品的市场竞争力。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
图1是本申请实施例显示面板的示意图；
图2是本申请实施例一阵列基板的俯视示意图；
图3是本申请图2中沿A-A’方向的截面示意图；
图4是本申请实施例一像素电极和公共电极的俯视示意图；
图5是本申请实施例一第一条形槽的俯视示意图；
图6是本申请实施例二阵列基板的截面示意图；
图7是本申请实施例二第一条形槽和第二条形槽的俯视示意图；
图8是本申请实施例三阵列基板的截面示意图；
图9是本申请阵列基板的制备方法的步骤图；
图9a-图9e是本申请阵列基板的结构变化示意图。
其中，10、显示面板；20、阵列基板；210、衬底；220、扫描线；221、像素区；230、数据线；240、彩色滤光层；241、第一色阻层；242、第二色阻层；243、凸起部；244、中间部；250、平坦层；251、第一条形槽；252、第二条形槽；253、第三条形槽；254、第二平坦层；260、像素电极；261、像素电极分支；262、第一主干；270、公共电极；271、公共电极分支；272、第二主干；30、对置基板；40、液晶层。
具体实施方式
需要理解的是，这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节，仅仅是为了描述具体实施例，是代表性的，但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现，不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示相对重要性，或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，除非另有说明，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征；“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形，意为不排他的包含，可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
另外，“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语，是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的，仅是为了便于描述本申请的简化描述，而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。
此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
下面参考附图和可选的实施例对本申请作详细说明。
图1是本申请实施例显示面板的示意图，参考图1可知，本申请公开了一种显示面板10，包括对置基板30和阵列基板20，对置基板30和阵列基板20对盒设置。
本申请的显示面板10可以是液晶显示面板10，可以是手机、电视、电脑等产品，显示面板10由阵列基板20和对置基板30组成，并且，在阵列基板20与对置基板30之间还设置有液晶层40，通过阵列基板20与对置基板30之间形成电信号驱动液晶偏转来显示画面，而本申请的显示面板10形成的电场稳定，可以呈现优良的画质，进而提高人们的体验感。
本申请对显示面板10中的阵列基板20做了针对性的改进，具体地：
实施例一：
图2是本申请实施例一阵列基板的俯视示意图，图3是本申请图2中沿A-A’方向的截面示意图，参考图2和图3可知，本申请公开了一种阵列基板20，应用于显示面板10，阵列基板20包括衬底210、多条扫描线220、多条数据线230、彩色滤光层240和平坦层250；多条扫描线220和多条数据线230均设置在衬底210上，且交错排列形成多个像素区221；彩色滤光层240包括多个不同颜色的色阻层，并对应像素区221设置；平坦层250设置在彩色滤光层240上；像素区221还设置有像素电极260和公共电极270，至少像素电极260和公共电极270中的一个设置在平坦层250上，像素电极260包括多条相互连接且间隔设置的像素电极分支261，和/或公共电极270包括多条相互连接且间隔设置的公共电极分支271；其中，彩色滤光层240至少包括多个第一色阻层241，至少一个第一色阻层241靠近数据线230的区域具有凸起部243，远离数据线230的区域具有中间部244，且凸起部243的厚度大于中间部244的厚度；平坦层250对应凸起部243设置有至少一个第一条形槽251，且第一条形槽251沿数据线230的排布方向延伸，对应凸起部243设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271设置于第一条形槽251内。
相对于像素电极260和公共电极270表面呈凹形，电场水平性低造成暗态漏光的方案来说，本申请通过在平坦层250对应第一色阻层241的凸起部设置至少一个第一条形槽251，将第一色阻层241厚度大的位置处的像素电极分支261和/或公共电极分支271设置在第一条形槽251内，以使得像素电极260和公共电极270的上表面趋近于齐平，有利于提高电场的稳定性，特别的有利于提高电场的水平分量的稳定性，减少显示面板10的暗态漏光现象；并且在平坦层250上设置第一条形槽251，改变了平坦层250的地形，使得对应边缘位置平坦层250的平均厚度变小，有利于提高边缘位置的穿透率，并且由于凸起的像素电极260和公共电极270下陷，在一定程度也改善了液晶层40的厚度均匀性，同样有利于提升显示面板10的显示效果，提高产品的市场竞争力。
由于阵列基板20采用COA技术制作，在彩色滤光层240的制备过程中，由于色阻层的流平性，通常色阻层会呈现凹形现象，尤其是最后一道制程形成的色阻层最容易呈现凹形趋势，将最后一道制程形的色阻层定义为第一色阻层241，将之前制程中形成的色阻层定义为第二色阻层242，其中至少一个第一色阻层241会呈现凹形结构；当第一色阻层241呈现凹形结构时，靠近数据线230的区域形成凸起部243，而远离数据线230的区域形成中间部244，并且中间部244的厚度小，凸起部243的厚度大，呈现中间低逐渐向两个边缘升高的地势，一般凸起部243的厚度比中间部244的厚度大0.2um-0.5um，在实际制作中，通常最后一道制程形成的色阻层是蓝色色阻层，即第一色阻层241通常为蓝色色阻层，当然最后一道制程形成的色阻层也可以是红色色阻层或绿色色阻层，具体根据实际生产情况而定。其中，中间部244可以定义为与第二色阻层242厚度相同的区域。
像素区221还设置有像素电极260和/或公共电极270，至少像素电极260和/或公共电极270中的一个设置在平坦层250上，以使得像素电极260和公共电极270形成电场来驱动液晶偏转，对应不同颜色的色阻层，呈现不同的颜色来实现彩色画面显示，并且像素电极260包括多条相互连接且间隔设置的像素电极分支261，和/或公共电极270包括多条相互连接且间隔设置的公共电极分支271，在平坦层250上，对应凸起部243设置至少一个第一条形槽251，并且第一条形槽251沿数据线230的排布方向延伸，以容纳对应位置的像素电极分支261和/或公共电极分支271，以使得对应第一色阻层241的位置，像素电极260和/或公共电极270的上表面齐平，避免上表面呈凹形趋势，齐平不代表完全齐平，允许有工艺上的误差，比如，像素电极260和/或公共电极270的上表面高度之间的差值小于阈值时，可以认为齐平；在这个阈值内，电场稳定，不会呈现明显的驱动异常或显示不均等问题，具体阈值可以根据显示面板10的尺寸或规格的不同进行调整，以满足电场稳定性的需求，减小暗态漏光。
图4是本申请实施例一像素电极和公共电极的俯视示意图，图5是本申请实施例一第一条形槽的俯视示意图，结合图4和图5可知，本申请的显示面板10为平面转换型(IPS)显示面板10，且像素电极260和公共电极270均设置在平坦层250上，多条像素电极分支261和公共电极分支271间隔排布，以形成水平电场；对应凸起部243设置的像素电极分支261或公共电极分支271设置于第一条形槽251内。
本实施方式中，阵列基板20应用于IPS显示面板10，像素电极260和公共电极270均设置在平坦层250上，并且，当显示面板10为IPS型显示面板时，多条像素电极分支261和公共电极分支271交替间隔设置，以形成水平电场，每条像素电极分支261和每条公共电极分支271可以与数据线230的排布方向平行，因此，第一条形槽251可以是与对应凸起部243处的像素电极分支261和/或公共电极分支271形状相同的一个长条矩形，分别将像素电极分支261和/或公共电极分支271一整条嵌入在第一条形槽251内，以确保像素电极分支261和公共电极分支271的上表面齐平。当然，第一条形槽251也可以是对应凸起部243设置的一个大矩形槽，以容纳多个像素电极分支261和/或公共电极分支271，也可以确保像素电极分支261和公共电极分支271的上表面齐平。
并且，第一条形槽251的宽度可以设置为比像素电极分支261和/或公共电极分支271的宽度大2um～15um，使得像素电极分支261和/或公共电极分支271与第一条形槽251的侧壁之间形成间隙，该间隙可以避免制作过程中产生的误差，防止像素电极分支261和/或公共电极分支271过宽时，在第一条形槽251的槽口位置堆积，出现厚度不均匀，进而导致电场不均匀的现象。
具体地，第一条形槽251设置有多个，且多个第一条形槽251的深度从凸起部243向中间部244的方向逐渐减小，对应凸起部243设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271均设置于第一条形槽251内。
由于第一色阻层241呈现凹形结构时，中间部244的厚度小，凸起部243的厚度大，且通常呈由中间向两边逐渐增加的趋势，因此，将第一条形槽251设置有多个，并且由凸起部243向中间部244设置的第一条形槽251的深度也逐渐减小，此时对应第一色阻层241的中间部244，至少一条像素电极分支261或公共电极分支271不设置在第一条形槽251内，这样，在制作第一条形槽251时，就可以以平坦层250对应中间部244处的表面为基准，对应凸起部243依次制作多个深度逐渐增加的第一条形槽251，对应中间部244的至少一个第一条形槽251的深度为0，对应凸起部243设置的第一条形槽251的深度由第一色阻层241的中间位置向两边依次增加，这样，沿扫描线220的排布方向的截面看，第一条形槽251靠近数据线230位置的侧壁高，而靠近中间位置的侧壁矮，以保证像素电极260和公共电极270的上表面齐平。这样，还可以减小第一条形槽251的制作数量。
具体地，每个像素电极260和/或公共电极270均呈梳状排布，像素电极260还包括第一主干262，多条像素电极分支261与第一主干262连接，且第一主干262沿扫描线220的排布方向延伸；公共电极270还包括第二主干272，多条公共电极分支271与第二主干272连接，且第二主干272沿扫描线220的排布方向延伸，第一主干262即为像素电极260的龙骨，第二主干272即为公共电极270的龙骨，通常阵列基板20还包括薄膜晶体管(图中未示出)，每个像素电极260的第一主干262通过一个过孔与薄膜晶体管的漏电极连接，来实现电信号驱动，第一主干262和第二主干272均位于靠近扫描线220的位置，一般，在形成色阻层时，在靠近扫描线220的位置色阻层的厚度也会大于中间位置的厚度，为了使得不同位置的像素电极260和公共电极270的上表面均齐平，平坦层250靠近扫描线220的位置还设置有第三条形槽253，且第三条形槽253沿扫描线220的延伸方向延长，通常第三条形槽253设置有至少两个，保证对应色阻层厚度大的位置设置的第一主干262和第二主干272均设置在第三条形槽253内，以使像素电极260和公共电极270的上表面更加齐平，利于电场稳定。
而且，阵列基板20在形成显示面板10时，还设置有间隔柱，通过间隔柱来支撑基板，而间隔柱通常设置在对应扫描线220或数据线230的位置，当间隔柱滑动时会有向像素区221内滑动的可能，将靠近数据线230位置的像素电极分支261和/或公共电极分支271设置在第一条形槽251内，同时将靠近扫描线220的位置的第一主干262和第二主干272设置在第三条形槽253内，还可以避免间隔柱滑动时对像素电极260和公共电极270造成磨损或挤压造成的断线问题，进而提高阵列基板20的稳定性。
此外，每条像素电极分支261和每条公共电极分支271也可以呈V字型结构，沿数据线230的排布方向延伸，当每条像素电极分支261和每条公共电极分支271呈V字型结构时，以像素电极分支261为V字型为例，像素电极分支261包括第一像素电极子分支和第二像素电极子分支，且第一像素电极子分支和第二像素电极子分支之间的夹角为钝角，钝角的设置范围为150°～166°，以保证电场的稳定性，进而，根据像素电极分支261的形状来设计第一条形槽251的形状，因此，第一条形槽251的形状也可以是呈V型结构的条形槽，以使得对应凸起部243设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271完全设置在第一条形槽251内，或者第一条形槽251的形状也可以是矩形，只将对应凸起部243设置的部分像素电极分支261和/或公共电极分支271设置在第一条形槽251内，保证像素电极260和公共电极270的上表面齐平。
进一步地，阵列基板20还包括第二平坦层254，第二平坦层254覆盖设置在像素电极260和/或公共电极270的上方，且第二平坦层254远离像素电极260和/或公共电极270的表面与衬底210平行。
由于在平坦层250对应像素电极分支261或公共电极分支271的位置设置有第一条形槽251，所以平坦层250的上表面会出现不平整，对应第一色阻层241的凸起部243厚度大的位置的平坦层250会凸出于像素电极分支261或公共电极分支271形成的上表面，为了提高阵列基板20的平整性，在像素电极260和公共电极270的上方还设置有第二平坦层254，对阵列基板20暴露的表面进行平坦化，使得阵列基板20的上表面平坦性达到最优的情况，能最大限度改善IPS型显示面板10暗态漏光的问题。而且，设置第二平坦层254还有利于液晶层40的厚度均匀，以使得显示效果更加均匀，提高画质。
实施例二：
图6是本申请实施例二阵列基板的截面示意图，图7是本申请实施例二第一条形槽和第二条形槽的俯视示意图，参考图6和图7可知，本实施例是对实施例一的进一步改进，彩色滤光层240还包括至少一个第二色阻层242，且第二色阻层242的厚度均匀；平坦层250对应第二色阻层242设置有多个第二条形槽252，第二条形槽252沿数据线230的排布方向延伸，且多个第二条形槽252的深度一致，对应第二色阻层242设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271设置于第二条形槽252内。
本实施方式中，平坦层250不仅对应第一色阻层241设置第一条形槽251，还对应第二色阻层242的位置设置有第二条形槽252，并且第二条形槽252设置有多个，第二条形槽252的数量与对应第二色阻层242设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271的数量相同，将对应第二色阻层242设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271均设置在第二条形槽252内，使得对应第二色阻层242设置的像素电极260和公共电极270的上表面也齐平。
并且，平坦层250对应中间部244也设置有至少一个第一条形槽251，即对应第一色阻层241的位置设置多个第一条形槽251，中间部244和凸起部243均设置有第一条形槽251，且第一条形槽251的数量与对应第一色阻层241设置的像素电极分支261和/或公共电极分支271的数量相同，使得对应第一色阻层241设置的像素电极分支261和公共电极分支271均设置在第一条形槽251内，并且对应第一色阻层241的凸起部243，第一条形槽251的深度从中间部244向凸起部243逐渐增加，呈凹形的变化趋势，以使得对应第一色阻层241和第二色阻层242设置的像素电极260和公共电极270的上表面趋于齐平，提高电场稳定性。而且，还可以在像素电极260和公共电极270的龙骨位置，也设置第三条形槽253，保证阵列基板20内，每个位置的像素电极260和公共电极270的上表面均齐平，进而提高阵列基板的稳定性。
此外，第二条形槽252的设置，还可以减少阵列基板20在制作过程中产生的工艺误差，比如，第二色阻层242位置也可能会存在较轻程度的流平问题，对应第二色阻层242位置的平坦层250的表面也会存在不平整的现象，进而对应每个色阻层的平坦层250均设置条形槽260，可以减少平坦层250不平整造成的像素电极260和公共电极270上表面不平整的问题，进一步保证电场稳定性。
优选的，第二条形槽252的深度与像素电极分支261和/或公共电极分支271的厚度相当；同时，第一色阻层241处，对应中间部244，第一条形槽251的深度与像素电极分支261和/或公共电极分支271的厚度相当；对应凸起部243，第一条形槽251的深度大于像素电极分支261和/或公共电极分支271的厚度；像素电极分支261和/或公共电极分支271均设置于第一条形槽251内。
本实施方式中，对第一条形槽251和第二条形槽252的深度做了一定的设计，具体地，第二条形槽252的深度与像素电极分支261或公共电极分支271的厚度相当，可以是等于，也可以有一定的误差，在误差允许的范围内均可，而对应第一色阻层241的中间部，第一条形槽251的深度与像素电极分支261或公共电极分支271的厚度相当，从中间部244向凸起部243的方向，第一条形槽251的深度逐渐增加，且大于像素电极分支261或公共电极分支271的厚度，利于所有像素电极分支261和公共电极分支271的上表面齐平，且对应第一色阻层241和第二色阻层242的位置，像素电极分支261或公共电极分支271均位于平坦层250内，可以使电场在垂直方向分量达到最优，减少暗态亮度；并且在保证电场稳定的同时，使液晶盒后更加均匀，使得光的透过率均一性得到改善。
当然，第二条形槽252的深度也可以小于或大于像素电极分支261和/或公共电极分支271的厚度，而对应中间部244设置的第一条形槽251的深度可以等于第二条形槽252的深度，以保证对应第一色阻层241和第二色阻层242处，像素电极260和公共电极270的上表面均齐平，提高电场稳定性。
实施例三：
图8是本申请实施例三阵列基板的截面示意图，参考图8可知，作为本申请的实施例三，与实施例一不同的是，显示面板10为边缘场开关技术(FPS)显示面板，像素电极260和公共电极270中的一个设置在平坦层250上；像素电极260和公共电极270中的另一个为整面性电极，且设置在衬底210与彩色滤光层240之间，像素电极260和公共电极270形成边缘电场；对应凸起部243设置的像素电极分支261或公共电极分支271设置于第一条形槽251内。
本实施方式中，显示面板10为FPS显示面板，像素电极260和公共电极270位于阵列基板20的不同层，以像素电极260设置在平坦层250上为例，公共电极270设置在衬底210与彩色滤光层240之间，并且，像素电极260包括多个像素电极分支261，间隔排列在平坦层250上，公共电极270为整面性电极，与像素电极260形成边缘电场，因此，第一条形槽251仅容纳像素电极分支261，以保证像素电极260的上表面齐平，并且第一条形槽251的形状根据像素电极分支261的形状对应设计，以提高阵列基板20的稳定性。
并且，还可以对应第二色阻层242的位置设置第二条形槽252，在像素电极260上还可以设置第二平坦层254，在保证各个像素电极分支261的上表面齐平，保证电场稳定减少暗态漏光的同时，还可以改善光的透过率均一性，进一步提高显示面板10的稳定性。
图9是本申请阵列基板的制备方法的步骤图，参考图9可知，作为本申请的另一实施例，还公开了一种阵列基板20的制备方法，用于制备本申请公开的任意一种阵列基板20，包括步骤：
S1、提供衬底，依次在所述衬底上制备多条扫描线和多条数据线，且纵横交错排列形成多个像素区；
S2、对应所述像素区处形成多个第二色阻层，最后再形成多个第一色阻层，以形成彩色滤光层；
S3、在所述彩色滤光层上形成平坦层，并在所述平坦层上，对应至少一个所述第一色阻层靠近所述数据线区域形成至少一个第一条形槽；
S4、在所述平坦层上，对应所述第一色阻层和所述第二色阻层形成多条像素电极分支和多条公共电极分支，且形成的至少一条所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置在所述第一条形槽内，以在所述像素区形成像素电极和公共电极。
以下通过图9a-9d来展示阵列基板的结构变化示意图：
图9a是本申请阵列基板第一阶段的结构示意图，参考图9a可知，通过成膜、黄光、蚀刻等一系列制程，依次在衬底210上形成多条扫描线220和多条数据线230，且交错排列形成多个像素区221，多条扫描线220和多条数据线230的制作方法采用现有公知技术，在此不再赘述。
图9b是本申请阵列基板第二阶段的结构示意图，参考图9b可知，对应像素区221处，通过黄光制程，依次形成多个第二色阻层242，最后再形成多个第一色阻层241，以形成彩色滤光层240，并且，形成的第一色阻层241在靠近数据线的位置具有凸起部243，远离数据线的位置具有中间部244，并且中间部244的厚度小于凸起部243的厚度，沿扫描线的延长方向，第一色阻层241呈现中间低两边高的凹形结构，通常凸起部243比中间部244的厚度大0.2um-0.5um。
图9c是本申请阵列基板第三阶段的结构示意图，参考图9c可知，在彩色滤光层240上，采用掩膜技术，比如半色调掩膜，或者灰化处理工艺，形成平坦层250，并在对应至少一个第一色阻层241在靠近数据线230的位置形成至少一个第一条形槽251，仅在第一色阻层241厚度大的位置设置第一条形槽251，当然，第一条形槽251也可以有多个，且多个第一条形槽251的深度对应第一色阻层241的中间部244，向第一色阻层241的凸起部243深度逐渐增加。
图9d是本申请阵列基板第四阶段的结构示意图，参考图9d可知，在平坦层250上，通过成膜、黄光、蚀刻等制成形成像素电极260和公共电极270，并且对应第一色阻层241的位置，将至少一个像素电极分支261或公共电极分支271设置在第一条形槽251内，以使得像素电极260和公共电极270的上表面齐平，提高电场稳定性，其中像素电极260和公共电极270可以通过图案化处理形成梳状结构，也可以是V型结构，以形成水平电场。
具体地，在步骤S3中还可以包括：在所述平坦层上，对应所述第一色阻层形成多个第一条形槽；同时，对应所述第二色阻层形成多个第二条形槽；
步骤S4还包括：在所述平坦层上，对应所述第二色阻层的位置形成多条像素电极分支和多条公共电极分支，且多条所述像素电极分支和多条所述公共电极分支分别形成在所述第二条形槽内。
图9e本申请阵列基板第三阶段的另一种结构示意图，如图9e示出，对应每个第二色阻层242的位置还形成多个第二条形槽252，并对应第一色阻层241形成多个第一条形槽251，即在平坦层250上，对应第一色阻层241和第二色阻层242分别设置多个第一条形槽251和多个第二条形槽252，且每个第二条形槽252的深度相同，而第一条形槽251的深度由第一色阻层241的中间位置向边缘位置逐渐增加。
并且，在进行步骤S4时，对应第二色阻层242位置的像素电极分支261和/或公共电极分支271也设置在第二条形槽252内，避免由于其他色阻层由于流平性，导致平坦层250的上表面不平整，而引起对应位置像素电极分支261和/或公共电极分支271的上表面不齐平，进一步提高阵列基板20的电场稳定性。
其中，在步骤S3中，可以通过图案化工艺，形成不同的第一条形槽251和/或第二条形槽252形状，可以是长条矩形或折线形，或者根据像素电极分支261和/或公共电极分支271的形状对应设计其他形状，以保证在步骤S4中形成的像素电极分支261和公共电极分支271的均可以设置在第一条形槽251和第二条形槽252内，保证像素电极260和公共电极270的上表面齐平。
需要说明的是，本方案中涉及到的各步骤的限定，在不影响具体方案实施的前提下，并不认定为对步骤先后顺序做出限定，写在前面的步骤可以是在先执行的，也可以是在后执行的，甚至也可以是同时执行的，只要能实施本方案，都应当视为属于本申请的保护范围。
需要说明的是，本申请的发明构思可以形成非常多的实施例，但是申请文件的篇幅有限，无法一一列出，因而，在不相冲突的前提下，以上描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例，各实施例或技术特征组合之后，将会增强原有的技术效果。
本申请的技术方案可以广泛用于各种显示面板，如TN(Twisted Nematic，扭曲向列型)显示面板、IPS(In-Plane Switching，平面转换型)显示面板、VA(VerticalAlignment，垂直配向型)显示面板、MVA(Multi-Domain Vertical Alignment，多象限垂直配向型)显示面板，均可适用上述方案。
以上内容是结合具体的可选实施方式对本申请所作的进一步详细说明，不能认定本申请的具体实施只局限于这些说明。对于本申请所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本申请的保护范围。

Claims (9)

1.一种阵列基板，应用于显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括衬底、多条扫描线、多条数据线、彩色滤光层和平坦层；
多条所述扫描线和多条所述数据线均设置在所述衬底上，且交错排列形成多个像素区；
所述彩色滤光层包括多个不同颜色的色阻层，并对应所述像素区设置；
所述平坦层设置于所述彩色滤光层上；
所述像素区还设置有像素电极和公共电极，至少所述像素电极和所述公共电极中的一个设置在所述平坦层上，所述像素电极包括多条相互连接且间隔设置的像素电极分支，和/或所述公共电极包括多条相互连接且间隔设置的公共电极分支；
其中，所述彩色滤光层至少包括多个第一色阻层，至少一个所述第一色阻层靠近所述数据线的区域具有凸起部，远离所述数据线的区域具有中间部，且所述凸起部的厚度大于所述中间部的厚度；
所述平坦层对应所述凸起部设置有至少一个第一条形槽，且所述第一条形槽沿所述数据线的排布方向延伸，所述第一条形槽设置有多个，且多个所述第一条形槽的深度从所述凸起部向所述中间部的方向逐渐减小，对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支均设置于所述第一条形槽内。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述平坦层对应所述中间部也设置有至少一个第一条形槽，且对应所述中间部，所述第一条形槽的深度与所述像素电极分支或所述公共电极分支的厚度相当；对应所述凸起部，所述第一条形槽的深度大于所述像素电极分支和/或所述公共电极分支的厚度；所述像素电极分支和/或所述公共电极分支均设置于所述第一条形槽内。
3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述彩色滤光层还包括至少一个第二色阻层，且所述第二色阻层的厚度均匀；
所述平坦层对应所述第二色阻层设置有多个第二条形槽，所述第二条形槽沿所述数据线的排布方向延伸，且多个所述第二条形槽的深度一致，对应所述第二色阻层设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第二条形槽内。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第二条形槽的深度与所述像素电极分支和/或所述公共电极分支的厚度相当。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示面板为边缘场开关技术显示面板，所述像素电极和所述公共电极中的一个设置在所述平坦层上；所述像素电极和所述公共电极中的另一个为整面性电极，且设置在所述衬底与所述彩色滤光层之间，所述像素电极和所述公共电极形成边缘电场；
对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第一条形槽内。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述显示面板为平面转换型显示面板，且所述像素电极和所述公共电极均设置在所述平坦层上，多条所述像素电极分支和多条所述公共电极分支间隔排布，以形成水平电场；
对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置于所述第一条形槽内。
7.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括第二平坦层，所述第二平坦层覆盖设置在所述像素电极和/或所述公共电极的上方，且所述第二平坦层远离所述像素电极和/或所述公共电极的表面与所述衬底平行。
8.一种显示面板，其特征在于，包括对置基板和如权利要求1至7任意一项所述的阵列基板，所述对置基板和所述阵列基板对盒设置。
9.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，用于制作如权利要求1至7任意一项所述的阵列基板，包括步骤：
提供衬底，依次在所述衬底上制备多条扫描线和多条数据线，且纵横交错排列形成多个像素区；
对应所述像素区处形成多个第二色阻层，最后再形成多个第一色阻层，以形成彩色滤光层；
在所述彩色滤光层上形成平坦层，并在所述平坦层上，对应至少一个所述第一色阻层靠近所述数据线区域形成至少一个第一条形槽；
在所述平坦层上，对应所述第一色阻层和所述第二色阻层形成多条像素电极分支和多条公共电极分支，且形成的至少一条所述像素电极分支和/或所述公共电极分支设置在所述第一条形槽内，以在所述像素区形成像素电极和公共电极；
其中，所述第一条形槽设置有多个，且多个所述第一条形槽的深度从所述凸起部向所述中间部的方向逐渐减小，对应所述凸起部设置的所述像素电极分支和/或所述公共电极分支均设置于所述第一条形槽内。
CN202111675434.8A 2021-12-31 2021-12-31 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法 Active CN114355679B (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111675434.8A CN114355679B (zh) 2021-12-31 2021-12-31 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法
US18/079,779 US12050388B2 (en) 2021-12-31 2022-12-12 Array substrate, display panel, and method of fabricating array substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111675434.8A CN114355679B (zh) 2021-12-31 2021-12-31 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN114355679A CN114355679A (zh) 2022-04-15
CN114355679B true CN114355679B (zh) 2022-09-27

Family

ID=81105108

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111675434.8A Active CN114355679B (zh) 2021-12-31 2021-12-31 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法

Country Status (2)

Country Link
US (1) US12050388B2 (zh)
CN (1) CN114355679B (zh)

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100443756B1 (ko) * 1997-01-31 2004-12-31 삼성전자주식회사 액정표시소자
JP4447988B2 (ja) * 2004-08-24 2010-04-07 パナソニック株式会社 固体撮像装置、その製造方法およびカメラ
KR101098891B1 (ko) * 2004-09-30 2011-12-26 엘지디스플레이 주식회사 횡전계형 액정표시장치
KR101243945B1 (ko) * 2006-05-09 2013-03-13 엘지디스플레이 주식회사 수직 배향 모드 액정표시장치용 컬러필터 기판과 그제조방법
WO2009066886A2 (en) * 2007-11-20 2009-05-28 Lg Chem. Ltd. Color filter substrate
US8389920B2 (en) * 2008-03-13 2013-03-05 Aptina Imaging Corporation Method and apparatus for breaking surface tension during a recessed color filter array process
KR101720524B1 (ko) * 2010-06-07 2017-03-28 엘지디스플레이 주식회사 액정표시장치 및 그 제조방법
KR101809657B1 (ko) * 2011-09-22 2017-12-18 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
US8922739B2 (en) * 2012-12-28 2014-12-30 Au Optronics Corp. Liquid crystal display with particular structure for the pixel electrode and the common electrode
TWI512378B (zh) * 2013-08-19 2015-12-11 Au Optronics Corp 畫素結構
KR102106007B1 (ko) * 2013-08-26 2020-05-04 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
CN104570513A (zh) * 2014-12-29 2015-04-29 深圳市华星光电技术有限公司 一种像素结构及液晶显示面板
KR20160126159A (ko) * 2015-04-22 2016-11-02 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN105093653B (zh) * 2015-08-26 2018-05-29 深圳市华星光电技术有限公司 一种彩膜基板及曲面显示装置
KR20170036830A (ko) * 2015-09-18 2017-04-03 삼성디스플레이 주식회사 액정 조성물 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
CN205844712U (zh) * 2016-07-29 2016-12-28 上海中航光电子有限公司 阵列基板及显示面板
WO2019021877A1 (ja) * 2017-07-24 2019-01-31 シャープ株式会社 表示装置及びヘッドマウントディスプレイ
KR20190123379A (ko) * 2018-04-23 2019-11-01 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 패널 및 이를 포함하는 액정 표시 장치
CN109979983B (zh) * 2018-06-22 2021-05-28 友达光电股份有限公司 有机发光二极管显示装置
CN108983516B (zh) * 2018-07-10 2021-08-20 Tcl华星光电技术有限公司 Tft阵列基板
KR102554873B1 (ko) * 2018-09-14 2023-07-12 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
CN109979982B (zh) * 2019-03-29 2021-04-16 京东方科技集团股份有限公司 有机发光显示面板及制备方法、显示装置
CN110806666B (zh) * 2019-10-25 2020-10-13 惠州市华星光电技术有限公司 Coa基板和显示面板
CN111679517A (zh) * 2020-06-24 2020-09-18 武汉华星光电技术有限公司 一种显示面板及其制造方法，显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US12050388B2 (en) 2024-07-30
CN114355679A (zh) 2022-04-15
US20230213827A1 (en) 2023-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101965305B1 (ko) 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
US8553183B2 (en) Display device having reduced step coverage at overlapping portion of color filters
US7688413B2 (en) Active matrix liquid crystal display device
EP3035115B1 (en) Curved display device
TWI228187B (en) MVA-LCD device with color filters on a TFT array substrate
CN103645589B (zh) 显示装置、阵列基板及其制作方法
EP2144112B1 (en) Display panel comprising singular points of alignment
US9519187B2 (en) Pixel structure
CN101685232B (zh) 阵列基底及其制造方法、采用该阵列基底的液晶显示装置
KR20130137457A (ko) 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR20130036741A (ko) 컬러 필터 기판 및 용량성 터치 스크린
TWI393968B (zh) 液晶顯示面板
TW201131265A (en) Liquid crystal display
US6437845B1 (en) Liquid crystal display device and plasma-addressed display using the same
US7751002B2 (en) Transflective LCD panel and pixel structure with first and second overlapping common electrodes disposed in one direction both overlapping data line disposed in a second direction
JP4165337B2 (ja) 液晶表示装置、及び電子機器
JP3912320B2 (ja) 液晶表示装置及び電子機器
KR102305921B1 (ko) 액정표시장치 및 그 제조방법
CN107219694B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
KR19990037164A (ko) 반사형 액정 표시 장치
US7443470B2 (en) Liquid crystal device and electronic apparatus
CN114355685B (zh) 阵列基板、阵列基板的制备方法和显示面板
CN114355679B (zh) 阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法
US20230213818A1 (en) Display panel and display device
EP3907555A1 (en) Array substrate, manufacturing method therefor, and electronic device

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant