CN114346765B - 碳钢转鼓外表面的处理方法 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种碳钢转鼓外表面的处理方法，包括：碳钢转鼓外表面的清洁及堆焊：对碳钢转鼓外表面的污物进行清洁，以及对缺陷位置进行堆焊；外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光；配制精抛光液；外表面精抛：使用配置的精抛光液对外表面进行机械精抛光；外表面检验：对外表面光洁度、粗糙度及壁厚进行检查。本申请的碳钢转鼓外表面的处理方法，实现了对转鼓外表面因腐蚀产生的蜂窝状腐蚀物及氧化物的清洁处理，有利于确保片碱外形质量和产能，延长转鼓的使用周期，降低生产成本，改善现场作业环境，同时提高了生产安全性。

Description

碳钢转鼓外表面的处理方法

技术领域

本申请涉及片碱生产技术领域，尤其涉及一种碳钢转鼓外表面的处理方法。

背景技术

片碱，化学名为氢氧化钠，具有强碱性，是一种用途非常广泛的化工原料，主要用于造纸、纤维素浆粕生产、合成洗涤剂及肥皂、纺织印染工业、化学工业、石油工业、机械加工、冶金等方面。由于液碱储存和运输不便，高品质的片碱越来越受到市场的青睐，而片碱的形状和规格是产品质量的重要指标之一。

片碱生产通常是将32％碱液经过蒸发浓缩到99％的熔融状态，然后冷却水通过片碱机进水端进入转鼓内部的喷淋装置，经过喷淋装置分流，均匀喷淋在转鼓圆柱壳体内表面上，熔融状态碱通过上游设备均匀喷淋在转鼓圆柱壳体外表面上，冷却水通过转鼓圆柱壳体冷却熔融状态碱，利用转鼓内外温差使高温熔融碱结片生成片碱，片碱由附属设备上的刮刀刮下，形成一定规格的片碱至下游进行包装，形成成品并存储。

因为碳钢转鼓在一定条件下会与氢氧化钠发生化学和电化学反应，致使转鼓表面产生腐蚀，转鼓表面腐蚀后出现蜂窝状组织，运行过程中蜂窝处的片碱在刮刀作用下，不能整片脱落，长时间运行会出现粉末状碎碱，影响片碱外形质量，影响系统产能。同时转鼓表面在腐蚀状态下运行，生产现场易出现碱尘，工作人员吸入后容易发生职业病，存在安全隐患。

发明内容

本申请提供一种碳钢转鼓外表面的处理方法，用以解决上述碳钢转鼓外表面腐蚀问题，实现了对转鼓外表面因腐蚀产生的蜂窝状腐蚀物及氧化物的清洁处理，有利于确保片碱外形质量和产能，延长转鼓的使用周期，降低生产成本，改善现场作业环境，同时提高了生产安全性。

本申请提供一种碳钢转鼓外表面的处理方法，包括：

S101、碳钢转鼓外表面的清洁及堆焊：对碳钢转鼓外表面的污物进行清洁，以及对缺陷位置进行堆焊。清洁的外表面有利于进行后序抛光，对缺陷处进行焊接以达到保障转鼓壁厚均匀度，消除转鼓壁厚不均匀度潜在的热应力变化，以便提高转鼓的使用寿命。

S102、外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光，粗抛后转鼓壁厚为12-18mm。粗抛使得转鼓外表面因片碱腐蚀产生的蜂窝状腐蚀物及氧化物除去，呈现出金属光泽。

S103、配制精抛光液。

S104、外表面精抛：使用精抛光液对外表面进行机械精抛光，精抛后转鼓壁厚减少1-2mm。精抛使得外表面更加平整光滑，以达到需要的表面粗糙度，同时也能去掉外表面的细小纹路，如擦伤和划痕。

S105、外表面检验：对外表面光洁度、粗糙度及壁厚进行检查，外表面粗糙度≤3.2μm。

通过上述方案，实现了对转鼓外表面的清洁处理的目的，通过对外表面清洁及堆焊，保障了转鼓壁厚均匀度；之后对外表面进行粗抛光，将外表面因片碱腐蚀产生的蜂窝状腐蚀物及氧化物除去，呈现出金属光泽；按相应重量比例配制精抛光液，并对外表面进行精抛光，精抛光液有利于外表面与抛光设备的正常磨合，使得外表面通过精抛后能达到要求的表面粗糙度，确保了片碱外形质量和产能，延长转鼓的使用周期，降低生产成本。

其中，精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒15-25重量份；

光亮剂5-8重量份；

分散剂5-10重量份；

缓蚀剂0.2-0.6重量份；

助剂1-3重量份；

去离子水80-120重量份。

磨粒是抛光液的主要成分之一，磨粒具有一定的硬度，可以除去碳钢外表面因片碱腐蚀产生的蜂窝状腐蚀物及氧化物，同时，磨粒具有一定的润滑效果，保证了精抛光过程中不会对外表面产生损坏。光亮剂能够除去停留在外表面的氧化物及腐蚀物等表面杂质，增加外表面光泽度、色牢度，提高抛光效率。分散剂能够提高磨粒的分散性和稳定性，避免产生磨粒团聚现象。缓蚀剂能够防止在精抛光的过程中空气及抛光液中其它组分对外表面的腐蚀。助剂能够与分散剂相互作用，进一步提高磨粒在抛光过程中的分散性和稳定性，提高抛光效率，使得外表面粗糙度远低于所要求的值。使用去离子水为溶剂，一方面能够在抛光的过程中及时将热量带出，防止温度过高导致金属和磨屑出现粘连，影响抛光效果；另一方面使抛光液具有较好的流动性，而且更加环保，具有环境友好性。

可选的，磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为3-7:3-5:1-3:1-2。

碳化硅和金刚石的硬度较大，本身具有一定的润滑性，并且耐磨损。通过在抛光液中加入少量比例的核桃砂和二氧化硅，其中核桃砂比较松散，硬度也较小，对整体磨粒硬度起到中和作用，同时降低成本。几种粒子相互配合，使得磨粒的硬度适中，既保证了抛光效果，又不易对转鼓外表面形成刮伤。

可选的，碳化硅和金刚石的粒径为20-30nm，核桃砂和二氧化硅的粒径为0.1-300μm。

采用此范围内粒径的磨粒进行精抛光，使得精抛光后的转鼓外表面光泽度更高，有效保证精抛光效果的均匀性，增强了磨粒间相互协作的效果，并在精抛光过程中不易对转鼓外表面形成划伤。

可选的，光亮剂为水杨酸、磺基水杨酸、乙基水杨酸、炔醇中的至少一种。

可选的，分散剂为聚乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚及丙三醇中的至少一种。

可选的，缓蚀剂为苯并三氮唑。

可选的，助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为0.5-4:1。

纳米磨粒具有很高的比表面积，容易发生团聚现象，团聚颗粒在抛光过程中容易脱离抛光面，会加剧外表面的划伤。纳米金刚石粒子表面具有丰富的含氧基团，二氧化硅粒子表面含有多个羟基官能团，对香豆酸乙酯和桉脂素的加入不仅能够与纳米磨粒表面的官能团相互作用，削弱纳米粒子间的表面能，同时与分散剂分子间相互作用，使得纳米磨粒不易在精抛光液中发生团聚，进一步提高磨粒在抛光过程中的分散性和稳定性，提高抛光效率，还能使得外表面粗糙度远低于所要求的值。转鼓外表面的粗糙度进一步降低后，在转鼓工作时，刮刀的刀刃与转鼓外表面接触时，其刀刃不容易对转鼓的表面产生挤压，同时能减少刮刀和外表面之间的磨损，使得片碱剥离的时候刮刀不容易将转鼓外表面金属刮带下来，不会影响到氢氧化钠生产的质量和效率；既有效保证了片碱的纯度，又防止刮刀的刀刃与转鼓外表面之间过度接触造成转鼓外表面大面积划伤以及刀具损坏，降低了转鼓外表面和刮刀的维修及更换频率，也节约了检修成本。

可选的，精抛光液的配制过程包括：

按重量份计，将磨粒15-25重量份，光亮剂5-8重量份，分散剂5-10重量份，缓蚀剂0.2-0.6重量份，助剂1-3重量份依次加入到80-120重量份的去离子水中，然后超声搅拌1-1.5小时，得到精抛光液。超声搅拌能够使得磨粒在精抛光液中分散更加均匀。

可选的，外表面精抛还包括后处理，后处理步骤为：机械精抛光完成后，使用去离子水对外表面进行清洗。后处理有利于提高转鼓外表面的光洁度，防止精抛光液的残留，保证了片碱的质量。

可选的，粗抛时的抛光压力为2-12MPa，转速为7-8r/min，精抛时的抛光压力为2-12MPa，转速为9-10r/min。抛光过程中调整合适的抛光压力既能达到对转鼓外表面抛光的作用，也避免了压力过大损伤外表面或压力过小达不到所需的抛光效果。转速太快会使精抛光液发生飞溅，造成浪费和安全隐患，所以调整合适的转速以保证抛光效果。

本申请提供的碳钢转鼓外表面处理方法，实现了对转鼓外表面的清洁处理，通过对外表面清洁及堆焊，保障了转鼓壁厚均匀度，之后对外表面进行粗抛光，将外表面因片碱腐蚀产生的蜂窝状腐蚀物及氧化物除去，呈现出金属光泽。按相应重量比例配制精抛光液，并对外表面进行精抛光，使得外表面达到要求的表面粗糙度，确保了片碱外形质量和产能，延长转鼓的使用周期，降低生产成本，降低生产安全隐患。同时精抛光液采用水相溶剂，相比于油性溶剂更加环保，具有环境友好性。通过向精抛光液中加入对香豆酸乙酯与桉脂素作为助剂，进一步提高了磨粒在抛光液中的分散性和稳定性，提高了抛光效率，使得外表面粗糙度远低于所要求的值，既能保证片碱的纯度，又能防止刮刀的刀刃与转鼓外表面之间过度接触造成转鼓外表面大面积划伤以及刀具损坏，有效降低了转鼓外表面和刮刀的维修及更换频率，也节约了检修成本。本申请配制的精抛光液还可用于不锈钢、铜、镍等金属表面的抛光。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请一实施例提供的碳钢转鼓外表面处理方法的工艺流程图。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，也属于本申请保护的范围。

图1为本申请一实施例提供的碳钢转鼓外表面处理方法的工艺流程图，如图1所示，该方法包括：

S101、碳钢转鼓外表面的清洁及堆焊：对碳钢转鼓外表面的污物进行清洁，以及对缺陷位置进行堆焊。

具体地，将碳钢转鼓外表面附着的污物进行清洁，检查外表面是否有凹陷及缺失处，对凹陷及缺失处采用堆焊进行焊接，堆焊按镍焊工艺标准执行，以达到保障转鼓壁厚均匀度，消除转鼓壁厚不均匀度潜在的热应力变化，以便提高转鼓的使用寿命。

S102、外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光。

具体地，使用市售的适合碳钢表面的粗抛光液对外表面进行粗抛光，使得外表面呈现出金属光泽，粗抛光后转鼓壁厚为12-18mm。

S103、配制精抛光液。精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒15-25重量份；

光亮剂5-8重量份；

分散剂5-10重量份；

缓蚀剂0.2-0.6重量份；

助剂1-3重量份；

去离子水80-120重量份。

S104、外表面精抛：使用精抛光液对外表面进行机械精抛光。

具体地，将转鼓按相配位置装配于加工工装，使用配制的精抛光液对外表面进行机械精抛光，直至达到需要的表面粗糙度，同时能除去外表面的纹路，如擦伤和划痕。精抛光后转鼓壁厚减少1-2mm。

S105、外表面检验：对外表面光洁度、粗糙度及壁厚进行检查。

具体地，对转鼓整体进行检查，进行压力试验，压力为0.2MPa，确保焊缝完整无泄漏，检查外圆跳动≤0.15mm，表面粗糙度≤3.2μm。

可选的，磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为3-7:3-5:1-3:1-2。

具体地，以碳化硅和金刚石为主要磨粒成分，添加核桃砂和二氧化硅，利用不同硬度颗粒间相互协作的效果，能够平衡碳化硅和金刚石的硬度，使得磨粒整体硬度适中，既保证达到抛光效果，又不损伤转鼓外表面。

可选的，碳化硅和金刚石的粒径为20-30nm，核桃砂和二氧化硅的粒径为0.1-300μm。

具体地，采用此范围内粒径的摩擦颗粒进行抛光后的转鼓外表面光泽度较高，抛光过程中不易对转鼓外表面形成划伤。

可选的，光亮剂为水杨酸、磺基水杨酸、乙基水杨酸、炔醇中的至少一种。

具体地，所采用的光亮剂具有一定的酸性，与转鼓外表面的氧化物及腐蚀物反应，并将其溶解，使得抛光过程中转鼓外表面的腐蚀物及氧化物更易去除，呈现出金属光泽，提高抛光效率。

可选的，分散剂为聚乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚及丙三醇中的至少一种。

具体地，采用聚乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚和丙三醇作为分散剂，不易吸附于转鼓外表面，方便清洗，而且性质稳定，具有较高的表面活性，能够提高磨粒的分散性和稳定性，缓解团聚现象。

可选的，缓蚀剂为苯并三氮唑。

具体地，加入一定重量份的苯并三氮唑能够防止或缓解抛光过程中精抛光液中其它组分对外表面的腐蚀，提高精抛光效果。

可选的，助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为0.5-4:1。

具体地，纳米磨粒具有很高的比表面积，容易发生团聚现象，团聚颗粒在抛光过程中容易脱离抛光面，会加剧外表面的划伤。纳米金刚石粒子表面具有丰富的含氧基团，二氧化硅粒子表面含有多个羟基官能团，对香豆酸乙酯和桉脂素的加入不仅能够与纳米磨粒表面的官能团相互作用，削弱纳米粒子间的表面能，同时与分散剂分子间相互作用，使得纳米磨粒不易在精抛光液中发生团聚，进一步提高磨粒在抛光过程中的分散性和稳定性，提高抛光效率，使得外表面粗糙度远低于所要求的值，既能保证片碱的纯度，又能防止刮刀的刀刃与转鼓外表面之间过度接触造成转鼓外表面大面积划伤以及刀具损坏，有效降低了转鼓外表面和刮刀的维修及更换频率，也节约了检修成本。

可选的，精抛光液的配制过程包括：

按重量份计，将磨粒15-25重量份，光亮剂5-8重量份，分散剂5-10重量份，缓蚀剂0.2-0.6重量份，助剂1-3重量份依次加入到80-120重量份的去离子水中，然后超声搅拌1-1.5小时，得到精抛光液。

可选的，外表面精抛还包括后处理，后处理步骤为：机械精抛光完成后，使用去离子水对外表面进行清洗。

具体地，在使用精抛光液抛光后，外表面会附着少量的精抛光液，若不进行清洗会在片碱生产过程中随刮刀的剥落转移到片碱成品中，影响片碱的质量，所以需要清洗。因为精抛光液为水相溶剂，所以用水进行冲洗即可。

可选的，粗抛时的抛光压力为2-12MPa，转速为7-8r/min，精抛时的抛光压力为2-12MPa，转速为9-10r/min。

具体地，抛光时需要对抛光面施加一定压力，使得外表面腐蚀物及氧化物更易去除，所以控制抛光压力在一定范围内，防止压力过大导致对外表面造成损伤，或压力过小达不到抛光效果。精抛转速大于粗抛转速，是因为粗抛对外表面粗糙度的精度要求不高，且粗抛时外表面凹凸不平，转速大容易损伤设备，精抛时外表面本身光洁度较好，不易损伤设备，转速快能够得到很好的光洁度和粗糙度。

下面以具体的实施例对本申请的技术方案进行详细举例说明。

实施例1

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，包括以下步骤：

碳钢转鼓外表面的清洁及堆焊：将碳钢转鼓外表面附着的污物进行清洁，检查外表面是否有凹陷及缺失处，对凹陷及缺失处采用堆焊进行焊接，堆焊按镍焊工艺标准执行，以达到保障转鼓壁厚均匀度，消除转鼓壁厚不均匀度潜在的热应力变化，以便提高转鼓的使用寿命。

外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光，粗抛时的抛光压力为2MPa，转速为7r/min，使用市售的适合碳钢表面的粗抛光液，粗抛光后转鼓壁厚为12-18mm。

按照合适的重量比例配制精抛光液。精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒15重量份，磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为3:3:1:1；

光亮剂5重量份，光亮剂为水杨酸；

分散剂5重量份，分散剂为脂肪醇聚氧乙烯醚；

缓蚀剂0.2重量份，缓蚀剂为苯并三氮唑；

助剂1重量份，助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为0.5:1；

去离子水80重量份。

外表面精抛：将转鼓按相配位置装配于加工工装，使用精抛光液对外表面进行机械精抛光，精抛时的抛光压力为2MPa，转速为9r/min，精抛光后转鼓壁厚减少1-2mm。

外表面检验：对外表面光洁度、粗糙度及壁厚进行检查。对处理好的外表面进行压力试验，压力为0.2MPa，确保焊缝无泄漏，检查外圆跳动≤0.15mm，表面粗糙度≤3.2μm。

实施例2

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，与实施例1的不同之处仅在于：

外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光，粗抛时的抛光压力为5MPa，转速为7.5r/min，使用市售的适合碳钢表面的粗抛光液，粗抛光后转鼓壁厚为12-18mm。

按照合适的重量比例配制精抛光液。精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒20重量份，磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为4:4:2:1；

光亮剂6重量份，光亮剂为水杨酸和磺基水杨酸，水杨酸和磺基水杨酸的重量比为0.5:1；

分散剂7重量份，分散剂为聚乙二醇和脂肪醇聚氧乙烯醚，聚乙二醇和脂肪醇聚氧乙烯醚的重量比为1:2；

缓蚀剂0.4重量份，缓蚀剂为苯并三氮唑；

助剂2重量份，助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为1:1；

去离子水90重量份。

外表面精抛：将转鼓按相配位置装配于加工工装，使用精抛光液对外表面进行机械精抛光，精抛时的抛光压力为6MPa，转速为9r/min，精抛光后转鼓壁厚减少1-2mm。

实施例3

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，与实施例1的不同之处仅在于：

外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光，粗抛时的抛光压力为8MPa，转速为8r/min，使用市售的适合碳钢表面的粗抛光液，粗抛光后转鼓壁厚为12-18mm。

按照合适的重量比例配制精抛光液。精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒25重量份，磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为6:5:3:2；

光亮剂7重量份，光亮剂为水杨酸和炔醇，水杨酸和炔醇的重量比为2:1；

分散剂9重量份，分散剂为脂肪醇聚氧乙烯醚和丙三醇，脂肪醇聚氧乙烯醚和丙三醇的重量比为3:2；

缓蚀剂0.5重量份，缓蚀剂为苯并三氮唑；

助剂3重量份，助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为2:1；

去离子水100重量份。

外表面精抛：将转鼓相配位置装配于加工工装，使用配制的精抛光液对外表面进行机械精抛光，精抛时的抛光压力为8MPa，转速为9.5r/min，精抛光后转鼓壁厚减少1-2mm。

实施例4

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，与实施例1的不同之处仅在于：

外表面粗抛：使用粗抛光液对外表面进行机械粗抛光，粗抛时的抛光压力为12MPa，转速为8r/min，使用市售的适合碳钢表面的粗抛光液，粗抛光后转鼓壁厚为12-18mm。

按照合适的重量比例配制精抛光液。精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒25重量份，磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为7:5:3:2；

光亮剂8重量份，光亮剂为磺基水杨酸、乙基水杨酸和炔醇，磺基水杨酸、乙基水杨酸和炔醇的重量比为1:2:1；

分散剂10重量份，分散剂为聚乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚和丙三醇，聚乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚和丙三醇的重量比为2:1:3；

缓蚀剂：0.6重量份，缓蚀剂为苯并三氮唑；

助剂：3重量份，助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为4:1；

去离子水：120重量份。

外表面精抛：将转鼓按相配位置装配于加工工装，使用精抛光液对外表面进行机械精抛光，精抛时的抛光压力为12MPa，转速为10r/min，精抛光后转鼓壁厚减少1-2mm。

对比例1

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，与实施例4的不同之处仅在于：精抛光液中不加入助剂。

对比例2

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，与实施例4的不同之处仅在于：精抛光液中助剂3重量份，助剂为对香豆酸乙酯。

对比例3

一种碳钢转鼓外表面的处理方法，与实施例4的不同之处仅在于：精抛光液助剂3重量份，助剂为桉脂素。

实验例1

实验方法：对通过使用实施例1至实施例4与对比例1至对比例3的方法处理的碳钢转鼓外表面的平均粗糙度，以及使用处理后的转鼓生产的片碱外形直径进行检测，片碱外形直径要求在10-15mm范围内。每个实验例均设有3个平行实验，并取平均值，将测试结果进行对比，得到如表一所示结果。

表一

	平均粗糙度/μm	转鼓使用周期延长/月	片碱外形直径
				实施例1	1.6	9.5	合格
实施例2	1.8	10	合格
				实施例3	1.5	11.5	合格
实施例4	1.2	11	合格
				对比例1	3.2	6	合格
对比例2	3.0	6.8	合格
				对比例3	3.1	7	合格

由表一可知，相比于对比例1至对比例3，实施例1至实施例4中的转鼓外表面的粗糙度更小，抛光效率更高，虽然抛光后都使得转鼓使用周期得以延长，且片碱外形质量均合格，但实施例1至实施例4中的转鼓使用周期远比对比例1至对比例3的长。在实际工况下，一台新转鼓采购费用达32万以上，修复一台转鼓外表面费用为6万元以上，直接产生经济效益约26万元，所以，采用实施例1至实施例4的处理方法使得转鼓使用周期更长，能为生产带来更大的经济效益，大大降低生产成本。未处理的被腐蚀转鼓使用过程中所产片碱外形较碎，直径≤5mm，远达不到片碱生产工艺要求，处理后的转鼓保证了片碱的生产质量和产能，同时改善了现场作业环境，减少了碱尘对作业人员的伤害。

对比例3和对比例2相比于实施例1至实施例4只加入了一种助剂，但效果均有所降低，说明香豆酸乙酯与桉脂素两者在精抛光液中存在协同作用。对香豆酸乙酯和桉脂素的加入能够与纳米磨粒表面的官能团相互作用，削弱纳米粒子间的表面能，同时与分散剂分子间相互作用，使得纳米磨粒不易在精抛光液中发生团聚，进一步提高磨粒在抛光过程中的分散性和稳定性，使得磨粒在抛光过程中连续稳定发挥作用，提高抛光效率，使得外表面粗糙度远低于所要求的值，进而解决了现有结片机存在的片碱与转鼓外表面因腐蚀粘结太紧，导致片碱难刮、碱尘大、设备寿命低等问题。利用本申请的方法进行外表面处理后的碳钢转鼓具有生产稳定、确保片碱外形直径附和工艺要求且均匀、生产现场粉尘少、设备使用寿命长等优点。

最后应说明的是，以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解；其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。

Claims (6)

1.一种碳钢转鼓外表面的处理方法，其特征在于，包括：

S101、碳钢转鼓外表面的清洁及堆焊：对所述碳钢转鼓外表面的污物进行清洁，以及对缺陷位置进行堆焊；

S102、外表面粗抛：使用粗抛光液对所述外表面进行机械粗抛光，粗抛后的转鼓壁厚为12-18mm；

S103、配制精抛光液；

S104、外表面精抛：使用所述精抛光液对所述外表面进行机械精抛光，精抛后的转鼓壁厚减少1-2mm；

S105、外表面检验：对所述外表面光洁度、粗糙度及壁厚进行检查，所述外表面粗糙度≤3.2μm；

所述精抛光液包括如下重量份的组分：

磨粒15-25重量份；

光亮剂5-8重量份；

分散剂5-10重量份；

缓蚀剂0.2-0.6重量份；

助剂1-3重量份；

去离子水80-120重量份；

所述磨粒包括碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅，所述碳化硅、金刚石、核桃砂和二氧化硅的重量比为3-7:3-5:1-3:1-2，所述碳化硅和金刚石的粒径为20-30nm，所述核桃砂和二氧化硅的粒径为0.1-300μm；

所述分散剂为聚乙二醇、脂肪醇聚氧乙烯醚及丙三醇中的至少一种；所述助剂为对香豆酸乙酯与桉脂素，所述对香豆酸乙酯与桉脂素的重量比为0.5-4:1。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光亮剂为水杨酸、磺基水杨酸、乙基水杨酸、炔醇中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述缓蚀剂为苯并三氮唑。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述精抛光液的配制过程包括：

按重量份计，将磨粒15-25重量份，光亮剂5-8重量份，分散剂5-10重量份，缓蚀剂0.2-0.6重量份，助剂1-3重量份依次加入到80-120重量份的去离子水中，然后超声搅拌1-1.5小时，得到所述精抛光液。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述外表面精抛还包括后处理，所述后处理步骤为：机械精抛光完成后，使用去离子水对所述外表面进行清洗。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述粗抛时的抛光压力为2-12MPa，转速为7-8r/min，所述精抛时的抛光压力为2-12MPa，转速为9-10r/min。

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