CN114317905A - 一种快速调节退火炉温度的方法 - Google Patents
一种快速调节退火炉温度的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114317905A CN114317905A CN202210040263.XA CN202210040263A CN114317905A CN 114317905 A CN114317905 A CN 114317905A CN 202210040263 A CN202210040263 A CN 202210040263A CN 114317905 A CN114317905 A CN 114317905A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- array
- annealing furnace
- power
- temperature
- heating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000137 annealing Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 47
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 claims abstract description 17
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims abstract description 16
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Control Of Resistance Heating (AREA)
- Waste-Gas Treatment And Other Accessory Devices For Furnaces (AREA)
Abstract
本发明涉及退火炉电加热系统技术领域，具体涉及一种快速调节退火炉温度的方法，是通过引入阵列控制的方式对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，对每个加热回路设置阵列开关，通过区阵列设置增量对本区并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制，达到退火炉温度的快速调整；本发明在遇到断板等紧急情况可以对退火炉温度快速调整，通过引入阵列控制的方式实现了对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，极大的简化了操作流程，提高了工作效率，实现了对退火炉温度的快速调整。并且本发明对功率的控制采用增减值的方式，较之前直接逐个回路输入功率值的方式也大幅降低了误操作的概率。
Description
技术领域
本发明涉及退火炉电加热系统技术领域，特别的为一种快速调节退火炉温度的方法。
背景技术
退火是一种材料热处理工艺，指的是将材料缓慢加热到一定温度，保持足够时间，然后以适宜速度冷却。目的是降低硬度，改善切削加工性；降低残余应力，稳定尺寸，减少变形与裂纹倾向；细化晶粒，调整组织，消除组织缺陷。准确的说，退火是一种对材料的热处理工艺，包括金属材料、非金属材料。
退火是制造TFT-LCD玻璃基板过程中的重要工序，其直接影响着成品玻璃的应力、翘曲等品质，因此对退火炉温度的要求极为精确。在相关技术中，退火炉的温度调节通常通过电加热系统来实现，通过对几十甚至上百个电加热回路的精准控制实现对退火炉温度的精确调节。在现有技术中，退火炉每个电加热回路需单独控制，这在正常生产只需对退火炉温度进行小幅精确调整时可以满足控制需求，但在遇到断板等紧急情况需要对退火炉温度快速调整时则控制显得繁琐，无法实现对几十甚至上百个电加热回路的快速调整。
综上所述，研发一种快速调节退火炉温度的方法，仍是退火炉电加热系统技术领域中急需解决的关键问题。
发明内容
本发明提供的了一种快速调节退火炉温度的方法，本发明在遇到断板等紧急情况可以对退火炉温度快速调整，通过引入阵列控制的方式实现了对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，极大的简化了操作流程，提高了工作效率，进而实现了对退火炉温度的快速精确调节。
为实现以上目的，本发明通过以下技术方案予以实现：一种快速调节退火炉温度的方法，所述的调节方法是通过引入阵列控制的方式对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，对每个加热回路设置阵列开关，通过区阵列设置增量对本区并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制，达到退火炉温度的快速调整。
本发明进一步设置为：所述的阵列开关是对每个加热回路的阵列状态加以标记。
本发明进一步设置为：所述的标记包括并列和解列两种状态。
本发明进一步设置为：所述的阵列开关通过手动切换每个加热回路的阵列状态。
本发明进一步设置为：所述的阵列开关在并列状态下可以进行阵列控制，解列状态下不可以进行阵列控制。
本发明进一步设置为：所述的区阵列设置增量是对本区阵列控制的功率的增减值。
本发明进一步设置为：在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量大于本加热回路额定功率时，则本加热回路设定功率等于本加热回路额定功率。
本发明进一步设置为：在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量小于零时，则本加热回路设定功率等于零。
本发明进一步设置为：所述的区阵列控制是对退火炉某区域的所有并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制。
本发明进一步设置为：所述的加热回路数量可以是任意数值。
本发明提供了一种快速调节退火炉温度的方法。具备以下有益效果：
本发明在遇到断板等紧急情况可以对退火炉温度快速调整，通过引入阵列控制的方式实现了对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，极大的简化了操作流程，提高了工作效率，实现了对退火炉温度的快速调整。并且本发明对功率的控制采用增减值的方式，较之前直接逐个回路输入功率值的方式也大幅降低了误操作的概率。
附图说明
图1为本发明一种快速调节退火炉温度的方法的方框图；
图2为本发明实施例2的阵列控制界面图。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
下面结合实施例对本发明作进一步的描述。
实施例1：
参照图1所示(在实际应用中加热回路数量可以任意)，一种快速调节退火炉温度的方法，所述的调节方法是通过引入阵列控制的方式对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，对每个加热回路设置阵列开关，通过区阵列设置增量对本区并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制，达到退火炉温度的快速调整，其最大功率不超过本加热回路额定功率，最小功率不小于0，阵列控制对解列状态的加热回路不参与控制。
进一步的，阵列开关是对每个加热回路的阵列状态加以标记，其中，标记包括并列和解列两种状态。
进一步的，阵列开关通过手动切换每个加热回路的阵列状态，无论解列、并列状态都不影响原手动控制方式。
其中，阵列开关在并列状态下可以进行阵列控制，解列状态下不可以进行阵列控制。
进一步的，区阵列设置增量是对本区阵列控制的功率的增减值，需要说明的是，此值可以为正，也可以为负。
在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量大于本加热回路额定功率时，则本加热回路设定功率等于本加热回路额定功率；当原功率设定值和区阵列设置增量小于零时，则本加热回路设定功率等于零。
此外，区阵列控制是对退火炉某区域(如1区，2区)的所有并列状态下的加热回路(如1-1加热回路，1-2加热回路等)进行统一增减功率控制。
同时，加热回路数量可以是任意数值。
实施例2：
为了更好的对本发明进行说明，参照图2所示(两个加热回路控制模式为功率控制模式，在实际应用中也可以是电压、电流、温度等控制方式，但要求每区阵列控制方式一致)，退火炉1区电加热回路数量为19路，回路控制模式为功率控制；1区阵列设置增量为阵列操作的功率增减值，可以为正，也可以为负的任意整数值；执行阵列操作即1区所有并列状态下的电加热回路的功率设定值按1区阵列设置增量进行功率增减值操作。
在图2中，1-4加热回路为解列状态，其他回路为并列状态，1区阵列设置增量可以为正值或负值，由参数确认执行并列状态下加热回路的设定值增减操作，并同时清零1区阵列设置增量，下次操作时重新设定1区阵列设置增量。此阵列控制方法使整区域调整功率操作量变为原来十九分之一，极大简化了操作，实现了退火炉温度的快速调整。
以图2为例，其操作及控制步骤如下：
(1)确认本区加热回路阵列状态，如有不符单击阵列状态按钮切换。如图2中1-4回路为解列状态，其他18个回路为并列状态。
(2)设定1区阵列设置增量，即本次阵列操作的功率增减值，可以为正，也可以为负的任意整数值。
(3)单击参数确认按钮，弹出窗口进行二次确认防止误操作，二次确认后执行本次阵列操作同时清零1区阵列设置增量，本区并列状态下的加热回路功率设定值按1区阵列设置增量执行增减，增减后的功率设定值最大不超过本回路额定功率，最小不小于零。
(4)二次确认窗口有取消按钮，点取消按钮取消本次阵列操作，各回路功率设定值保持不变，同时清零1区阵列设置增量。
本发明在遇到断板等紧急情况可以对退火炉温度快速调整，通过引入阵列控制的方式实现了对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，极大的简化了操作流程，提高了工作效率，实现了对退火炉温度的快速调整。并且本发明对功率的控制采用增减值的方式，较之前直接逐个回路输入功率值的方式也大幅降低了误操作的概率。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不会使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (10)
1.一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的调节方法是通过引入阵列控制的方式对退火炉同一区域的几十个电加热回路功率的统一增减控制，对每个加热回路设置阵列开关，通过区阵列设置增量对本区并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制，达到退火炉温度的快速调整。
2.根据权利要求1所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的阵列开关是对每个加热回路的阵列状态加以标记。
3.根据权利要求2所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的标记包括并列和解列两种状态。
4.根据权利要求2所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的阵列开关通过手动切换每个加热回路的阵列状态。
5.根据权利要求1所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的阵列开关在并列状态下可以进行阵列控制，解列状态下不可以进行阵列控制。
6.根据权利要求5所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的区阵列设置增量是对本区阵列控制的功率的增减值。
7.根据权利要求6所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量大于本加热回路额定功率时，则本加热回路设定功率等于本加热回路额定功率。
8.根据权利要求7所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，在执行阵列控制时，当原功率设定值和区阵列设置增量小于零时，则本加热回路设定功率等于零。
9.根据权利要求8所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的区阵列控制是对退火炉某区域的所有并列状态下的加热回路进行统一增减功率控制。
10.根据权利要求9所述的一种快速调节退火炉温度的方法，其特征在于，所述的加热回路数量可以是任意数值。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210040263.XA CN114317905A (zh) | 2022-01-13 | 2022-01-13 | 一种快速调节退火炉温度的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210040263.XA CN114317905A (zh) | 2022-01-13 | 2022-01-13 | 一种快速调节退火炉温度的方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114317905A true CN114317905A (zh) | 2022-04-12 |
Family
ID=81027493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210040263.XA Withdrawn CN114317905A (zh) | 2022-01-13 | 2022-01-13 | 一种快速调节退火炉温度的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114317905A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115196860A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-10-18 | 河北光兴半导体技术有限公司 | 一种玻璃生产中的断板处理方法及装置 |
-
2022
- 2022-01-13 CN CN202210040263.XA patent/CN114317905A/zh not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115196860A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-10-18 | 河北光兴半导体技术有限公司 | 一种玻璃生产中的断板处理方法及装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US11622419B2 (en) | Azimuthally tunable multi-zone electrostatic chuck | |
| CN114317905A (zh) | 一种快速调节退火炉温度的方法 | |
| CN101172859A (zh) | 用于制造等离子体反应器部件的方法和装置 | |
| CN107807514B (zh) | 一种盖板玻璃引出量控制方法 | |
| JP2022525107A (ja) | 温度調整可能なマルチゾーン静電チャック | |
| TWI834871B (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| CN103993269A (zh) | 镀膜装置及镀膜方法 | |
| CN111156817B (zh) | 辊道窑烧结温度控制方法及其系统 | |
| CN116844932B (zh) | 高温SiC离子注入系统及其方法 | |
| CN102851652A (zh) | 一种用于mocvd设备的加热器 | |
| CN113594067B (zh) | 一种温度控制系统及方法、装置、存储介质 | |
| US20180350569A1 (en) | Plasma processing method | |
| US7075094B2 (en) | System, method, and apparatus for ion beam etching process stability using a reference for time scaling subsequent steps | |
| US20110264256A1 (en) | Process control method and process control system | |
| CN209310530U (zh) | 一种电窑炉温度调节的装置 | |
| CN106597815B (zh) | 一种光照强度调节装置、系统和方法 | |
| JP5411895B2 (ja) | 被処理物の熱処理装置 | |
| CN210272277U (zh) | 刻蚀辅助装置、晶圆刻蚀设备 | |
| CN102541119A (zh) | 一种热板温度控制方法 | |
| CN107808812A (zh) | 一种闭环控制靶台温度的方法 | |
| CN112164664B (zh) | 不同膜厚一次工艺生长的装置及方法 | |
| JP4994276B2 (ja) | 被処理物の熱処理装置、その制御方法及び処理装置の制御方法 | |
| CN115852347B (zh) | 温度控制装置及方法、化学气相沉积设备 | |
| CN105278359B (zh) | 一种通过单变量控制单元达成多变量控制的控制器 | |
| CN110362127B (zh) | 晶片温度控制方法及温度控制系统、半导体处理设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20220412 |
|
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |