CN114230026A - 自动滑落集垢式循环水电化学处理设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及循环水净化处理技术领域，具体是涉及自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，包括内部中空的箱体和安装在箱体内部的多组电极板，箱体的底部设置进水口，箱体的顶部设置有出水口，所述电极板沿箱体的高度方向等间距分布，电极板表面倾斜的安装在箱体内部，相邻两组电极板之间设置有迷宫式流道，迷宫式流道用于阻止水垢跟随水流上移，箱体的底部设置有集垢腔，集垢腔对自动滑落的水垢进行收集，本技术方案通过迷宫式流道使箱体内的水可以通过迷宫式流道之间的间隙向上移动，但成型的水垢沉渣在水流带动下向上移动时则会被迷宫式流道阻隔，从而堆积在迷宫式流道内或沿迷宫式流道向下移动直至进入箱体底部的集垢腔中进行收集。

Description

自动滑落集垢式循环水电化学处理设备

技术领域

本发明涉及循环水净化处理技术领域，具体是涉及自动滑落集垢式循环水电化学处理设备。

背景技术

电化学水处理是以电化学的电解原理和极性水分子为理论基础发展起来的环保新技术，是一种清洁的循环冷却水处理技术。循环水电化学处理设备利用水及水中矿物质的电化学特性，通过电化学来调节水中矿物质的平衡，而实现去除结垢物质、防腐和防治微生物的目的。

目前，循环水电化学处理设备分为全自动和半自动两种类型，这两种类型的循环水电化学处理设备都是利用外力作用将箱体内的垢清除。然而，这种除垢方式由于需要外力介入，因此只能实现间断性除垢，也就是说，每次除垢都需要中断化学反应，并启动自动除垢设备才能实现；若按每小时运行一次，每次5分钟计算，相当缩短了8.3％的工作时间；此外，在每次除垢之后，总是要等垢累积到一定厚度才会开始下一次除垢处理，这样垢会逐渐累积并覆盖在电极板的表面，而影响电极工作效率。综上所述，由于除垢和垢累积会造成电化学效率下降约20％。

中国专利申请号“CN201720918945.0”公开了一种自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，包括箱体、设置箱体内的集垢槽和2块以上的电极板、以及开设在箱体的上的出水口和入水口。集垢槽设置在箱体内；集垢槽为中空的密闭壳体，集垢槽上开设有集垢口，集垢口的数量与电极板的数量相同，每个集垢口对应一块电极板；所有电极板在箱体内呈倾斜设置，且电极板的倾斜低端由集垢口深入到集垢槽中。本实用新型能够在形成垢的同时，利用垢自身的重力作用，从电极板上自动滑落并进入集垢槽中。待集垢槽收集满后，可通过更换集垢槽实现循环水电化学处理设备的除垢处理。

但是该设备在使用时，硬水从箱体底部进入并通过上方出水口流出，箱体中水流的流动在一定程度上影响电极板生成的水垢的自然下落，且进入集垢槽的水垢也会在水流的带动下从集垢口流出从而无法保证自动滑落收集水垢的效果。

发明内容

基于此，有必要针对现有技术问题，提供一种自动滑落集垢式循环水电化学处理设备。本技术方案解决了循环水电化学处理设备中水垢形成后在重力作用下掉落的过程易受到水流影响的技术问题。

为解决现有技术问题，本发明采用的技术方案为：

自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，包括内部中空的箱体和安装在箱体内部的多组电极板，箱体的底部设置进水口，箱体的顶部设置有出水口，所述电极板沿箱体的高度方向等间距分布，电极板表面倾斜的安装在箱体内部，每组电极板的正极片与负极片相对平行，相邻两组电极板之间设置有迷宫式流道，迷宫式流道用于阻止水垢跟随水流上移，箱体的底部设置有集垢腔，集垢腔对自动滑落的水垢进行收集。

优选的，迷宫式流道包括两个固定安装在箱体内部相对两侧的基座，基座的上下两端分别设置有水平延伸的挡板，挡板距离基座相对一侧的箱体内壁留有一定距离，箱体两侧的挡板交错设置形成迷宫式流道，基座与挡板的左右两侧贴合箱体的内壁。

优选的，挡板的上下两侧设置有斜面，斜面的靠近基座的一端高于远离基座的一端，安装在箱体一侧的挡板内侧的斜面与相对一侧的斜面外侧的斜面平行设置。

优选的，基座与箱体内壁的连接位置设置有引导面，引导面为圆弧状，引导面靠近箱体的一侧与箱体的内壁相切，引导面靠近挡板的一侧与挡板的斜面相切。

优选的，基座与挡板内侧连接的位置设置有过渡面，过渡面为圆弧状。

优选的，基座内部设置有多个沿垂直于挡板延伸方向等间距分布的安装腔，安装腔自基座贴合箱体的一侧延伸至每个挡板的下方，用于对迷宫式流道内部进行冲洗的清洗装置固定安装在基座内部的安装腔中，清洗装置的工作端朝向下方的挡板设置。

优选的，清洗装置包括安装在安装腔中的高压喷头，高压喷头的工作端朝向下方基座与挡板连接的过渡面处设置，高压喷头通过连接水管连通供水设备，连接水管包括连接每个高压喷头的支管路，支管路穿过箱体插装在安装腔中与高压喷头连接，支管路的另一端连通主管路，主管路与供水设备的连接位置设置有控制阀门。

优选的，连接水管的工作端与安装腔连接的位置设置有第一密封圈。

优选的，箱体底部的集垢腔由第一斜隔板与第二斜隔板隔成，第一斜隔板自箱体的一侧向对侧倾斜向下延伸，第一斜隔板的较低端与箱体的内壁之间留有一定间距，第二斜隔板设置在第一斜隔板较低端的下侧，第二斜隔板朝向与第一斜隔板相反的方向倾斜向下延伸，第二斜隔板的长度大于第一斜隔板较低端与箱体内壁之间的间距，箱体的进水口穿过第一斜隔板延伸至第一斜隔板上方。

优选的，集垢腔内安装有可抽出的集垢盒，集垢盒通过箱体一侧的安装口插装进入箱体内部，集垢盒的长度与箱体的内径尺寸相吻合，集垢盒开口向上设置，集垢盒与安装口的连接位置设置有第二密封圈，箱体的安装口外侧设置有对集垢盒进行限位的锁死机构。

本申请相比较于现有技术的有益效果是：

1.本发明的电极板倾斜设置在箱体内中，水垢沉渣在重力作用下沿电极板的倾斜表面向下移动，相邻的两组电极板之间设置有迷宫式流道，箱体内的水可以通过迷宫式流道之间的间隙向上移动，但成型的水垢沉渣在水流带动下向上移动时则会被迷宫式流道阻隔，从而堆积在迷宫式流道内或沿迷宫式流道向下移动直至进入箱体底部的集垢腔中进行收集。

2.本发明通过安装在箱体两侧的相对基座上水平延伸的挡板交错设置形成迷宫式流道中的回折型的通道，挡板的上下两侧均设置有斜面使得迷宫式流道内部形成倾斜且连贯的通道，当迷宫式流道上方形成水垢沉渣后，水垢沉渣在重力作用下沿挡板表面的斜面滑动，经过斜面较低的一端与箱体的间距后掉落至箱体另一侧挡板上侧的斜面处，斜面的存在可以保证挡板阻隔水垢沉渣向上移动功能的同时保证水垢沉渣在重力作用下向下方定向移动。、

3.本发明通过在基座3a与箱体1的内壁连接位置设置引导面3a1使连接处由直角变为弧形以及过渡面3a2将基座3a与挡板3b内侧的连接位置由直角转变为弧形保证了水垢沉渣在迷宫式流道3内部移动时不会在拐角处堆积。

3.本发明通过安装在迷宫式流道内部的高压喷头对准每层挡板的上表面进行定期的冲刷，控制阀门打开使得供水设备向连接水管内输送水流，高压喷头形成高压的水流向迷宫式流道的挡板上表面进行冲洗，带动堆积的水垢沉渣沿挡板表面的斜面向下流动并使得水垢沉渣可以进入集垢腔中，对迷宫式流道进行冲洗后的水与箱体内剩余的水结合，并跟随进入循环水电化学处理过程中，减少了暂停设备进行清理的时间，也避免了材料的浪费。

4.本发明通过第一斜隔板与第二斜隔板在箱体内部分割处独立的集垢腔，水垢沉渣下落时通过重量作用掉落至第一斜隔板表面，并沿第一斜隔板移动至第二斜隔板处，在沿第二斜隔板移动至集垢腔内，该通道在水垢沉渣向上移动离开集垢腔时形成阻拦，有效的防止了集垢腔内收集的水垢沉渣流出，提高了对水垢沉渣的收集效率。

5.本发明通过集垢腔内设置的集垢盒开口向上接收自第二斜隔板处滑落的水垢沉渣，工作人员可以定期从箱体的安装口处抽出集垢盒进行清洗或直接更换集垢盒保证集垢腔内的清洁，简化操作步骤已经暂停设备进行清洁的时间。

附图说明

图1是本申请的立体图；

图2是本申请的主视图；

图3是图2的A-A处截面剖视图；

图4是图3的B处局部放大图；

图5是图3的C处局部放大图；

图6是本申请的迷宫式通道和清洁装置第一视角下的立体图；

图7是图6的D处局部放大图；

图8是本申请的迷宫式通道和清洁装置第二视角下的立体图；

图9是图8的E处局部放大图；

图10是本申请的集垢盒安装在箱体内状态下的立体图；

图11是本申请的集垢盒的立体图及其局部放大图；

图中标号为：

1-箱体；1a-进水口；1b-出水口；1c-安装口；1c1-锁死机构；

2-电极板；

3-迷宫式流道；3a-基座；3a1-引导面；3a2-过渡面；3a3-安装腔；3b-挡板；3b1-斜面；

4-集垢腔；4a-第一斜隔板；4b-第二斜隔板；4c-集垢盒；4c1-第二密封圈；

5-清洗装置；5a-高压喷头；5a1-第一密封圈；5b-连接水管；5b1-支管路；5b2-主管路；5b3-控制阀门。

具体实施方式

为能进一步了解本发明的特征、技术手段以及所达到的具体目的、功能，下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

如图1至图3所示，本申请提供：

自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，包括内部中空的箱体1和安装在箱体1内部的多组电极板2，箱体1的底部设置进水口1a，箱体1的顶部设置有出水口1b，所述电极板2沿箱体1的高度方向等间距分布，电极板2表面倾斜的安装在箱体1内部，每组电极板2的正极片与负极片相对平行，相邻两组电极板2之间设置有迷宫式流道3，迷宫式流道3用于阻止水垢跟随水流上移，箱体1的底部设置有集垢腔4，集垢腔4对自动滑落的水垢进行收集。

基于上述实施例，本申请想要解决的技术问题是如何防止进行循环水电化学处理时随着水流自下而上的流动影响水垢在重力作用下滑落沉积。为此，本申请通过箱体1进行循环水电化学处理，所需加工的水从箱体1底部的进水口1a流进箱体1内部，进水口1a可以通过连接法兰连接供水的水管，箱体1顶部的出水口1b可以连接水泵等输出入，将箱体1内经过处理的水向下一加工设备输出，水进入箱体1后对电极板2进行通电，在直流电的作用下，电极板2的正、负极板之间水溶液中的正、负离子向极性相反的极板移动，发生电子得失反应(即放电反应)。阳极产生氧化反应，产生OH-、O3、H2O2等强氧化物质，阴极产生还原反应，将Ca2+、Mg2+还原，在阴极板上产生沉淀，由于电极板2倾斜设置在箱体1内中，水垢沉渣在重力作用下沿电极板2的倾斜表面向下移动，相邻的两组电极板2之间设置有迷宫式流道3，箱体1内的水可以通过迷宫式流道3之间的间隙向上移动，但成型的水垢沉渣在水流带动下向上移动时则会被迷宫式流道3阻隔，从而堆积在迷宫式流道3内或沿迷宫式流道3向下移动直至进入箱体1底部的集垢腔4中进行收集，本实施例通过迷宫式流道3的存在保证了水垢无法跟随上移至箱体1的出水口1b处，保证对水的除垢效果。

进一步的，如图4和图6所示：

迷宫式流道3包括两个固定安装在箱体1内部相对两侧的基座3a，基座3a的上下两端分别设置有水平延伸的挡板3b，挡板3b距离基座3a相对一侧的箱体1内壁留有一定距离，箱体1两侧的挡板3b交错设置形成迷宫式流道3，基座3a与挡板3b的左右两侧贴合箱体1的内壁。

挡板3b的上下两侧设置有斜面3b1，斜面3b1的靠近基座3a的一端高于远离基座3a的一端，安装在箱体1一侧的挡板3b内侧的斜面3b1与相对一侧的斜面3b1外侧的斜面3b1平行设置。

基于上述实施例，本申请想要解决的技术问题是迷宫式流道3如何对水垢进行阻拦且避免水垢在迷宫式流道3内进行堆积。为此，本申请的每组迷宫式流道3由安装在箱体1两侧的相对基座3a上水平延伸的挡板3b组成，两侧挡板3b交错设置形成迷宫式流道3中的回折型的通道，水流可以自动通过迷宫式流道3，但水流带动水垢上移时会被挡板3b所阻隔，无法继续上移，保证通过出水口1b离开箱体1的水不包含水垢沉渣，挡板3b的上下两侧均设置有斜面3b1使得迷宫式流道3内部形成倾斜且连贯的通道，当迷宫式流道3上方形成水垢沉渣后，水垢沉渣在重力作用下沿挡板3b表面的斜面3b1滑动，经过斜面3b1较低的一端与箱体1的间距后掉落至箱体1另一侧挡板3b上侧的斜面3b1处，并在重力作用下保持一端直至离开迷宫式流道3向下掉落至集垢腔4中，斜面3b1的存在可以保证挡板3b阻隔水垢沉渣向上移动功能的同时保证水垢沉渣在重力作用下向下方定向移动。

进一步的，如图5至图9所示：

基座3a与箱体1内壁的连接位置设置有引导面3a1，引导面3a1为圆弧状，引导面3a1靠近箱体1的一侧与箱体1的内壁相切，引导面3a1靠近挡板3b的一侧与挡板3b的斜面3b1相切。

基座3a与挡板3b内侧连接的位置设置有过渡面3a2，过渡面3a2为圆弧状。

基于上述实施例，本申请想要解决的技术问题是如何防止水垢在基座3a、挡板3b和箱体1内壁的连接位置的拐角处堆积。为此，本申请通过在基座3a与箱体1的内壁连接位置设置引导面3a1使连接处由直角变为弧形，水垢沉渣即使沿箱体1内壁下落也可以通过引导面3a1与箱体1一侧的相切进入引导面3a1处向斜面3b1处进行顺畅的移动，同理，过渡面3a2将基座3a与挡板3b内侧的连接位置由直角转变为弧形保证了水垢沉渣在迷宫式流道3内部移动时不会在拐角处堆积。

进一步的，如图1、图5和图9所示：

基座3a内部设置有多个沿垂直于挡板3b延伸方向等间距分布的安装腔3a3，安装腔3a3自基座3a贴合箱体1的一侧延伸至每个挡板3b的下方，用于对迷宫式流道3内部进行冲洗的清洗装置5固定安装在基座3a内部的安装腔3a3中，清洗装置5的工作端朝向下方的挡板3b设置。

清洗装置5包括安装在安装腔3a3中的高压喷头5a，高压喷头5a的工作端朝向下方基座3a与挡板3b连接的过渡面3a2处设置，高压喷头5a通过连接水管5b连通供水设备，连接水管5b包括连接每个高压喷头5a的支管路5b1，支管路5b1穿过箱体1插装在安装腔3a3中与高压喷头5a连接，支管路5b1的另一端连通主管路5b2，主管路5b2与供水设备的连接位置设置有控制阀门5b3。

基于上述实施例，本实施例在工作时，水沟可能在箱体1内部的各个高度位置形成，当形成水垢沉渣时，水垢沉渣在自身重力作用下滑落，处于低处的水垢沉渣直接进入集垢腔4中进行收集，处于高出的水垢沉渣需经过一个或多个迷宫式流道3才能进入集垢腔4中进行统一的收集，水垢沉渣在经过引导面3a1和过渡面3a2处时可以大大减少堆积，但难免会在长时间使用后迷宫式流道3的挡板3b表面形成附着性水垢影响水垢沉渣的自然滑落。为此，本申请设置清洗装置5对迷宫式流道3进行定期的冲洗，进行迷宫式流道3表面水垢的清除从而保证水垢沉渣可以顺利进入集垢腔4中，减少箱体1内水质中的水垢含量，现有技术中存在对电极板2进行正负电极倒置的方式来对附着性的水垢进行除垢，但多次使用后对电极片的影响较大，从而影响了电极板2的使用寿命，对此，本实施例中的清洗装置5通过安装在迷宫式流道3内部的高压喷头5a对准每层挡板3b的上表面进行冲刷，清洗装置5可以设置在一定时间间隔后自动启动，箱体1内可短时间内停止进水，控制阀门5b3打开使得供水设备向连接水管5b内输送水流，高压喷头5a形成高压的水流向迷宫式流道3的挡板3b上表面进行冲洗，高压喷头5a的工作端朝向下方基座3a与挡板3b连接的过渡面3a2处，将最容易堆积水垢沉渣的部位进行冲洗，带动堆积的水垢沉渣沿挡板3b表面的斜面3b1向下流动并使得水垢沉渣可以进入集垢腔4中，其中，上一层迷宫式流道3最底部的高压喷头5a工作端朝向下一个迷宫式流道3顶部的挡板3b进行冲洗，在定期的冲洗下，可以保证迷宫式流道3内部通道的洁净，从而保证水垢沉渣自动滑落的顺畅，本实施例中的连接清洗装置5的供水设备可以向清洗装置5提供未经加工的硬水或已经经过电极板2净化的水源均可，对迷宫式流道3进行冲洗后的水与箱体1内剩余的水结合，并跟随进入循环水电化学处理过程中，减少了暂停设备进行清理的时间，也避免了材料的浪费。

进一步的，如图5和图9所示：

连接水管5b的工作端与安装腔3a3连接的位置设置有第一密封圈5a1。

基于上述实施例，本申请想要解决的技术问题是如何保证清洗装置5与迷宫式流道3连接处的密闭性防止箱体1内水流泄漏。为此，本申请的高压喷头5a安装在基座3a内部设置的安装腔3a3中，安装腔3a3连通箱体1外部的连接水管5b，第一密封圈5a1的存在将高压喷头5a与安装腔3a3的连接位置进行密封，保证高压喷头5a工作端稳定的同时保证箱体1内部的密闭性。

进一步的，如图3所示：

箱体1底部的集垢腔4由第一斜隔板4a与第二斜隔板4b隔成，第一斜隔板4a自箱体1的一侧向对侧倾斜向下延伸，第一斜隔板4a的较低端与箱体1的内壁之间留有一定间距，第二斜隔板4b设置在第一斜隔板4a较低端的下侧，第二斜隔板4b朝向与第一斜隔板4a相反的方向倾斜向下延伸，第二斜隔板4b的长度大于第一斜隔板4a较低端与箱体1内壁之间的间距，箱体1的进水口1a穿过第一斜隔板4a延伸至第一斜隔板4a上方。

基于上述实施例，本申请想要解决的技术问题是如何防止水流在向上输送时带动集垢腔4内的水垢沉渣离开集垢腔4。为此，本申请通过第一斜隔板4a与第二斜隔板4b在箱体1内部分割处独立的集垢腔4，第一斜隔板4a自箱体1的一侧向对侧倾斜向下延伸，第二斜隔板4b在第一斜隔板4a的低侧下方向另一侧倾斜延伸形成水垢沉渣进入集垢腔4的通道，水垢沉渣下落时通过重量作用掉落至第一斜隔板4a表面，并沿第一斜隔板4a移动至第二斜隔板4b处，在沿第二斜隔板4b移动至集垢腔4内，该通道在水垢沉渣向上移动离开集垢腔4时形成阻拦，原理与迷宫式流道3一致，有效的防止了集垢腔4内收集的水垢沉渣流出，提高了对水垢沉渣的收集效率，箱体1的进水口1a穿过第一斜隔板4a延伸至第一斜隔板4a上方可以使水流进入箱体1时不会对集垢腔4进行冲刷造成集垢腔4内沉积的水垢沉渣翻涌。

进一步的，如图10和图11所示：

集垢腔4内安装有可抽出的集垢盒4c，集垢盒4c通过箱体1一侧的安装口1c插装进入箱体1内部，集垢盒4c的长度与箱体1的内径尺寸相吻合，集垢盒4c开口向上设置，集垢盒4c与安装口1c的连接位置设置有第二密封圈4c1，箱体1的安装口1c外侧设置有对集垢盒4c进行限位的锁死机构1c1。

基于上述实施例，本申请想要解决的技术问题是如何对集垢腔4对沉积的水垢沉渣进行快速的清洁。为此，本申请的水垢沉渣堆积在集垢腔4内设置的集垢盒4c中，集垢盒4c开口向上接收自第二斜隔板4b处滑落的水垢沉渣，工作人员可以定期从箱体1的安装口1c处抽出集垢盒4c进行清洗或直接更换集垢盒4c保证集垢腔4内的清洁，集垢盒4c的长度与箱体1的内径尺寸相吻合，当集垢盒4c从安装口1c处插装进入箱体1至集垢盒4c的顶部贴合箱体1的内壁，工作人员可以通过安装口1c处的锁死机构1c1对安装口1c的位置进行锁定，配合集垢盒4c上的第二密封圈4c1与安装口1c避免紧密贴合防止安装口1c位置出现松动造成箱体1内水的泄漏，本实施例中的安装口1c采用旋转凸轮对集垢盒4c的外侧进行限位，从而将集垢盒4c固定在箱体1内，也可以采用其他结构实现同样的功能。

以上实施例仅表达了本发明的一种或几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，包括内部中空的箱体(1)和安装在箱体(1)内部的多组电极板(2)，箱体(1)的底部设置进水口(1a)，箱体(1)的顶部设置有出水口(1b)，其特征在于，所述电极板(2)沿箱体(1)的高度方向等间距分布，电极板(2)表面倾斜的安装在箱体(1)内部，每组电极板(2)的正极片与负极片相对平行，相邻两组电极板(2)之间设置有迷宫式流道(3)，迷宫式流道(3)用于阻止水垢跟随水流上移，箱体(1)的底部设置有集垢腔(4)，集垢腔(4)对自动滑落的水垢进行收集。

2.根据权利要求1所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，迷宫式流道(3)包括两个固定安装在箱体(1)内部相对两侧的基座(3a)，基座(3a)的上下两端分别设置有水平延伸的挡板(3b)，挡板(3b)距离基座(3a)相对一侧的箱体(1)内壁留有一定距离，箱体(1)两侧的挡板(3b)交错设置形成迷宫式流道(3)，基座(3a)与挡板(3b)的左右两侧贴合箱体(1)的内壁。

3.根据权利要求2所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，挡板(3b)的上下两侧设置有斜面(3b1)，斜面(3b1)的靠近基座(3a)的一端高于远离基座(3a)的一端，安装在箱体(1)一侧的挡板(3b)内侧的斜面(3b1)与相对一侧的斜面(3b1)外侧的斜面(3b1)平行设置。

4.根据权利要求2所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，基座(3a)与箱体(1)内壁的连接位置设置有引导面(3a1)，引导面(3a1)为圆弧状，引导面(3a1)靠近箱体(1)的一侧与箱体(1)的内壁相切，引导面(3a1)靠近挡板(3b)的一侧与挡板(3b)的斜面(3b1)相切。

5.根据权利要求2所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，基座(3a)与挡板(3b)内侧连接的位置设置有过渡面(3a2)，过渡面(3a2)为圆弧状。

6.根据权利要求2所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，基座(3a)内部设置有多个沿垂直于挡板(3b)延伸方向等间距分布的安装腔(3a3)，安装腔(3a3)自基座(3a)贴合箱体(1)的一侧延伸至每个挡板(3b)的下方，用于对迷宫式流道(3)内部进行冲洗的清洗装置(5)固定安装在基座(3a)内部的安装腔(3a3)中，清洗装置(5)的工作端朝向下方的挡板(3b)设置。

7.根据权利要求6所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，清洗装置(5)包括安装在安装腔(3a3)中的高压喷头(5a)，高压喷头(5a)的工作端朝向下方基座(3a)与挡板(3b)连接的过渡面(3a2)处设置，高压喷头(5a)通过连接水管(5b)连通供水设备，连接水管(5b)包括连接每个高压喷头(5a)的支管路(5b1)，支管路(5b1)穿过箱体(1)插装在安装腔(3a3)中与高压喷头(5a)连接，支管路(5b1)的另一端连通主管路(5b2)，主管路(5b2)与供水设备的连接位置设置有控制阀门(5b3)。

8.根据权利要求7所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，连接水管(5b)的工作端与安装腔(3a3)连接的位置设置有第一密封圈(5a1)。

9.根据权利要求1所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，箱体(1)底部的集垢腔(4)由第一斜隔板(4a)与第二斜隔板(4b)隔成，第一斜隔板(4a)自箱体(1)的一侧向对侧倾斜向下延伸，第一斜隔板(4a)的较低端与箱体(1)的内壁之间留有一定间距，第二斜隔板(4b)设置在第一斜隔板(4a)较低端的下侧，第二斜隔板(4b)朝向与第一斜隔板(4a)相反的方向倾斜向下延伸，第二斜隔板(4b)的长度大于第一斜隔板(4a)较低端与箱体(1)内壁之间的间距，箱体(1)的进水口(1a)穿过第一斜隔板(4a)延伸至第一斜隔板(4a)上方。

10.根据权利要求9所述的自动滑落集垢式循环水电化学处理设备，其特征在于，集垢腔(4)内安装有可抽出的集垢盒(4c)，集垢盒(4c)通过箱体(1)一侧的安装口(1c)插装进入箱体(1)内部，集垢盒(4c)的长度与箱体(1)的内径尺寸相吻合，集垢盒(4c)开口向上设置，集垢盒(4c)与安装口(1c)的连接位置设置有第二密封圈(4c1)，箱体(1)的安装口(1c)外侧设置有对集垢盒(4c)进行限位的锁死机构(1c1)。

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