CN114325894B - 一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及微纳器件制备技术领域，特别涉及一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备。所述方法包括：获取柔性衬底；对所述柔性衬底进行预处理；在预处理后的所述柔性衬底上设置微透镜打印材料；将所述微透镜材料按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印，得到柔性微透镜阵列。该微透镜阵列的制备方法，使用增材制造的方法实现了微透镜阵列在柔性基底上的大面阵制造。所得到的微透镜阵列具有低像差、高透光、结构稳定性好的特点。此外，对柔性衬底进行预处理，使柔性衬底具备良好的定型能力与贴敷性，利于实现柱面弯曲或球面弯曲，方便微透镜阵列的广角成像。

Description

一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备

技术领域

本发明涉及微纳器件制备技术领域，特别涉及一种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备。

背景技术

微透镜阵列是构成微光学系统的重要而又基本的光学元件，它是一系列孔径在几个微米至几百微米的微小型微透镜按一定排列组成的阵列。由于微透镜具有尺寸小便于大规模制造、传输损耗小、可制成阵列形式、有特殊功能等优点，因而广泛用于微光学系统中的微型元件、光学及神经网络计算、光学平行处理系统中的互连元件、宽场和红外成像系统中的元件、光学滤波和材料加工系统中的衍射元件以及用于抗反射和偏振态控制的亚波长光栅结构等等。

随着光学元件的小型化，也快速发展了大量的制作微透镜及其阵列的新方法，并且微透镜的尺寸也从毫米延伸到纳米尺度。确实如此，微透镜及其阵列的制造方法己经发展了好多年。例如，在17世纪的时候，英国科学家将一根细长的威尼斯玻璃棒的一端在火焰上加热使之熔化，那么在表面张力的作用下其端面就会呈现球冠状，并以此方法制作出了显微镜的镜头元件。从那以后，许多围绕电学、力学、化学以及光学相关的微透镜及其阵列的制作方法也大量涌现出来。

常见的微透镜制造方法有热回流法，翻模法，热回流法使用固液转变三相线角形成的熔融液滴作为微透镜，可根据体积、温度等参数对曲率半径进行调控，这种方法虽然适合于大面积制造，但是难以修正像差色差等微透镜缺陷；翻模法使用物理或化学刻蚀方法制作硬质模板，通过柔性材料对基底进行翻模，从而制造微透镜阵列；这种方法模板的加工方式有限，很难实现纳米级微透镜表面形貌加工。

发明内容

本发明种微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备，以实现微透镜阵列在柔性基底上的大面阵制造。

为解决上述技术问题，第一方面，本申请实施例公开了一种柔性微透镜阵列的制备方法，所述方法包括：

获取柔性衬底；

对所述柔性衬底进行预处理；

在预处理后的所述柔性衬底上设置微透镜打印材料；

将所述微透镜材料按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印，得到柔性微透镜阵列。

进一步的，所述获取柔性衬底，包括：

获取支撑衬底；

在所述支撑衬底上设置聚二甲基硅氧烷溶液；

将所述聚二甲基硅氧烷溶液在真空环境和预设温度下固化成聚二甲基硅氧烷薄膜；

对所述聚二甲基硅氧烷薄膜进行处理得到所述柔性衬底。

进一步的，所述对所述柔性衬底进行预处理，包括：

对所述柔性衬底进行弛豫处理；

对弛豫处理后的所述柔性衬底进行预溶胀处理；

对预溶胀处理后的所述柔性衬底进行等离子体处理。

进一步的，所述将所述微透镜材料按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印，得到柔性微透镜阵列，包括：

将所述微透镜材料自起始位置按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印；所述起始位置为所述微透镜材料与所述柔性衬底的结合界面；

在所述柔性衬底上打印预设数量的所述预设微透镜结构，所述预设数量的所述预设微透镜结构在所述柔性衬底上按照预设阵列结构排列得到柔性微透镜阵列。

进一步的，所述预设微透镜结构包括定焦支架、第一微透镜和第二微透镜；

所述定焦支架的一端设置在所述柔性衬底上；

所述第一微透镜设置在所述柔性衬底的上方，所述第一微透镜固定在所述定焦支架上；

所述第二微透镜设置在所述第一微透镜的上方，所述第二微透镜固定在所述定焦支架上；

所述第一微透镜和所述第二微透镜之间具有预设间距。

进一步的，所述预设间距为15μm-20μm。

进一步的，所述第一微透镜和/或所述第二微透镜的尺寸为10μm-100μm。

进一步的，所述预设数量为100-10000。

第二方面，本申请实施例公开了一种柔性微透镜阵列，所述柔性微透镜阵列通过如上所述的柔性微透镜阵列的制备方法制备得到。

第三方面，本申请实施例公开了一种微光学系统，所述微光学系统包括如上所述的柔性微透镜阵列。

第四方面，本申请实施例公开了一种电子设备，所述电子设备包括如上所述的微光学系统。

采用上述技术方案，本申请实施例所述的微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备具有如下有益效果：

该微透镜阵列的制备方法，使用增材制造的方法实现了微透镜阵列在柔性基底上的大面阵制造。所得到的微透镜阵列具有低像差、高透光、结构稳定性好的特点。此外，对柔性衬底进行预处理，使柔性衬底具备良好的定型能力与贴敷性，利于实现柱面弯曲或球面弯曲，方便微透镜阵列的广角成像。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本申请实施例提供的一种柔性微透镜阵列的制备方法的流程示意图；

图2是本申请实施例提供的一种柔性衬底的制备方法流程示意图；

图3是本申请实施例提供的一种预设微透镜结构示意图；

图4是本申请实施例提供的一种预设微透镜结构的调制传递函数(MTF)以及F-Tan畸变变化示意图；

图5是本申请实施例提供的一种定焦支架结构示意图；

图6是本申请实施例提供的另一种定焦支架结构示意图；

图7是本申请实施例提供的一种定焦支架结构示意图；

图8是本申请实施例提供的一种微透镜阵列结构的评价对比图；

图9是本申请实施例提供的一种在柔性衬底上制备微透镜阵列的结构示意图；

图10是本申请实施例提供的一种在柔性微透镜阵列的局部结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

此处所称的“一个实施例”或“实施例”是指可包含于本申请至少一个实现方式中的特定特征、结构或特性。在本申请的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含的包括一个或者更多个该特征。而且，术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。

曲面微透镜阵列的制造方法始终是业界难点，很难同时保证曲面的形状精度与微透镜的光学性质，本申请实施例中提供了一种基于增材打印的柔性微透镜阵列制造方法，能够实现制备得到的微透镜阵列曲面曲率半径的准确性和微透镜低像差的光学特性。

图1是本申请实施例提供的一种柔性微透镜阵列的制备方法的流程示意图，如图1所示，该方法包括：

S101：获取柔性衬底。

本申请实施例中，在制备柔性微透镜阵列时，首先选择合适的柔性衬底。可选的，柔性衬底可以是聚二甲基硅氧烷(PDMS)衬底或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)衬底。柔性衬底可以直接从市面上获取，或者是自行制备得到。优选的，为了使得柔性衬底的机械性能和透光性能满足使用需求，且物理化学特性能够与后续的微透镜制备过程所兼容，所采用的柔性衬底需要特殊制备工艺制备。

作为一种可选的实施方式，柔性衬底为PDMS柔性衬底。PDMS柔性衬底采用特殊的制备方法制备得到。图2是本申请实施例提供的一种柔性衬底的制备方法流程示意图，如图2所示，获取柔性衬底可以包括以下步骤：

S201：获取支撑衬底。

本申请实施例中，支撑衬底用于支撑柔性衬底的制备材料，使柔性衬底能够在支撑衬底上成型。可选的，支撑衬底可以为硅片、碳化硅片、氮化硅片、玻璃片等。

S203：在支撑衬底上设置聚二甲基硅氧烷溶液。

本申请实施例中，在支撑衬底上设置聚二甲基硅氧烷溶液，以使聚二甲基硅氧烷溶液在支撑衬底上凝固成型。可选的，聚二甲基硅氧烷溶液是由聚二甲基硅氧烷(双3-氨丙基封端)和八甲基环四硅氧烷按照预设质量比配置而成。可选的，预设质量比为10：1-15：1。为了得到透光性更好、更柔软的聚二甲基硅氧烷薄膜，可以降低固化剂即八甲基环四硅氧烷的比例，例如，聚二甲基硅氧烷和八甲基环四硅氧烷的质量比为11.5：1。

在一些实施例中，在支撑衬底上设置聚二甲基硅氧烷溶液之前还可以对支撑衬底进行处理，使固化成型后的聚二甲基硅氧烷薄膜易于与支撑衬底分离。作为一种示例，选取硅片作为支撑衬底，采用三氯硅烷对硅片进行处理。由于聚二甲基硅氧烷表面的硅-氧基团与硅片表面的硅悬键具有较强的亲和作用，故对硅片上表面进行三氯硅烷处理可以降低聚二甲基硅氧烷与硅片的亲和性，便于聚二甲基硅氧烷固化后从硅片上分离下来。本申请实施例中采用旋涂的方式将聚二甲基硅氧烷溶液设置在支撑衬底上。可选的，旋涂聚二甲基硅氧烷溶液的速率为100rpm-1000rpm，旋涂时长为5s-200s。

S205：将聚二甲基硅氧烷溶液在真空环境和预设温度下固化成聚二甲基硅氧烷薄膜。

本申请实施例中，将设置有聚二甲基硅氧烷溶液的支撑衬底防止在真空设备中，经过抽真空、并静置去除溶液中的气泡后在预设温度下固化成膜，即得到聚二甲基硅氧烷薄膜。可选的，预设温度为50℃-100℃，优选为70℃。可选的，聚二甲基硅氧烷薄膜得厚度可以是100μm-300μm。作为一种示例，在旋涂聚二甲基硅氧烷溶液的速率为550rpm，旋涂时长为30s的情况下，通过上述步骤所得到的聚二甲基硅氧烷薄膜的厚度为200μm左右。

S207：对聚二甲基硅氧烷薄膜进行处理得到柔性衬底。

本申请实施例中，将得到的聚二甲基硅氧烷薄膜裁剪为预设尺寸，得到柔性衬底。柔性衬底的尺寸与所要制备的微透镜阵列数量和单个微透镜的尺寸相关，作为一种示例，如果所要制备的微透镜阵列数量为815个，微透镜的尺寸为50μm，则柔性衬底的尺寸可以是25mm×25mm。

S103：对柔性衬底进行预处理。

本申请实施例中，为了保证微透镜的成型质量，在柔性衬底上制备微透镜阵列之前，需要对柔性衬底进行预处理。具体的，对柔性衬底进行预处理可以包括：对柔性衬底进行弛豫处理。然后对弛豫处理后的柔性衬底进行预溶胀处理。最后对预溶胀处理后的柔性衬底进行等离子体处理。

作为一种可选的实施方式，在柔性衬底上打印微透镜阵列之前，需要将柔性衬底放置在恒温恒湿箱中进行充分弛豫，释放应力。然后将柔性衬底先放置在异丙醇中预设时长，接着将柔性衬底放置在丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)中预设时长进行预溶胀变形处理，以免在后续显影过程中，柔性衬底溶胀变形造成微透镜周期间距改变。可选的，放置在异丙醇和PGMEA中的预设时长均为20min。在一些实施例中，为提高微透镜在PDMS柔性衬底上的粘附性和结构稳定性，在柔性衬底上打印微透镜阵列之前，还可以对PDMS柔性衬底进行等离子体表面处理。可选的，所采用的等离子体表面处理为氧等离子体的表面处理。

S105：在预处理后的柔性衬底上设置微透镜打印材料。

本申请实施例中，选择IP-DIP光固化树脂作为微透镜打印材料。在预处理后的柔性衬底上设置微透镜打印材料，可以是将一滴IP-DIP光固化树脂滴加到预处理后的柔性衬底的中央区域，然后静置预设时长以消除光固化树脂内残留的气泡。滴加光固化树脂的量可根据所要打印微透镜阵列的数量灵活调整。一般来说，滴加一滴光固化树脂的量约2ml左右。可选的，静置预设时长为5min-10min。

S107：将微透镜材料按照预设微透镜结构在柔性衬底上进行增材打印，得到柔性微透镜阵列。

本申请实施例中，在柔性衬底上制备微透镜阵列所采用的方法为增材打印，具体的，为双光子聚合打印。双光子聚合打印精度高，而且基于高精度双光子聚合的制造特点，制备得到微透镜阵列具有低像差、高透光、结构稳定性好的特点。在进行双光子聚合打印时，先将设置有微透镜打印材料的柔性衬底装入夹具固定，然后再进行微透镜阵列结构的双光子聚合打印。

本申请实施例中，将微透镜材料按照预设微透镜结构在柔性衬底上进行增材打印，得到柔性微透镜阵列具体为：将微透镜材料自起始位置按照预设微透镜结构在柔性衬底上进行增材打印。起始位置为微透镜材料与柔性衬底的结合界面。在柔性衬底上打印预设数量的预设微透镜结构，预设数量的预设微透镜结构在柔性衬底上按照预设阵列结构排列得到柔性微透镜阵列。微透镜的预设数量可以是100-10000，微透镜的尺寸可以为10μm-100μm。预设数量的微透镜可以按照预设图形在柔细衬底上排列，例如圆形阵列、方形阵列等。

本申请实施例中，合理的微透镜阵列结构设计是保证微透镜阵列光学性能的前提。本申请实施例利用几何光学仿真软件对微透镜阵列的结构进行了设计。图3是本申请实施例提供的一种预设微透镜结构示意图，如图3所示，预设微透镜结构为三层结构，自下而上分别是柔性衬底和第一微透镜、第二微透镜。采用IP-DIP光固化树脂作为微透镜打印材料，光固化树脂聚合后折射率为1.515(对应波长为589nm)。经过设计，微透镜能够将入射光很好的汇聚在底部柔性衬底的底面上。图4是本申请实施例提供的一种预设微透镜结构的调制传递函数(MTF)以及F-Tan畸变变化示意图，如图4所示，该微透镜结构能够实现在透镜的视场角范围内具有稳定的光学特性和有限的成像畸变。

本申请实施例中，第一微透镜和第二微透镜通过定焦支架固定在柔性衬底上，即定焦支架的一端固定在柔性衬底上，第一微透镜设置在柔性衬底的上方，第一微透镜固定在定焦支架上。第二微透镜设置在第一微透镜的上方，第二微透镜固定在定焦支架上。第一微透镜和第二微透镜之间具有预设间距。可选的，预设间距为15μm-20μm。定焦支架与微透镜均采用双光子聚合打印的方式一体成型在柔性衬底上。图5是本申请实施例提供的一种定焦支架结构示意图，如图5所示，该微透镜阵列结构采用圆形的定焦支架结构和圆形的微透镜结构。图6是本申请实施例提供的另一种定焦支架结构示意图，如图6所示，该微透镜阵列结构采用六边形的定焦支架结构和六边形的微透镜结构。图7是本申请实施例提供的一种定焦支架结构示意图，如图7所示，该微透镜阵列结构采用六边形的定焦支架结构和圆形微透镜结构。图8是本申请实施例提供的一种微透镜阵列结构的评价对比图，图中示出了分别采用图5-图7所示的三种定焦支架结构制备微透镜阵列结构的评价比对。如图8所示，通过对图5-图7所示出的三种定焦支架形式的填充因子、阵列密度和制造速度进行了比较，从图中可以看出图7所示的微透镜阵列结构的填充因子、阵列密度和制造速度均高于其他两种微透镜阵列结构。

本申请实施例中，可采用图7所示的微透镜阵列结构在柔性衬底上进行增材打印，具体的，通过3ds Max建模将微透镜和支架结构集成到一起并构建蜂窝状阵列，形成可供制造打印的三维STL模型，然后按照该三维STL模型通过双光子聚合打印的方式在柔性衬底上制备微透镜阵列。

作为一种可选的实施方式，图9是本申请实施例提供的一种在柔性衬底上制备微透镜阵列的结构示意图，如图9所示，将预设倍数的镜头缓慢伸入光固化树脂内，并逐渐接近光固化树脂-PDMS界面。可选的，所选用的镜头为63x镜头。根据材料的折射率差准确找到光固化树脂-PDMS界面后，确定Z轴位置，该过程中需要排除空气-光固化树脂界面、PDMS-空气界面干扰。然后以Z轴位置以下100nm-500nm处为打印起始位置，以确保打印结构和基底的结合强度。优选的，打印起始位置为Z轴位置以下300nm处。选取合适的聚合强度和线扫速度，按照设计的微透镜阵列模型进行扫描打印。打印结束后，取下聚合有微透镜阵列的柔性衬底，将柔性衬底整片浸没再PGMEA中静置20分钟，未被聚合的光固化树脂将被溶解，固化后的结构将留下。然后取出柔性衬底并整片浸没在异丙醇(IPA)中，清洗残留的光固化树脂以及PGMEA，轻微震荡持续5分钟。然后用气枪吹干柔性衬底，即可得到柔性衬底上得到柔性微透镜阵列。

本申请实施例所述的柔性微透镜阵列的制备方法，利用几何光学仿真设计低像差微透镜，通过三维建模为微透镜添加定焦支架并集成为可打印模型，依托于高精度双光子打印技术将所设计微透镜直接制造在特制PDMS透明柔性衬底上。制作好的柔性微透镜阵列具备良好的机械性能和光学性能，任意角度弯曲均不影响微透镜阵列的成像特性，将柔性微透镜阵列施加固定曲率弯曲后可以实现0°-180°广角成像，在图像拼接、仿生复眼成像等领域具备极大的应用潜力。

本申请实施例还提供了一种柔性微透镜阵列，柔性微透镜阵列通过如上所述的柔性微透镜阵列的制备方法制备得到。

图10是本申请实施例提供的一种在柔性微透镜阵列的局部结构示意图，如图10所示，本实施实例所述柔性微透镜阵列，可实现可调广角成像。通过上述方法所制备的柔性微透镜阵列可以实现在0-180°范围内的广角低像差成像。基于微透镜的几何光学设计和双光子聚合技术能够保证微透镜的均一性以及像差修正。此外，定制化的PDMS柔性衬底能够实现大角度范围内的曲率半径调整，使柔性微透镜阵列具备良好的定型能力与贴敷性该柔性微透镜阵列通过与不同的夹具贴合可以轻松实现不同曲率半径弯曲，以满足不同参数仿生视觉算法的相关应用。

本申请实施例还提供了一种微光学系统，微光学系统包括如上所述的柔性微透镜阵列。

本申请实施例中，柔性微透镜阵列可以与其他光学器件或成像器件进行组合构成微光学系统。作为一种示例，柔性微透镜阵列可以集成到图像传感器上，如CMOS像元上。具体的，柔性微透镜阵列与CMOS像元集成时，在CMOS像元上滴加两滴异丙醇，然后将柔性微透镜阵列贴在异丙醇液面上，等待异丙醇挥发后柔性微透镜阵列就可以和CMOS像元紧密贴合。异丙醇能够湿润CMOS像元，以免柔性微透镜阵列与CMOS像元贴合时，对CMOS像元造成损伤。当柔性微透镜阵列需要从CMOS像元上取下时，先延柔性微透镜阵列的边沿滴加异丙醇，充分湿润后整个柔性微透镜阵列就可以拖动取下。通过上述方式，能够实现柔性微透镜阵列与CMOS像元贴合紧密且方便分离拆卸。

本申请实施例还提供了一种电子设备，电子设备包括如上所述的微光学系统。

本申请实施例中，电子设备可以是全息摄影、广角成像、安防监控和激光雷达等领域所常用的成像设备。电子设备包括含有柔性微透镜阵列的微光学系统，能够实现大视场范围内对同一目标的实时成像将衍生出图像拼接、距离/角度定位等算法，通过上述柔性微透镜阵列可以结合曲面CCD构建复眼成像系统，可以实现三维空间定位、目标追踪等功能。

本申请实施例所述的微透镜阵列的制备方法、微透镜阵列、系统及设备具有如下优点：

本申请实施例创新型性的提出了基于双光子聚合技术的柔性微透镜阵列制备方法，使用增材制造的方法首次实现了微透镜阵列在柔性基底上的大面阵制造，能够实现同时保证曲面曲率半径的准确性和透镜低像差的光学特性。基于高精度双光子聚合的制造特点，微透镜阵列具有低像差、高透光、结构稳定性好的特点。而且特制的PDMS柔性衬底具备良好的定型能力与贴敷性，利于实现柱面弯曲或球面弯曲，方便微透镜阵列的广角成像。此外，通过光学设计很好的控制了柔性微透镜阵列的像差，所制造的柔性微透镜阵列可以实现多种曲率和形式的成像像元。

以上所述仅为本申请的较佳实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种柔性微透镜阵列的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

获取柔性衬底；

对所述柔性衬底进行预处理；

在预处理后的所述柔性衬底上设置微透镜打印材料；

将所述微透镜打印材料按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印；

打印结束后，将聚合有预设微透镜结构的柔性衬底浸没在丙二醇甲醚醋酸酯中以溶解未被聚合的微透镜打印材料；

清洗残留的微透镜打印材料以及丙二醇甲醚醋酸酯，对聚合有预设微透镜结构的柔性衬底进行干燥，得到柔性衬底上得到柔性微透镜阵列；

所述对所述柔性衬底进行预处理，包括：

对所述柔性衬底放置在恒温恒湿箱中进行弛豫处理；

将弛豫处理后的所述柔性衬底放置在丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)中预设时长进行预溶胀处理；

对预溶胀处理后的所述柔性衬底进行等离子体处理。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述获取柔性衬底，包括：

获取支撑衬底；

在所述支撑衬底上设置聚二甲基硅氧烷溶液；

将所述聚二甲基硅氧烷溶液在真空环境和预设温度下固化成聚二甲基硅氧烷薄膜；

对所述聚二甲基硅氧烷薄膜进行处理得到所述柔性衬底。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将所述微透镜打印材料按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印，得到柔性微透镜阵列，包括：

将所述微透镜打印材料自起始位置按照预设微透镜结构在所述柔性衬底上进行增材打印；所述起始位置为所述微透镜打印材料与所述柔性衬底的结合界面；

在所述柔性衬底上打印预设数量的所述预设微透镜结构，所述预设数量的所述预设微透镜结构在所述柔性衬底上按照预设阵列结构排列得到柔性微透镜阵列。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述预设微透镜结构包括定焦支架、第一微透镜和第二微透镜；

所述定焦支架的一端设置在所述柔性衬底上；

所述第一微透镜设置在所述柔性衬底的上方，所述第一微透镜固定在所述定焦支架上；

所述第二微透镜设置在所述第一微透镜的上方，所述第二微透镜固定在所述定焦支架上；

所述第一微透镜和所述第二微透镜之间具有预设间距。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述预设间距为15μm-20μm。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述第一微透镜和/或所述第二微透镜的尺寸为10μm-100μm。

7.根据权利要求3-6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述预设数量为100-10000。

8.一种柔性微透镜阵列，其特征在于，所述柔性微透镜阵列通过如权利要求1-7任一项所述的柔性微透镜阵列的制备方法制备得到。

9.一种微光学系统，其特征在于，所述微光学系统包括如权利要求8所述的柔性微透镜阵列。

10.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包括如权利要求9所述的微光学系统。

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