CN114346913A - 纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法 - Google Patents

纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法 Download PDF

Info

Publication number
CN114346913A
CN114346913A CN202111678441.3A CN202111678441A CN114346913A CN 114346913 A CN114346913 A CN 114346913A CN 202111678441 A CN202111678441 A CN 202111678441A CN 114346913 A CN114346913 A CN 114346913A
Authority
CN
China
Prior art keywords
grinding
cerium oxide
liquid
nano cerium
ultrasonic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202111678441.3A
Other languages
English (en)
Inventor
张龙
朱利民
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Jiaotong University
Original Assignee
Shanghai Jiaotong University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Jiaotong University filed Critical Shanghai Jiaotong University
Priority to CN202111678441.3A priority Critical patent/CN114346913A/zh
Publication of CN114346913A publication Critical patent/CN114346913A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

本发明提供了一种纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法。所述一种纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,包括纳米氧化铈液、超声液体处理装置、循环泵、管头、磨削工作台、回流管、容器;所述磨削工作台用于承载工件,磨削砂轮装于主轴上;所述纳米氧化铈液存放在所述容器中,经超声液体处理装置处理后,经循环泵运送至磨削工作台高度,经管头运送至磨削工作台,然后纳米氧化铈液经回流管流入容器。本发明采用物理方法防止纳米氧化铈颗粒沉降和团聚,能够避免纳米氧化铈液辅助磨削中,纳米氧化铈颗粒沉降和团聚导致辅助磨削效果逐渐变差的现象,实现长效、高质量的纳米氧化铈液辅助磨削加工。

Description

纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法
技术领域
本发明涉及纳米氧化铈液辅助磨削加工领域,具体地,涉及一种纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法,尤其涉及一种面向纳米氧化铈液的物理方法防止纳米氧化铈颗粒沉降和团聚,形成均匀的纳米氧化铈液,保持其长久、有效的辅助磨削功能。
背景技术
目前,硬脆性材料如光学元件(石英玻璃、BK7等)、半导体元件(单晶碳化硅、单晶硅、氧化镓单晶等)需要高质量的表面(低表面粗糙度和亚表面损伤)。但是这些元件的加工大多采用昂贵的纳米级别机床和超细磨粒的磨具等。磨削深度受限在纳米尺度内,导致加工效率极低,加工成本高昂。现有技术中的纳米氧化铈雾化液辅助磨削可得到较好的磨削结果,但是,纳米氧化铈颗粒的沉降和团聚导致其辅助磨削功能随着磨削加工的进行有所降低。现有方法是采用添加化学物质达到纳米氧化铈颗粒分散的目的,但是,化学过程非常复杂,难于精确计算和控制、以及配量不匹配将影响其功能。
专利文献CN104448786A公开了一种聚氨酯/纳米氧化铈水分散液的制备方法。主要包括以下步骤:一、以聚乙烯醇为胶体稳定剂,在其水溶液中原位生成纳米氧化铈水溶胶;二、采用二异氰酸酯化合物,聚醚多元醇、二羟甲基丙酸,二元醇为主要原料制得聚氨酯预聚体,加入胺类化合物、水进行成盐及乳化,同时在乳化过程中引入纳米氧化铈溶胶得到抗紫外水性聚氨酯分散体,该发明通过在聚乙烯醇水溶液中原位生成纳米氧化铈水溶胶,将其与水性聚氨酯复合,减少了直接使用纳米氧化铈粉体难以分散、团聚现象。但该方案包括聚乙烯醇水溶液,仍然可能由于计算、控制以及配量聚乙烯醇水溶液的不准确,导致的影响其功能的现象。
发明内容
针对现有技术中的缺陷,本发明的目的是提供一种纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法。
根据本发明提供的一种纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,包括纳米氧化铈液、超声液体处理装置、循环泵、管头、磨削工作台、回流管、容器;
所述磨削工作台用于承载工件;
所述磨削工作台上设置有磨削区域,所述工件在所述磨削区域中被磨削;
所述纳米氧化铈液存放在所述容器中,超声液体处理装置的工作端浸没在纳米氧化铈液中,循环泵的输入端连接容器,循环泵的输出端通过管头连接磨削工作台,从而将容器内的纳米氧化铈液导向至磨削区域,磨削工作台通过回流管连接容器,从而使磨削工作台中的纳米氧化铈液回流至容器。
优选地,所述超声液体处理装置为超声振动棒装置。
优选地,所述超声振动棒装置的超声功率2000W,频率20KHZ。
优选地,所述管头为圆头、扁头或孔洞圆扁头。
优选地,所述循环泵为水泵,所述水泵流量4300L/H-12000L/H。
优选地,所述纳米氧化铈液的pH在7~14之间。
优选地,所述容器为圆桶或方桶。
优选地,所述回流管为塑料管。
根据本发明提供的一种纳米氧化铈液辅助磨削的方法,采用所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,还包括以下步骤:
S1:在所述容器中利用超声液体处理装置搅拌纳米氧化铈液;
S2:利用循环泵将纳米氧化铈液输送至磨削工作台;
S3:在磨削工作台上进行磨削作业,利用纳米氧化铈液辅助磨削作业;
S4:操作超声液体处理装置,使所述超声液体处理装置每工作第一时间,停止第二时间;直至完成磨削作业;
S5:关闭超声液体处理装置与循环泵。
优选地,所述S4中,所述第一时间为5分钟,所述第二时间为1分钟。
与现有技术相比,本发明具有如下的有益效果:
1、本发明采用超声方法防止纳米氧化铈颗粒沉降和团聚,能够避免纳米氧化铈液辅助磨削中,纳米氧化铈颗粒沉降和团聚导致辅助磨削效果逐渐变差的现象,实现长效、高质量的纳米氧化铈液辅助磨削加工。
2、本发明采用物理高度差与循环泵相互配合的方式,使纳米氧化铈液能够顺利在系统内流动。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本发明的结构示意图;
图中示出:
Figure BDA0003453144540000031
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本发明,但不以任何形式限制本发明。应当指出的是,对本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变化和改进。这些都属于本发明的保护范围。
实施例1:实施例1为基础实施例。
本发明提供了一种纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,包括纳米氧化铈液1、超声液体处理装置2、循环泵3、管头4、磨削工作台、回流管5、容器6。所述磨削工作台用于承载工件;所述磨削工作台上设置有磨削区域,所述工件在所述磨削区域中被磨削;优选的,所述工件在磨削工作台上被磨削砂轮磨削作业。
所述纳米氧化铈液1存放在所述容器6中,超声液体处理装置2的工作端浸没在纳米氧化铈液1中,循环泵3的输入端连接容器6,循环泵3的输出端通过管头4连接磨削工作台,从而将容器6内的纳米氧化铈液1导向至磨削区域,磨削工作台通过回流管5连接容器6,从而使磨削工作台中的纳米氧化铈液1回流至容器6。优选的,所述循环泵3的输入端连接容器6底部。所述纳米氧化铈液1存放在所述容器6中,经超声液体处理装置2处理后,经循环泵3运送至磨削工作台高度,经管头4运送至磨削工作台,然后纳米氧化铈液经回流管5流入容器6。优选的,所述容器6与所述循环泵3之间、所述循环泵3与所述管头4之间通过管道连接。所述经超声液体处理装置2处理是指:所述纳米氧化铈液1经超声液体处理装置2超声物理乳化和分散。经处理后能够得均匀的纳米氧化铈液。
优选的,所述容器6与循环泵3的高度低于所述磨削工作台所在高度,纳米氧化铈液1在循环泵3的作用下被输送至磨削工作台,再在重力的作用下经回流管5流回至容器6中,完成一次循环。
所述纳米氧化铈液1可为纯纳米氧化铈液,所述循环泵3为水泵,所述水泵流量4300L/H-12000L/H,所述超声液体处理装置2为超声振动棒装置,优选的,采用苏州索尼克超声振动棒装置,型号为JY-Y202G,所述超声振动棒装置的超声功率2000W,频率20KHZ。所述管头4可选为圆头、扁头或孔洞圆扁头等,除此以外,所述管头4还可以带有雾化功能。所述纳米氧化铈液可采用不同pH值的纳米氧化铈液,优选的,纳米氧化铈液1的pH在7~14之间。
优选的,所述纳米氧化铈颗粒大小包含所有能生产的尺寸,超声振动棒装置工作方式为连续工作或间断工作。纳米氧化铈液盛装容器包括所有满足盛装纳米氧化铈液要求的容器,如圆桶、方桶等。所述水管包括所有能满足将纳米氧化铈液传送至磨削工作区域要求的水管,如塑料管。
本发明提供还一种纳米氧化铈液辅助磨削的方法,采用所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,还包括以下步骤:
S1:在所述容器6中利用超声液体处理装置2搅拌纳米氧化铈液1;
S2:利用循环泵3将纳米氧化铈液1输送至磨削工作台;
S3:在磨削工作台上进行磨削作业,利用纳米氧化铈液(1)辅助磨削作业;;
S4:操作超声液体处理装置2,使所述超声液体处理装置2每工作第一时间,停止第二时间;直至完成磨削作业;优选的,所述第一时间为5分钟,所述第二时间为1分钟。
S5:关闭超声液体处理装置2与循环泵3。
实施例2:实施例2是实施例1的一个优选例。
采用CNC磨床(型号为SMARTB818Ⅲ),磨削工作台在所述采用CNC磨床上,采用180#金刚石砂轮,磨粒尺寸约80μm,砂轮尺寸:直径150毫米,厚度5毫米,所述砂轮安装在所述CNC磨床的主轴上,工件材料是石英光学玻璃,几何尺寸长×宽×高为20毫米×20毫米×4毫米。金刚石砂轮转速4000转/分钟,磨削进给速度大小为1毫米/分钟,磨削深度5微米。采用所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,纳米氧化铈液(1)中氧化铈颗粒尺寸为1μm,溶液总质量为5公斤,溶液的质量份数为10%,水泵流量为4300L/H,所述超声液体处理装置2采用苏州索尼克超声振动棒装置,型号为JY-Y202G,超声功率2000W,频率20KHZ,磨削过程中超声装置每工作5分钟,停1分钟,加工表面粗糙度达到64.6nm。与不采用超声液体处理装置2的系统达到的粗糙度99nm相比,提高了34.7%。
实施例3:实施例3是实施例1的一个优选例。
采用CNC磨床(型号为SMARTB818Ⅲ),磨削工作台在所述采用CNC磨床上,采用180#金刚石砂轮,磨粒尺寸约80μm,砂轮尺寸:直径150毫米,厚度5毫米,所述砂轮安装在所述CNC磨床的主轴上,工件材料是石英光学玻璃,几何尺寸长×宽×高为20毫米×20毫米×4毫米。金刚石砂轮转速4000转/分钟,磨削进给速度大小为1毫米/分钟,磨削深度5微米。采用所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,纳米氧化铈液1中氧化铈颗粒尺寸为500nm,溶液总质量为5公斤,溶液的质量份数为10%,水泵流量为4300L/H,所述超声液体处理装置2采用苏州索尼克超声振动棒装置,型号为JY-Y202G,超声功率2000W,频率20KHZ,处理过程中工作5分钟,停1分钟,加工表面粗糙度达到191nm。与不采用超声液体处理装置2的系统达到的粗糙度240nm相比,提高了20.4%。当供给流量为12000L/H时,加工表面粗糙度为220nm,提高了8.3%。
实施例4:实施例4是实施例1的一个优选例。
采用CNC磨床(型号为SMARTB818Ⅲ),磨削工作台在所述采用CNC磨床上,采用180#金刚石砂轮,磨粒尺寸约80μm,砂轮尺寸:直径150毫米,厚度5毫米,所述砂轮安装在所述CNC磨床的主轴上,工件材料是石英光学玻璃,几何尺寸长×宽×高为20毫米×20毫米×4毫米。金刚石砂轮转速4000转/分钟,磨削进给速度大小为1毫米/分钟,磨削深度5微米。采用所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,纳米氧化铈液1中氧化铈颗粒尺寸为50nm,溶液总质量为5公斤,溶液的质量份数为10%。水泵流量为4300L/H,所述超声液体处理装置2使用苏州索尼克超声振动棒装置,型号为JY-Y202G,超声功率2000W,频率20KHZ,处理过程中工作5分钟,停1分钟,加工表面粗糙度达到207nm。与不采用超声液体处理装置2的系统达到的粗糙度292nm相比,提高了29.1%。
实施例5:实施例5是实施例1的一个优选例。
采用CNC磨床(型号为SMARTB818Ⅲ),磨削工作台在所述采用CNC磨床上,采用180#金刚石砂轮,磨粒尺寸约80μm,砂轮尺寸:直径150毫米,厚度5毫米,所述砂轮安装在所述CNC磨床的主轴上,工件材料是石英光学玻璃,几何尺寸长×宽×高为20毫米×20毫米×4毫米。金刚石砂轮转速4000转/分钟,磨削进给速度大小为1毫米/分钟,磨削深度5微米。采用所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,纳米氧化铈液1中氧化铈颗粒尺寸为20nm,溶液总质量为5公斤,溶液的质量份数为10%,水泵流量为4300L/H,所述超声液体处理装置2使用苏州索尼克超声振动棒装置,型号为JY-Y202G,超声功率2000W,频率20KHZ,处理过程中工作5分钟,停1分钟,加工表面粗糙度达到164nm。与不采用超声液体处理装置2的系统达到的粗糙度207nm相比,提高了15.9%。
本发明中的超声功率需要与处理液体相匹配,如实施例2-5中处理5公斤液体,溶液的质量份数为10%,氧化铈颗粒20nm-1μm,采用的超声振动棒装置选择参数为超声功率2000W,频率20KHZ。更大重量液体或颗粒尺寸需要更大功率的超声装置。本发明中的供给参数需要和磨削参数相匹配,如实施例2-5中采用磨削进给速度1mm/min时,供给流量越小和氧化铈颗粒越大效果较好。
所述纳米氧化铈液辅助磨削供给系统适用于各种磨削机床,如:精密磨削、超精密机床等。本发明采用物理方法防止纳米氧化铈颗粒沉降和团聚,能够避免纳米氧化铈液辅助磨削中,纳米氧化铈颗粒沉降和团聚导致辅助磨削效果逐渐变差的现象,实现长效、高质量的纳米氧化铈液辅助磨削加工。除此以外,本发明可适用于多种材料的辅助磨削提供供给,适合于纳米氧化铈液辅助磨削的材料均适用于本发明。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本发明并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变化或修改,这并不影响本发明的实质内容。在不冲突的情况下,本申请的实施例和实施例中的特征可以任意相互组合。

Claims (10)

1.一种纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,包括纳米氧化铈液(1)、超声液体处理装置(2)、循环泵(3)、管头(4)、磨削工作台、回流管(5)、容器(6);
所述磨削工作台用于承载工件;
所述磨削工作台上设置有磨削区域,所述工件在所述磨削区域中被磨削;
所述纳米氧化铈液(1)存放在所述容器(6)中,超声液体处理装置(2)的工作端浸没在纳米氧化铈液(1)中,循环泵(3)的输入端连接容器(6),循环泵(3)的输出端通过管头(4)连接磨削工作台,从而将容器(6)内的纳米氧化铈液(1)导向至磨削区域,磨削工作台通过回流管(5)连接容器(6),从而使磨削工作台中的纳米氧化铈液(1)回流至容器(6)。
2.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述超声液体处理装置(2)为超声振动棒装置。
3.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述超声振动棒装置的超声功率2000W,频率20KHZ。
4.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述管头(4)为圆头、扁头或孔洞圆扁头。
5.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述循环泵(3)为水泵,所述水泵流量4300L/H-12000L/H。
6.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述纳米氧化铈液(1)的pH在7~14之间。
7.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述容器(6)为圆桶或方桶。
8.根据权利要求1所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述回流管(5)为塑料管。
9.一种纳米氧化铈液辅助磨削的方法,其特征在于,采用权利要求1-8中任一项所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,还包括以下步骤:
S1:在所述容器(6)中利用超声液体处理装置(2)搅拌纳米氧化铈液(1);
S2:利用循环泵(3)将纳米氧化铈液(1)输送至磨削工作台;
S3:在磨削工作台上进行磨削作业,利用纳米氧化铈液(1)辅助磨削作业;
S4:操作超声液体处理装置(2),使所述超声液体处理装置(2)每工作第一时间,停止第二时间;直至完成磨削作业;
S5:关闭超声液体处理装置(2)与循环泵(3)。
10.根据权利要求9所述的纳米氧化铈液辅助磨削供给系统,其特征在于,所述S4中,所述第一时间为5分钟,所述第二时间为1分钟。
CN202111678441.3A 2021-12-31 2021-12-31 纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法 Pending CN114346913A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111678441.3A CN114346913A (zh) 2021-12-31 2021-12-31 纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202111678441.3A CN114346913A (zh) 2021-12-31 2021-12-31 纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN114346913A true CN114346913A (zh) 2022-04-15

Family

ID=81104369

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202111678441.3A Pending CN114346913A (zh) 2021-12-31 2021-12-31 纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN114346913A (zh)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1613605A (zh) * 2004-11-23 2005-05-11 哈尔滨工业大学 超声波磁流变复合抛光方法及装置
CN101758457A (zh) * 2010-01-19 2010-06-30 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法
US20120244792A1 (en) * 2011-03-22 2012-09-27 Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation Fixed abrasive pad and method for forming the same
CN102962755A (zh) * 2012-12-08 2013-03-13 西北有色金属研究院 一种牙种植体盲孔抛光装置
CN108907906A (zh) * 2018-08-08 2018-11-30 西安工业大学 一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法
CN111716157A (zh) * 2020-06-03 2020-09-29 大连理工大学 一种复杂结构的抛光方法及装置
CN113579250A (zh) * 2021-10-08 2021-11-02 湖南大学 一种激光熔覆增材与磨抛减材复合的超硬模具制造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1613605A (zh) * 2004-11-23 2005-05-11 哈尔滨工业大学 超声波磁流变复合抛光方法及装置
CN101758457A (zh) * 2010-01-19 2010-06-30 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法
US20120244792A1 (en) * 2011-03-22 2012-09-27 Semiconductor Manufacturing International (Shanghai) Corporation Fixed abrasive pad and method for forming the same
CN102962755A (zh) * 2012-12-08 2013-03-13 西北有色金属研究院 一种牙种植体盲孔抛光装置
CN108907906A (zh) * 2018-08-08 2018-11-30 西安工业大学 一种非牛顿幂律流体作为抛光介质的液浮抛光方法
CN111716157A (zh) * 2020-06-03 2020-09-29 大连理工大学 一种复杂结构的抛光方法及装置
CN113579250A (zh) * 2021-10-08 2021-11-02 湖南大学 一种激光熔覆增材与磨抛减材复合的超硬模具制造方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
亢淑梅,沈明钢,李成威著: "《超声波钢包精炼应用基础》", 31 October 2014 *
孙玉利,左敦稳,王宏宇,朱永伟,李军编: "表面活性剂对纳米CeO2在水介质中分散性能的影响", 《南京航空航天大学学报》 *
李玉宝,刘东主编: "《纳米材料研究与应用》", 31 January 2005 *
赵光明主编: "《功能材料 第七届中国功能材料及其应用学术会议论文集6》", 31 October 2010 *

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN111716157B (zh) 一种复杂结构的抛光方法及装置
TW451340B (en) Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods and apparatuses for making and using such slurries
EP1826411B1 (de) Rotationspumpe, hydrodynamischer Mischer mit einer Rotationspumpe, sowie die Verwendung der Rotationspumpe zur Bearbeitung von Fluiden
US20080261493A1 (en) Apparatus for Removing Material, Use of Gas Inclusions in an Abrasive Liquid and Process for Grinding and/or Polishing Surfaces
CN103042438A (zh) 一种恒压式超声波辅助磁流变抛光方法及装置
KR102363562B1 (ko) 연마액 및 SiC 기판의 연마 방법
JPWO2008020507A1 (ja) 研磨剤スラリー廃液からの研磨剤回収方法及び装置
WO1991006388A1 (fr) Procede de finissage superspeculaire par rectification electrolytique de la surface interne d'un tube de petit diametre
CN102765044A (zh) 可用于kdp晶体抛光加工的确定性局部物理潮解加工装置及其抛光加工方法
JP2007222988A (ja) ラッピング加工方法および加工装置
CN101745846A (zh) 一种振动磨料微孔去毛刺工艺
CN203990334U (zh) 一种悬浮液及胶体的制造装置
CN114346913A (zh) 纳米氧化铈液辅助磨削的供给系统与方法
CN114918742A (zh) 基于电流变效应的微结构原位磨抛加工装置及其加工方法
CN112454157B (zh) 一种可控间断非连续剪切增稠抛光方法及装置
CN105255368B (zh) 一种超精密抛光用微米亚微米抛光液的筛选方法
CN109746769A (zh) 一种磁流变抛光加工系统
CN114590814B (zh) 一种磨料制备装置、抛光系统及工作方法
CN106328560A (zh) 加工装置以及加工方法
CN208246552U (zh) 液态金属抛光液在线匀化装置
DE202008003361U1 (de) Spitzenlose Durchführ-Super-Poliervorrichtung mit einem Läppsystem, das ein frei angeordnetes Schleifmittel enthält
CN109746814A (zh) 一种磁流变抛光加工系统
US6053802A (en) Stabilization of slurry used in chemical mechanical polishing of semiconductor wafers by megasonic pulse
KR102165811B1 (ko) 내경 연마 장치
EP1618992B1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Schleifen und/oder Polieren von Oberflächen

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20220415

RJ01 Rejection of invention patent application after publication