CN114173868A - 放射治疗系统及操控方法 - Google Patents

Abstract

本说明书涉及一种放射治疗系统(100)。该放射治疗系统(100)可以包括具有至少一层叶片的MLC和至少一个块(630‑1、630‑2)。该至少一层叶片中的每一层可以包括第一组叶片(410‑1)和第二组叶片(410‑2)。该叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域(440)内辐射束的第一部分的路径。该辐射束第二部分入射在辐射治疗系统(100)的治疗区域(420)。该MLC可以位于第一平面。该至少一个块(630‑1、630‑2)可以位于与第一平面不同的第二平面。至少一个块可以被配置为遮挡端部区域(430‑1、430‑2、430‑3、430‑4)内的至少一部分漏射辐射束。

Description

放射治疗系统及操控方法

技术领域

本说明书一般涉及放射治疗，更具体地涉及一种放射治疗系统以及操控放射治疗系统的方法。

背景技术

放射治疗通常是癌症治疗的一部分，使用电离辐射来控制或杀死例如对象的肿瘤。多叶准直器(MLC)可用于限定辐射以适应肿瘤的形状，使得肿瘤接收足够的辐射。例如，通过将MLC中的至少一个叶片移动到至少一个期望位置，可以形成符合肿瘤形状的治疗区域。然而，当移动至少一个叶片时，MLC可能无法阻挡肿瘤区域以外区域内的漏射辐射的路径，这可能会对对象的正常组织造成损害。在一些情况下，可以提供MLC和一对或两对准直颚件的组合。该一对或两对准直颚件可与MLC配合使用，以形成辐射。此外，该一对或两对准直颚件可以减少漏射辐射的至少一部分。然而，该一对或两对准直颚件的尺寸和重量可能相对较大，从而对用于放射治疗的放射治疗系统造成额外负担。因此，期望提供一种放射治疗系统和/或操控放射治疗系统的方法，以更有效地阻挡治疗区域之外的漏射辐射路径。

发明内容

在本说明书的第一方面，可以提供放射治疗系统。放射治疗系统可以包括辐射源、多叶准直器(MLC)和至少一个块。辐射源可以被配置为发射辐射束。MLC可以位于第一平面。MLC包括至少一层叶片。至少一层叶片中的每一层可以包括第一组叶片和第二组叶片。叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内的辐射束的第一部分的路径。辐射束的第二部分可以入射在放射治疗系统的治疗区域。至少一个块可以位于与第一平面不同的第二平面。至少一个块可以被配置为遮挡端部区域内漏射辐射束的至少一部分。

在一些实施例中，MLC和至少一个块可以沿辐射束朝向对象的方向布置。

在一些实施例中，端部区域可以包括第一部分。当至少一层叶片的至少一层的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得第一部分被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，可以形成第一部分。

在一些实施例中，第一条线可以是辐射区域的中心线。第一组叶片中的至少一个叶片的长度可以等于辐射区域长度的一半。

在一些实施例中，至少一个块可以包括位于第二平面上的第一块和第二块。

在一些实施例中，至少一个块中的至少一个或其部分是可移动的。

在一些实施例中，至少一个块中的至少一个可以是固定的。至少一个块中的至少一个在第一平面上的投影可以与MLC至少部分重叠。

在一些实施例中，至少一个块中的每一个的尺寸可以与以下至少一个有关：第一组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、至少一层叶片中每一层叶片的尺寸、第一组叶片中至少一个叶片的长度或第二组叶片中至少一个叶片的长度。

在本说明书的第二方面，可以提供操控多叶准直器(MLC)的方法。该方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实施。MLC可以至少包括第一层叶片和第二层叶片。第一层叶片和第二层叶片中的每一层可以包括第一组叶片和第二组叶片。叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径。辐射束的第二部分可以入射在放射治疗系统的治疗区域。该方法可以包括确定是否存在第一区域，其中当第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，可以形成第一区域。该方法还可以包括基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

在一些实施例中，第一条线可以是辐射区域的中心线。第一组叶片中的至少一个叶片的长度可以等于辐射区域长度的一半。

在一些实施例中，所述确定结果包括存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片可以包括：使第二层叶片中的一个或以上叶片移动以遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分。

在一些实施例中，所述确定结果包括不存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片可以包括：使第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的一部分。

在本说明书的第三方面，提供了一种操控放射治疗系统的方法。该方法可以在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实施。放射治疗系统可以包括多叶准直器(MLC)和至少一个块。MLC可以包括至少一层叶片。至少一层叶片中的每一层可以包括第一组叶片和第二组叶片。叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径。辐射束的第二部分可以入射在放射治疗系统的治疗区域。该方法可以包括确定是否存在第一区域。当第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，可以形成第一区域。该方法还可以包括基于确定结果，操控至少一个块或MLC中的第二层叶片中的至少一个。

在一些实施例中，至少一个块可以固定在第二平面上，以及至少一个块中的至少一个的投影可以与MLC至少部分重叠。

在一些实施例中，所述确定结果包括存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片包括可以包括：使第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。

在一些实施例中，所述至少一个块是可移动的，所述确定结果包括存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片可以包括：确定至少一个块是否能够移动；并基于第二确定结果，操控第二层叶片。

在一些实施例中，所述基于第二确定结果，操控所述第二层叶片可以包括：响应于至少一个块能够移动的第二确定，使至少一个块遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分，以及使第二层叶片的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的一部分；或响应于至少一个块不能移动的第二确定，使第二层叶片中的一个或以上叶片遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分。

在一些实施例中，所述确定结果包括不存在所述第一区域，以及基于第二确定结果，操控所述第二层叶片可以包括：使第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的一部分。

在本说明书的第四方面，可以提供非暂时性计算机可读介质。该非暂时性计算机可读介质可以包括由至少一个处理器执行的指令，使得至少一个处理器实现方法。多叶准直器(MLC)至少可以包括第一层叶片和第二层叶片。第一层叶片和第二层叶片中的每一层可以包括第一组叶片和第二组叶片。叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径。辐射束的第二部分可以入射在放射治疗系统的治疗区域。该方法可以包括确定是否存在第一区域。当第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，可以形成第一区域。该方法还可以包括基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

在本说明书的第五方面，可以提供非暂时性计算机可读介质。非暂时性计算机可读介质可以包括由至少一个处理器执行的指令，使至少一个处理器实现方法。放射治疗系统可以包括多叶准直器(MLC)和至少一个块。MLC至少可以包括第一层叶片和第二层叶片，第一层叶片和第二层叶片中的每一层可以包括第一组叶片和第二组叶片，叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径。辐射束的第二部分可以入射在放射治疗系统的治疗区域。该方法可以包括确定是否存在第一区域。当第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，可以形成第一区域。该方法还可以包括基于确定结果，操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个。

本说明书的一部分附加特性可以在以下描述中进行说明。通过对以下描述和相应附图的研究或者对实施例的生产或操作的了解，本说明书的一部分附加特性对于本领域技术人员是明显的。本说明书的特征可以通过对以下描述的具体实施例的各个方面的方法、手段和组合的实践或使用得以实现和达到。

附图说明

本说明书将通过示例性实施例进行进一步描述。这些示例性实施例将通过附图进行详细描述。附图未按比例绘制。这些实施例是非限制性的示例性实施例，在这些实施例中，各图中相同的编号表示相似的结构，其中：

图1是根据本说明书的一些实施例所示的示例性放射治疗系统的示意图；

图2是根据本说明书的一些实施例所示的计算设备的示例性硬件和/或软件组件的示意图；

图3是根据本说明书的一些实施例所示的移动设备的示例性硬件和/或软件组件的示意图；

图4A是根据本说明书的一些实施例所示的示例性放射治疗系统的示意图；

图4B是根据本说明书的一些实施例所示的放射治疗系统的端部区域内的示例性漏射辐射束的截面图；

图5A是根据本说明书的一些实施例的示例性放射治疗系统的示意图；

图5B是根据本说明书的一些实施例的放射治疗系统的端部区域内的示例性漏射辐射束的截面图；

图6A-6B是根据本说明书一些实施例所示的示例性放射治疗系统的截面图；

图7是根据本说明书的一些实施例所示的示例性处理设备的模块图；

图8是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的示例性过程的流程图；

图9A-9C是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的截面图；

图10是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的示例性过程的流程图；以及

图11A-11B是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的截面图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本说明书实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单的介绍。然而，本领域技术人员应该明白，可以在没有这些细节的情况下实施本说明书。在其他情况下，为了避免不必要地模糊本说明书的各个方面，已经在相对较高的层次上描述了公知的方法、过程、系统、组件和/或电路，而没有详细说明。对于本领域的普通技术人员来讲，显然可以对所披露的实施例作出各种改变，并且在不偏离本申请的原则和范围的情况下，本说明书中所定义的普遍原则可以适用于其他实施例和应用场景。因此，本说明书不限于所示的实施例，而是符合与申请专利范围一致的最广泛范围。

本说明书中所使用的术语仅出于描述特定示例实施例的目的，而非限制性的。如本说明书使用的单数形式“一”、“一个”及“该”同样可以包括复数形式，除非上下文明确提示例外情形。术语“方向”可以包括方向的相反方向和平行于该方向的至少两个方向。术语“平面”可包括平面和弯曲或圆柱形平面。方向可以包括线性和弧形轨迹。还应当理解，如在本说明书中使用的术语“包括”、“包含”仅提示存在所述特征、整数、步骤、操作、组件和/或部件，但并不排除存在或添加一个或以上其它特征、整数、步骤、操作、组件、部件和/或其组合的情况。

可以理解的是，本说明书中使用的术语“系统”、“单元”、“模块”和/或“区块”是用于按升序区分不同级别的不同构件、元件、零件、部分或组件的方法。然而，如果可以达到相同的目的，这些术语也可以被其他表达替换。

通常，除非另有定义，否则本说明书中使用的单词“模块”、“单元”或“块”指硬件或固件中包含的逻辑，或指软件指令的集合。本说明书所述的模块、单元或块可以实现为软件和/或硬件，并且可以存储在任何类型的非暂时性计算机可读介质或另一存储设备中。在一些实施例中，可以编译软件模块/单元/块并将其链接到可执行程序中。应当理解，软件模块可以从其他模块/单元/块或从它们自身调用，和/或可以响应检测到的事件或中断来调用。配置用于在计算设备(例如，如图2所示的处理器210)上执行的软件模块/单元/块可以提供在计算机可读介质上，例如光盘、数字视频光盘、闪存驱动器、磁盘或任何其他有形介质，或者作为数字下载(最初可以以压缩或可安装格式存储，需要在执行前进行安装、解压缩或解密)。这里的软件代码可以被部分的或全部的储存在执行操作的计算设备的存储设备中，并应用在计算设备的操作之中。软件指令可以嵌入固件中，例如EPROM。还应理解，硬件模块/单位/块可以包括连接的逻辑组件，例如门和触发器，和/或可以包括可编程单元，例如可编程门阵列或处理器。这里描述的模块/单元/块或计算设备功能可以实现为软件模块/单元/块，但是可以用硬件或固件表示。通常，这里描述的模块/单元/块指的是逻辑模块/单元/块，其可以与其他模块/单元/块组合或者分成子模块/子单元/子块，尽管它们是物理组织或存储器件。

可以理解的是，除非上下文另有明确说明，当单元、引擎、模块或块被称为在另一单元、引擎、模块或块“上”、“连接”或“耦合至”另一单元、引擎、模块或块时，其可以直接在其它单元、引擎、模块或块上，与其连接或耦合或与之通信，或者可能存在中间单元、引擎、模块或块。在本说明书中，术语“和/或”可包括任何一个或以上相关所列条目或其组合。

根据以下对附图的描述，本说明书的这些和其它的特征、特点以及相关结构元件的功能和操控方法，以及部件组合和制造经济性，可以变得更加显而易见，这些附图都构成本说明书的一部分。然而，应当理解的是，附图仅仅是为了说明和描述的目的，并不旨在限制本说明书的范围。应当理解的是，附图并不是按比例绘制的。

本说明书的第一方面涉及放射治疗系统。放射治疗系统的一部分可以被配置为形成一个孔，一部分辐射束通过该孔被传送到治疗区域。在一些实施例中，对象的病灶(例如，肿瘤)可以位于放射治疗的治疗区域。治疗区域和孔可以符合病灶的形状。放射治疗系统的该部分可包括MLC和至少一个块。MLC可包括至少一层叶片。至少一层叶片中的每一个可包括至少两个叶片。在一些情况下，MLC可能无法阻挡放射治疗系统中辐射传送设备的辐射区域内的端部区域内漏射辐射束的路径。该至少一个块可以位于与MLC的平面不同的平面。至少一个块可以由不透辐射的材料(例如，钨、铅、钢合金、钨合金)制成。至少一个块的投影可以至少覆盖端部区域，从而遮挡端部区域内的漏射辐射束的至少一部分。

通过布置块，可以减少输送到除对象病灶之外的正常部分(例如，周围正常组织)的辐射束，从而降低辐射对周围正常组织的相对毒性。块的尺寸可以相对较小，从而占据放射治疗系统100的一小部分空间。此外，至少一个块的重量可能相对较轻，从而对放射治疗系统(例如，放射治疗系统的辐射传送设备)造成较小的负载。在一些情况下，通过调整至少一个块的尺寸，MLC中的一个或以上叶片可以设计成相对较小的长度，因此，该一个或以上叶片可以更快地移动，从而缩短放射治疗的时间。

本说明书的第二方面涉及一种操控放射治疗系统的方法。放射治疗系统的一部分可以被配置为形成一个孔，一部分辐射束通过该孔被传送到治疗区域。放射治疗系统的该部分可以包括至少具有第一层叶片和第二层叶片的MLC。如果MLC的第一层叶片未能阻挡除治疗区域之外的第一区域内的漏射辐射束路径，则除MLC的第一层叶片和第二层叶片之外的一层或以上层叶片可被操控移动到以与第一层叶片共同形成治疗区域。第二层叶片的至少一部分可用于遮挡第一区域内漏射的辐射束的至少一部分。如果第一层叶片阻挡了第一区域内漏射辐射束的路径，则可操作该层或以上层叶片和第二层叶片移动，以与第一层叶片共同形成治疗区域。

通过提供上述方法，MLC可同时形成治疗区域并阻挡输送至除对象病灶之外的正常部分的漏射辐射束的至少一部分。在一些情况下，可以基于至少两个台阶形成治疗区域的边界，至少两个台阶中的至少一个台阶的宽度可以小于每个叶片的宽度。因此，与由第一层叶片形成的治疗区域的边界相比，可以提高治疗区域的边界的分辨率(或精细度)。

本说明书的第三方面涉及一种操控放射治疗系统的方法。放射治疗系统的一部分可以被配置为形成一个孔，一部分辐射束可通过该孔被传送到治疗区域。放射治疗系统的该部分可以包括具有至少两层叶片的MLC和至少一个块。如果MLC的第一层叶片未能阻挡除治疗区域以外的第一区域内的漏射辐射束的路径，并且至少一个块能够阻挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分，除第一层叶片之外的一层或以上叶片可被操控移动以与第一层叶片共同形成治疗区域。如果MLC的第一层叶片未能阻挡第一区域内漏射辐射束的路径，并且至少一个块不能阻挡第一区域内漏射辐射束的至少一部分，MLC的第二层叶片的至少一部分可被操控移动以遮挡第一区域内的辐射束的至少一部分。如果第一层叶片阻挡了第一区域内漏射辐射束的路径，则除第一层叶片之外的一层或以上层叶片可被操控移动以与第一层叶片共同形成治疗区域。

通过提供上述方法，当至少一个块未能阻挡漏射辐射束的至少一部分时，MLC的至少一部分叶片可用于阻挡漏射辐射束的至少一部分，从而确保漏射辐射束的至少一部分不会被传送到除对象病灶之外的正常部分。

图1是根据本说明书的一些实施例所示的示例性放射治疗系统的示意图。放射治疗系统100可以包括辐射传送设备110、网络120、一个或以上终端130、处理设备140和存储设备150。放射治疗系统100的部件可以以各种方式连接。仅作为示例，辐射传送设备110可以通过网络120连接到处理设备140。作为另一示例，辐射传送设备110可以直接连接到处理设备140，如所示的连接辐射传送设备110和处理设备140的虚线双向箭头。作为另一示例，存储设备150可以直接或通过网络120连接到处理设备140。作为又一示例，终端130可以直接(如所示的连接终端130和处理设备140的虚线双向箭头)或通过网络120连接到处理设备140。

在一些实施例中，辐射传送设备110可同时对对象执行成像和治疗。举例来说，辐射传送设备110可以包括成像组件、治疗辐射源(例如，第一辐射源114)、机架111和床115。成像组件可以包括常规CT、锥束CT(CBCT)、螺旋CT、多层CT、PET-CT等或其任何组合。成像组件可以被配置为在放射治疗之前、期间或之后生成一个或以上图像。如图1所示，成像组件可以包括成像辐射源(例如，第二辐射源113)和与第二辐射源113相对的辐射探测器112。机架111可包括旋转环(图1中未示出)。旋转环可被配置为容纳第二辐射源113、辐射探测器112和第一辐射源114。在一些实施例中，第一辐射源114可向放置在床115上的对象的区域(例如，肿瘤)发射第一束。第二辐射源113可以向对象的第二区域(例如，成像区域)发射第二束。在一些实施例中，第一束的强度可以不同于第二束的强度。例如，第一束的能量可以为几兆伏(MV)，该能量大于第二束的能量，第二束的能量可能为几千伏(kV)。对象可以是生物对象(例如，患者、动物)或非生物对象。在本说明书中，“对象”和“受试者”可互换使用。辐射探测器112可以被配置为检测从第二辐射源113发射的辐射。应当注意，辐射传送设备110的上述描述仅用于说明的目的，而不是为了限制本说明书的范围。在一些实施例中，可以省略辐射传送设备110中的成像组件，并且辐射传送设备110可以仅包括一个用于传送放射治疗的辐射源(例如，第一辐射源114)。

在一些实施例中，辐射传送设备110的一部分(图1中未示出)可被配置为在第一辐射源114的辐射区域内准直辐射束。在一些实施例中，辐射区域可由矩形表示，如图4A-11B所示。辐射区域的长度可指该辐射区域在平行于叶片的移动方向(例如，如图4A所示的纵向、x方向)上的尺寸。辐射区域的宽度可指该辐射区域在与叶片的移动的方向(或指叶片移动方向(例如，纵向))和辐射方向(例如，如图4A所示的z方向)正交方向(例如，如图4A所示的y方向)上的尺寸。

在一些实施例中，辐射传送设备110的部分可以形成一个孔，辐射束的一部分可以通过该孔被递送到治疗区域。在一些实施例中，治疗区域可以符合病灶的形状。对象的病灶(例如，肿瘤)可以位于放射治疗的治疗区域。在一些实施例中，治疗区域的中心可以是辐射传送设备110的等中心。如本文所使用的，辐射传送设备110的等中心可指在放射治疗期间第一辐射源114的中心射线所通过的点。因此，病灶可接受足够的辐射，并且在放射治疗期间可减少对对象的正常部分(病灶周围的正常组织)的损害。

在一些当前应用场景中，辐射传送设备110的该部分可包括具有单层叶片的多叶准直器(MLC)。该MLC(或单层叶片)有时可能无法阻挡辐射区域的端部区域内漏射辐射束的路径。如本文所使用的，当MLC所包含的至少两个叶片中的一个或以上叶片对应的一个或以上端部位于辐射区域的边界内时，可以形成该端部区域。一个或以上端部中的每个端部可以指叶片沿纵向相对靠近辐射区域边界的端部。在本说明书的其他地方可以找到关于具有单层叶片的MLC的端部区域内的漏射辐射束的更详细描述。例如，参见图4A-4B及其说明。

在一些当前应用场景中，辐射传送设备110的该部分可包括具有至少两层叶片的MLC。该至少两层叶片可以相互移动。因此，如果MLC的第一层叶片未能阻挡除治疗区域以外的第一区域内的漏射辐射束，MLC(即，至少两层叶片)可能无法阻挡辐射区域的端部区域内的漏射辐射束。如本文所使用的，当第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏出，形成第一区域。由于除第一层叶片以外的一层或以上层叶片可阻挡第一区域内漏射辐射束的至少一部分，因此端部区域可包括第一区域的至少一部分。关于具有至少两层叶片的MLC的第一区域或端部区域内的漏射辐射束的更详细描述可在本说明书的其他地方找到。例如，参见图5A-5B及其说明。

如上所述，治疗区域可符合病灶的形状，端部区域内或第一区域的至少一部分内的漏射辐射束可被传送到对象的正常部分(例如，病灶周围的正常组织)，这可能导致正常部分受损。为了减少对正常部分的损害，辐射传送设备110的该部分应遮挡端部区域内漏射辐射束的至少一部分(或第一区域的至少一部分)。在本说明书中，遮挡端部区域内漏射辐射束的至少一部分(或第一区域的至少一部分)的方法可包括为MLC布置至少一个块、操控MLC的移动等。更详细的描述可在本说明书的其他地方找到。例如，参见图6A-11B及其说明。

在一些实施例中，上述MLC的每层叶片可以包括至少两个叶片。该层叶片中的至少两个叶片的数量或计数可以变化。出于说明目的，该层叶片中的至少两个叶片的数量或计数可包括12、24、32、48、64、80、100、128等。该至少两个叶片可以由不透辐射材料(例如，钨、铅、钢合金、钨合金)制成。

在一些实施例中，叶片层的尺寸可与每个叶片的宽度、每个叶片的长度、每个叶片的厚度等中的一个或以上相关。叶片层的尺寸可以是至少两个叶片的尺寸之和。如本文所用，叶片的宽度可指该叶片沿与叶片的移动方向(或指叶移动方向(例如，纵向))和辐射方向(例如，如图4A所示的z方向)正交方向(例如，如图4A所示的y方向)上的尺寸。叶片长度可指该叶片沿平行于叶片移动方向(例如，如图4A所示的纵向、x方向)上的尺寸。叶片的厚度(或高度)可指该叶片沿辐射方向(例如，如图4A所示的z方向)上的尺寸。在一些实施例中，叶片层中的一些或所有叶片中的每个叶片可以具有相同的宽度、相同的长度和/或相同的厚度。

在一些实施例中，每个叶片的形状或结构可以是非限制性的。为了便于说明，每个叶片的横截面可包括梯形、矩形等。每个叶片的端部可以是矩形、正方形、弧形等。在一些实施例中，波或类似几何形状可布置在叶片上，使得从辐射方向看，多个叶片可相互重叠。为了便于说明，叶片可包括凹槽和凸起。

在一些实施例中，叶片层还可包括导轨箱、至少两个驱动机构(例如，至少两个电机)和壳体(或托架)。在一些实施例中，壳体可以被配置为容纳该至少两个叶片。导轨箱可包括至少两个导轨。至少两个导轨中的每个导轨可以被配置为引导每个叶片的移动。至少两个驱动机构可以被配置为驱动至少两个叶片以沿着至少两个导轨移动。在一些实施例中，至少两个个叶片中的至少两个可以彼此平行地移动(例如，沿着如图4A所示x方向移动)。

在一些实施例中，可同时驱动或移动至少两个叶片中的至少一些叶片。通过同时驱动和/或移动至少两个叶片中的至少一些叶片，可以形成孔。从辐射源(例如，第一辐射源114)发射的辐射束的一部分可以穿过孔，并进一步传送到治疗区域(例如，肿瘤)。在一些实施例中，至少两个驱动机构可促进至少两个叶片的移动，使得叶片层可在第一个孔形状和第二个孔形状之间过渡。出于说明目的，每个叶片可以从第一位置转换到第二位置(例如，从关闭位置转换到目标位置)。

分辨率可用于表示治疗区域边界的精细程度。分辨率越高，治疗区域的边界可能越细。在一些实施例中，分辨率可与形成治疗区域边界的每个叶片的宽度相关。出于说明目的，可以基于至少两个台阶(例如，如图4B或图6B所示)形成治疗区域的边界，每个台阶可以具有与形成治疗区域边界的每个叶片相同的宽度。在一些实施例中，叶片的宽度越大，分辨率可能越小。通常，病灶的形状可以是不规则的，治疗区域(或孔)的边界可以是不规则的。为了更好地符合病灶的形状，治疗区域的边界应具有相对较高的分辨率。

网络120可以促进信息和/或数据的交换。在一些实施例中，放射治疗系统100的一个或以上组件(例如，辐射传送设备110、终端130、处理设备140或存储设备150)可以经由网络120向放射治疗系统100中的另一个组件发送信息和/或数据。例如，处理设备140可以经由网络120从存储设备150获得MLC的叶片层的尺寸。在一些实施例中，网络120可以是任何类型的有线或无线网络，或其组合。网络120可以是和/或包括公共网络(例如，因特网)、专用网络(例如，局域网(LAN)、广域网(WAN))等)、有线网络(例如，以太网)、无线网络(例如，802.11网络、Wi-Fi网络)、蜂窝网络(例如，长期演进(LTE)网络)，帧中继网络、虚拟专用网络(“VPN”)、卫星网络、电话网络、路由器、集线器、交换机、服务器计算机和/或其任何组合。仅作为示例，网络120可以包括电缆网络、有线网络、光纤网络、电信网络、内部网、因特网、局域网(LAN)、广域网(WAN)、无线局域网(WLAN)、城域网(MAN)、公共电话交换网(PSTN)，蓝牙TM网络、ZigBeeTM网络、近场通信(NFC)网络等或其任何组合。在一些实施例中，网络120可以包括一个或以上网络接入点。例如，网络120可包括有线或无线网络接入点，例如基站和/或因特网交换点，放射治疗系统100的一个或以上组件可通过其连接到网络120以交换数据和/或信息。

终端130可以包括移动设备130-1、平板计算机130-2、膝上型计算机130-3等或其任何组合。在一些实施例中，移动设备130-1可以包括智能家居设备、可穿戴设备、智能移动设备、虚拟现实设备、增强现实设备等，或其任意组合。在一些实施例中，智能家居设备可以包括智能照明设备、智能电器控制设备、智能监控设备、智能电视、智能摄像机、对讲机等，或其任意组合。在一些实施例中，可穿戴设备可包括手镯、脚套、眼镜、头盔、手表、衣服、背包、附件等或其任何组合。在一些实施例中，智能移动设备可以包括智能电话、个人数字助理(PDA)、游戏设备、导航设备、销售点(POS)等，或其任意组合。在一些实施例中，虚拟现实设备和/或增强现实设备可以包括虚拟现实头盔、虚拟现实眼镜、虚拟现实眼罩、增强现实头盔、增强现实眼镜、增强现实眼罩等，或其任意组合。例如，虚拟现实设备和/或增强现实设备可包括谷歌眼镜、Oculus Rift、HoloLens、Gear VR等。在一些实施例中，终端130可以远程操作辐射传送设备110。在一些实施例中，终端130可经由无线连接操作辐射传送设备110。在一些实施例中，终端130可以接收用户输入的信息和/或指令，并通过网络120将接收到的信息和/或指令发送给辐射传送设备110或处理设备140。在一些实施例中，终端130可以从处理设备140接收数据和/或信息。在一些实施例中，终端130可以是处理设备140的一部分。在一些实施例中，可以省略终端130。

在一些实施例中，处理设备140可以处理从辐射传送设备110、终端130或存储设备150获得的数据。例如，处理设备140可以确定是否存在第一区域。如本文所使用的，当第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏出，形成第一区域。

处理设备140可以是中央处理单元(CPU)、数字信号处理器(DSP)、芯片上系统(SoC)、微控制器单元(MCU)等或其任何组合。在一些实施例中，处理设备140可以是单个服务器或服务器组。服务器组可以是集中式的，也可以是分布式的。在一些实施例中，处理设备140可以是本地的或远程的。例如，处理设备140可以经由网络120访问存储在辐射传送设备110、终端130和/或存储设备150中的信息和/或数据。作为另一示例，处理设备140可以直接连接到辐射传送设备110(如图1中连接辐射传送设备110和处理设备140的虚线双向箭头)，终端130(如图1中连接终端130和处理设备140的虚线双向箭头)和/或存储设备150访问信息和/或数据。在一些实施例中，处理设备140可以在云平台上实现。仅作为示例，云平台可包括私有云、公共云、混合云、社区云、分布式云、云间云、多云等或其任何组合。在一些实施例中，处理设备140可以在具有本说明书图2中所示的一个或以上组件的计算设备200上实现。

存储设备150可以存储数据和/或指令。在一些实施例中，存储设备150可以存储从终端130和/或处理设备140获得的数据。在一些实施例中，存储设备150可以存储数据和/或指令，即处理设备140可以执行或用于执行本说明书中描述的示例性方法。在一些实施例中，存储设备150可包括大容量存储器、可移动存储器、易失性读写存储器、只读存储器(ROM)等或其任何组合。示例性大容量存储器可以包括磁盘、光盘、固态驱动器等。示例性可移动存储器可以包括闪存驱动器、软盘、光盘、内存卡、压缩盘、磁带等。示例性易失性读写内存可以包括随机存取内存(RAM)。示例性RAM可包括动态随机存取内存(DRAM)、双倍数据速率同步动态随机存取内存(DDRSDRAM)、静态随机存取内存(SRAM)、晶闸管随机存取内存(T-RAM)和零电容随机存取内存(Z-RAM)等。示例性ROM可包括掩模ROM(MROM)、可编程ROM(PROM)、可擦除可编程ROM(PEROM)、电可擦除可编程ROM(EEPROM)、光盘ROM(CD-ROM)和数字多功能磁盘ROM等。在一些实施例中，所述存储设备150可以在云平台上实现。仅作为示例，云平台可包括私有云、公共云、混合云、社区云、分布式云、云间云、多云等或其任何组合。

在一些实施例中，存储设备150可以连接到网络120以与放射治疗系统100的一个或以上组件(例如，终端130、处理设备140)通信。放射治疗系统100的一个或以上组件可以经由网络120访问存储在存储设备150中的数据或指令。在一些实施例中，存储设备150可直接连接到放射治疗系统100的一个或以上组件(例如，终端130、处理设备140)或与之通信。在一些实施例中，存储设备150可以是处理设备140的一部分。

图2是根据本说明书的一些实施例的计算设备的示例性硬件和/或软件组件的示意图。如图2所示，计算设备200可以包括处理器210、存储器220、输入/输出(I/O)230和通信端口240。

处理器210可以执行计算机指令(程序代码)，并且在执行指令时，使处理设备140根据本文描述的技术执行处理设备140的功能。计算机指令可以包括例如例程、程序、对象、组件、信号、数据结构、过程、模块和功能，它们执行本文描述的特定功能。在一些实施例中，处理器210可以处理从辐射传送设备110、终端130、存储设备150和/或放射治疗系统100的任何其他组件获得的数据和/或图像。例如，处理器210可以确定是否存在第一区域。如本文所使用的，当第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏出，形成第一区域。处理器210可使MLC的第二层叶片的至少一部分移动以遮挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分。在一些实施例中，处理器210可包括一个或以上硬件处理器，例如微控制器、微处理器、精简指令集计算机(RISC)、专用集成电路(ASIC)、专用指令集处理器(ASIP)、中央处理单元(CPU)、图形处理单元(GPU)，物理处理单元(PPU)、微控制器单元、数字信号处理器(DSP)、现场可编程门阵列(FPGA)、高级RISC机器(ARM)、可编程逻辑器件(PLD)、能够执行一个或以上功能的任何电路或处理器等或其任何组合。

仅仅为了说明，在计算设备200中仅描述了一个处理器。然而，应该注意，本说明书中的计算设备200还可以包括多个处理器。因此，如本说明书中所述的一个处理器执行的操作和/或方法步骤也可以由多个处理器联合或单独地执行。例如，如果在本公开中，计算设备200的处理器同时执行过程A和过程B，应当理解，过程A和过程B也可以由计算设备200中的两个或以上不同处理器共同或单独地执行(例如，第一处理器执行过程A，第二处理器执行过程B，或者第一和第二处理器共同执行过程A和B)。

存储器220可存储从辐射传送设备110、终端130、存储设备150或放射治疗系统100的任何其它部件获得的数据/信息。在一些实施例中，存储器220可包括大容量存储设备、可移动存储设备、易失性读写存储器、只读存储器(ROM)等或其任何组合。例如，大容量存储器可以包括磁盘、光盘、固态驱动器等。可移动存储器可包括闪存驱动器、软盘、光盘、存储卡、压缩盘、磁带等。易失性读写存储器可以包括随机存取存储器(RAM)。RAM可以包括动态RAM(DRAM)、双数据速率同步动态RAM(DDRSDRAM)、静态RAM(SRAM)、晶闸管RAM(T-RAM)和零电容RAM(Z-RAM)等。ROM可以包括掩模ROM(MROM)、可编程ROM(PROM)、可擦除可编程ROM(PEROM)、电可擦除可编程ROM(EEPROM)、光盘ROM(CD-ROM)和数字多功能磁盘ROM等。在一些实施例中，存储器220可以存储一个或以上程序和/或指令以执行本说明书中描述的示例性方法。

I/O230可以输入或输出信号、数据和/或信息。在一些实施例中，I/O230可启用用户与处理设备140的交互。在一些实施例中，I/O230可以包括输入设备和输出设备。示例性输入设备可包括键盘、鼠标、触摸屏、麦克风等，或其组合。示例性输出设备可包括显示设备、扬声器、打印机、投影仪等，或其组合。示例性显示设备可包括液晶显示器(LCD)、基于发光二极管(LED)的显示器、平板显示器、弯曲屏幕、电视设备、阴极射线管(CRT)等，或其组合。

通信端口240可以连接到网络(例如，网络120)以促进数据通信。通信端口240可以在处理设备140和辐射传送设备110、终端130或存储设备150之间建立连接。该连接可以是有线连接、无线连接或两者的组合，以实现数据传输和接收。有线连接可包括电缆、光缆、电话线等或其任何组合。无线连接可以包括蓝牙、Wi-Fi、WiMAX、WLAN、ZigBee、移动网络(例如3G、4G、5G等)等，或其组合。在一些实施例中，通信端口240可以是标准化的通信端口，例如RS232、RS485等。在一些实施例中，通信端口240可以是专门设计的通信端口。例如，可以根据数字成像和医学通信(DICOM)协议设计通信端口240。

图3是根据本说明书的一些实施例的移动设备的示例性硬件和/或软件组件的示意图。如图3所示，移动设备300可以包括通信平台310、显示器320、图形处理单元(GPU)330、中央处理单元(CPU)340、I/O350、内存360和存储器390。在一些实施例中，任何其他合适的组件，包括但不限于系统总线或控制器(未示出)，也可包括在移动设备300内。在一些实施例中，移动操作系统370(例如，iOS、Android、WindowsPhone等)和一个或以上应用380可以从存储器390加载到内存360中，以便由CPU 340执行。应用380可以包括浏览器或任何其他合适的移动应用，用于从处理设备140接收和呈现与图像处理相关的信息或其他信息。用户与信息流的交互可经由I/O350实现，并经由网络120提供给处理设备140和/或放射治疗系统100的其他组件。

为了实施本说明书描述的各种模块、单元及其功能，计算机硬件平台可用作本文中描述的一个或以上组件的硬件平台。此类计算机的硬件元件、操作系统和编程语言本质上是常规的，并且假定本领域技术人员对这些技术足够熟悉，以使这些技术适应于遮挡除本文所述的治疗区域之外的区域中的漏射辐射束的至少一部分。具有用户界面元件的计算机可用于实现个人计算机(PC)或另一类型的工作站或终端设备，但如果适当编程，计算机也可充当服务器。相信本领域技术人员熟悉此类计算机设备的结构、编程和一般操作，因此，附图应当是自解释的。

图4A是根据本说明书的一些实施例所示的示例性放射治疗系统的示意图。图4B是根据本说明书的一些实施例所示的放射治疗系统的端部区域内的示例性漏射辐射束的截面图。应该注意的是，图4A-4B仅示出放射治疗系统400的一部分部件。放射治疗系统400的该部分部件可以被配置为形成一个孔，辐射束的一部分可以通过该孔传送到治疗区域。放射治疗系统400还可包括成像组件(例如，CT、CBCT)、治疗辐射源(例如，第一辐射源114)、机架(例如，机架111)、床(例如，床115)等。

如图4A-4B所示，放射治疗系统400可以包括具有单层叶片的MLC。该单层叶片可以是图1中描述的叶片层的示例。该MLC(或该层叶片)可包括两组相对的叶片，即第一组叶片410-1(也被称为“叶片410-1”)和第二组叶片410-2(也被称为“叶片410-2”)。每个叶片的横截面可以是矩形。每个叶片可包括第一端(也被称为“前端”)和第二端(也被称为“后端”)，该第一端和第二端为位于该叶片沿叶片纵向(例如，沿x方向)的端部。叶片的前端412可以指该叶片面对另一个叶片后端的端部，后端414可以指该叶片的另一端部。如图4B所示，MLC的叶片的投影可由虚线矩形表示。

如图4B所示，矩形440可表示辐射区域(例如，第一辐射源114的辐射区域的最大值)。与上述放射治疗系统100类似，放射治疗系统400可以形成一个孔，一部分辐射束通过该孔被传送到治疗区域。由叶片410-1和叶片410-2的前端形成的区域可以构成治疗区域，例如，如图4B所示的区域420。在一些实施例中，对象的病灶(例如，肿瘤)可位于区域420处用于放射治疗。

如图1所述，区域420可以符合病灶的形状。为了减少辐射束对对象正常部分(例如，正常组织)的损害，应阻挡辐射束传递到区域420以外的区域。然而，如图4B所示，除区域420外，MLC仅可以遮挡由虚线矩形覆盖的区域内的辐射束，并不能阻挡一个或以上区域(例如，区域430-1、区域430-2、区域430-3和区域430-4，统称为“端部区域”)中漏射辐射束的路径。

如图4B所示，区域430-1和区域430-3可以位于区域420(即，辐射区域)的左侧。区域430-2和区域430-4可以位于区域420的右侧。应当注意，由区域430-1、区域430-2、区域430-3和区域430-4构成的端部区域可以是示例性的。端部区域还可以包括左侧的至少一个区域和/或右侧的至少一个区域(图4B中未示出)。例如，端部区域可以包括左侧的两个区域。作为另一示例，端部区域可以包括右侧的两个区域。作为进一步的示例，端部区域可以包括右侧的一个区域和左侧的一个区域。

如图4B所示，实线460可以表示矩形440的中心线。每个叶片可以具有相同的长度，并且长度可以小于矩形440长度的一半。实线470-1(也被称为“第一条线”)和矩形440的左边缘之间的距离可以与叶片的长度相同。区域430-1和区域430-3可由穿过实线470-1的一个或以上叶片410-1形成。类似地，实线470-2(也被称为“第二条线”)和矩形440的右边缘之间的距离可以与叶片的长度相同。区域430-2和区域430-4可由穿过实线470-2的一个或以上叶片410-2形成。需要注意的是，第一条线和第二条线可能会互换。例如，实线470-1可以被确定为第二条线，实线470-2可以被确定为第一条线。

区域430-1、区域430-2、区域430-3和区域430-4的每个边界可以基于第一组叶片的一个或以上叶片的一个或以上第二端和辐射区域边界的第一部分来确定。如图4B所示，区域430-1的边界可以基于上侧的三个叶片的第二端和辐射区域的两个边缘(即，左边缘、上边缘)来确定。区域430-2的边界可以基于上侧的六个叶片的第二端和辐射区域的两个边缘(即，右边缘、上边缘)来确定。区域430-3的边界可基于下侧的五个叶片的第二端和辐射区域两个边缘(即，左边缘、下边缘)来确定。区域430-4的边界可基于下侧的两个叶片的第二端和辐射区域的两个边缘(即，右边缘、下边缘)来确定。

图5A是根据本说明书的一些实施例所示的示例性放射治疗系统的示意图。图5B是根据本说明书的一些实施例所示的放射治疗系统的端部区域内的示例性漏射辐射束的截面图。应该注意的是，图5A-5B仅示出放射治疗系统500的一部分部件。放射治疗系统500的该部件部分可以被配置为形成一个孔，辐射束的一部分通过该孔传送到治疗区域。放射治疗系统500还可以包括成像组件(例如，CT、CBCT)、治疗辐射源(例如，第一辐射源114)、机架(例如，机架111)、床(例如，床115)等。

放射治疗系统500可以包括具有两层叶片的MLC。两层叶片中的每一层可以类似于或与图1中描述的叶片层相同。如图5A-5B所示，MLC的第一层叶片可包括第一组叶片510-1(也被称为“叶片510-1”)和第二组叶片510-2(也被称为“叶片510-2”)。每个叶片的横截面可以是矩形。每个叶片可包括第一端(也被称为“前端”)和第二端(也被称为“后端”)，该第一端和第二端可以是该叶片位于沿叶片纵向(例如，沿x方向)的端部。叶片的前端512可以指该叶片面对另一个叶片后端的端部，后端514可以指该叶片的另一端部。如图5B所示，第一层叶片的投影可以用虚线矩形表示。

MLC的第二层叶片可位于第一层叶片的上方。第二层叶片可以包括第一组叶片550-1(也被称为“叶片550-1”)和第二组叶片550-2(也被称为“叶片550-2”)。每个叶片的横截面可以是矩形。每个叶片可包括第一端(也被称为“前端”)和第二端(也被称为“后端”)，该第一端和第二端可以是该叶片位于沿叶片纵向(例如，沿x方向)的端部。叶片的前端552可以指该叶片面对另一个叶片后端的端部，后端554可以指叶片的另一端部。如图5B所示，第二层叶片的投影可由实线矩形表示。

如图5B所示，矩形540可以表示辐射区域(例如，第一辐射源114的辐射区域的最大值)。与上述放射治疗系统100类似，放射治疗系统500可以形成一个孔，一部分辐射束通过该孔被传送到治疗区域。由叶片510-1、叶片510-2、叶片550-1和叶片550-2的前端形成的区域可构成治疗区域，例如，如图5B所示的区域520。在一些实施例中，对象的病灶(例如，肿瘤)可位于区域520处用于放射治疗。

如图1所述，区域520可符合病灶的形状。为了减少辐射束对对象正常部分(例如，正常组织)的损害，应阻挡辐射束传递到区域520以外的区域。然而，如图5B所示，除了区域520之外，MLC仅可以遮挡由虚线矩形和实线矩形覆盖的区域内的辐射束，并不能阻挡一个或以上区域内漏射辐射束的路径，例如，区域530-1和区域530-3(也被称为“端部区域”)。

区域530-1和区域530-3可以位于区域520的左侧(即，辐射区域)。应当注意，由区域530-1和区域530-3构成的端部区域可以是示例性的。端部区域还可包括辐射区域左侧的至少一个区域和右侧的至少一个区域等。例如，端部区域可以包括左侧的两个区域。作为另一示例，端部区域可以包括右侧的两个区域。作为进一步的示例，端部区域可以包括右侧的一个区域和左侧的一个区域。

如图5B所示，虚线560可表示矩形540的中心线。每个叶片可以具有相同的长度，并且长度可以等于矩形540长度的一半。区域530-1和区域530-3可由穿过虚线560的一个或以上叶片510-1和/或一个或以上叶片550-1形成。类似地，当一个或以上叶片510-2和/或一个或以上叶片550-2穿过虚线560(图5B中未示出)时，MLC可能无法阻挡在辐射区域内的至少一个区域内漏射的辐射束。

在一些实施例中，为了解决图1和图4A-5B中描述的问题(端部区域内的漏射辐射束)，本说明书的实施例可提供放射治疗系统。该放射治疗系统可以至少包括具有至少一层叶片的MLC和至少一个块。至少一层叶片中的每一层可以是图1中描述的叶片层的示例。每层叶片可以包括两组相对的叶片，即第一组叶片和第二组叶片。叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内的辐射束的第一部分的路径。辐射束的第二部分可以入射到放射治疗系统100的治疗区域。如上所述，治疗区域应符合病灶的形状，对象的病灶(例如，肿瘤)可位于放射治疗的治疗区域。因此，辐射束的第一部分和/或第二部分可能与病灶的形状有关。出于说明目的，辐射束的第一部分可包括除治疗区域内辐射束的一部分(例如，第二部分)之外的辐射束的至少一部分。

在一些实施例中，至少一个块可由不透辐射的材料(例如，钨、铅、钢合金、钨合金)制成。至少一个块可以沿着辐射束朝向对象的方向布置。至少一个块可以被配置为遮挡除治疗区域之外的区域(例如，端部区域)内漏射辐射束的至少一部分。在一些实施例中，至少一个块的投影可以至少覆盖端部区域，从而阻挡端部区域内的漏射辐射束的至少一部分。因此，漏射辐射束的至少一部分可能无法投射在对象上，从而减少漏射辐射束对对象正常部分的损害。

在一些实施例中，至少一层叶片中的每一层叶片可以与图1中描述的叶片层相似或相同。至少一层叶片中的每一层可包括第一组叶片和第二组叶片。如上所述，MLC(或该至少一层叶片)可被配置为形成一个孔，辐射束的一部分通过该孔被传送到治疗区域。在一些实施例中，治疗区域可符合病灶的形状，对象的病灶(例如，肿瘤)可位于放射治疗的治疗区域。

孔(或治疗区域)可以根据对象病灶的形状改变。在一些实施例中，可通过将第一组叶片中的至少一个叶片或第二组叶片中的至少一个叶片从至少一个第一位置(例如，形成第一个孔)移动到至少一个第二位置(例如，形成第二个孔)来改变孔。

与图4A-5B所述的系统类似，当MLC中的至少一个叶片移动时，端部区域可可能在辐射区域内形成端部区域，从而MLC可能无法阻挡端部区域内漏射辐射束的路径。在一些实施例中，当至少一个叶片中的一个或以上叶片的一个或以上第二端在辐射区域的边界内时，MLC可能无法阻挡端部区域内漏射辐射束的路径。与治疗区域类似，当第一组叶片中的至少一个叶片或第二组叶片中的至少一个叶片从至少一个第一位置移动到至少一个第二位置时，可以改变端部区域的面积。

在一些实施例中，端部区域可包括第一部分(例如，如图4B所示的区域430-1和区域430-3)。当至少一层叶片中的至少一层中的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一部分被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成该第一部分。也就是说，一个或以上叶片的一个或以上第二端(或后端)可以在辐射区域的边界内。第一部分的边界的确定可以类似于或与图2和图4A-4B所述的端部区域相同，此处不再重复。

在一些实施例中，第一条线可与第一组叶片中的每一个叶片的长度和辐射区域的长度相关。出于说明目的，第一组叶片中的每一个叶片的长度可以相同，辐射区域的第一边缘和第一条线之间的距离可以等于第一组叶片中的每一个叶片的长度。第一边缘可指辐射区域边界沿纵向相对远离第二组叶片的边缘。在一些实施例中，当第一组叶片中的每一个叶片的长度是辐射区域长度的一半时，第一条线可以是辐射区域的中心线(例如，如图5B所示的虚线560)。在一些实施例中，当第一组叶片中的每一个叶片的长度小于辐射区域长度的一半时，第一条线可以是一条与辐射区域的中心线平行的线(例如如图4B所示的实线470-1)。

在一些实施例中，端部区域可包括第二部分(例如，如图4B所示的区域430-2和区域430-4)。当至少一层叶片中的至少一层中的第二组叶片中的一个或以上叶片穿过第二条线时，使得该第二部分被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成该第二部分。也就是说，一个或以上叶片的一个或以上第二端(或后端)可以在辐射区域的边界内。端部区域的边界的确定可以类似于或与4A-4B所述的端部区域相同，此处不再重复。在一些实施例中，类似于第一条线，第二条线可与第二组叶片中的每一个叶片的长度相关。出于说明目的，第二组叶片中的每一个叶片的长度可以相同，辐射区域的第二边缘和第二条线之间的距离可以等于第二组叶片中的每一个叶片的长度。第二边缘可指辐射区域边界沿纵向相对远离第一组叶片的边缘。在一些实施例中，当第二组叶片的每一个的长度是辐射区域长度的一半时，第二条线可以是辐射区域的中心线(例如，如图5B所示的虚线560)。在一些实施例中，当第一组叶片中的每一个叶片的长度小于辐射区域长度的一半时，第二条线可以是一条与辐射区域的中心线平行的线(例如，如图4B所示的实线470-2)。

在一些实施例中，至少一个块中的每个块的尺寸(例如，宽度、长度、厚度(或高度))可与，第一组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、至少一层叶片中的每一层叶片的尺寸、第一组叶片中的至少一个叶片的长度、或第二组叶片中的至少一个叶片的长度等或其任何组合，相关。如本文所用，块的宽度可指该块沿与叶片的移动方向(或指叶片移动方向(例如，纵向))和辐射方向(例如，如图4A所示的z方向)正交方向上的尺寸(例如，如图4A所示的y方向)。块的长度可以指该块沿平行于叶片的移动方向(例如，如图4A所示的纵向、X方向)上的尺寸。块的厚度(或高度)可以指该块沿着辐射方向(例如，如图4A所示的z方向)的尺寸。

在一些实施例中，第一参考距离和第二参考距离可以相同。第一组叶片中的至少一个叶片的长度和第二组叶片中的至少一个叶片的长度可以相同。在一些实施例中，如果第一组叶片中的至少一个叶片的长度或第二组叶片中的至少一个叶片的长度保持不变，若第一参考距离或第二参考距离越大，至少一个块中的每个块的长度可能越大。在一些实施例中，如果第一参考距离或第二参考距离保持不变，若第一组叶片中的至少一个叶片的长度或第二组叶片中的至少一个叶片的长度越大，至少一个块中的每个块的长度可能越小。

如本文所使用的，至少一层叶片中的每一叶片层的尺寸可指在二维中该叶片层的长度和该叶片层宽度。在一些实施例中，该叶片层的长度可以等于每个叶片的长度。该叶片层的宽度可以是第一组叶片或第二组叶片的宽度之和。在一些实施例中，若至少一层叶片中的每一层的宽度越大，至少一个块中的每一块的宽度可以越大。在一些实施例中，每层叶片可以具有相同的厚度。用于容纳MLC和至少一个块的空间可以是不可改变的，若MLC中叶片层的数量或计数越大，至少一个块的厚度可能越小。

在一些实施例中，至少一个块的尺寸还可以和该至少一个块的安装模式有关。在第一安装模式下，至少一个块可以随MLC移动。至少一个块所遮挡的区域可以随MLC的移动而改变。在一些实施例中，该至少一个块可以移动到使该至少一个块的投影至少覆盖端部区域的位置。在第二安装模式下，至少一个块可以是固定的。该至少一个块所遮挡的区域是固定的。在MLC的移动期间，该至少一个块的投影可以至少覆盖端部区域。在一些实施例中，在MLC的移动期间，该至少一个块的投影也可以与MLC部分重叠。在一些实施例中，使用第一安装模式下的至少一个块的尺寸可以相对小于使用第二安装模式下的至少一个块的尺寸。

在一些实施例中，至少一个块可以是可伸缩的。出于说明目的，如果不存在端部区域，至少一个块可以缩回。如果存在端部区域，至少一个块可伸出。在一些实施例中，至少一个块的第一部分可以是可移动的或可伸缩的。至少一个块的第二部分可以是固定的。

在一些实施例中，至少一个块的形状和/或尺寸可以基于经验数据或算法(例如，蒙特卡罗模拟算法等)来确定。只要至少一个块阻挡端部区域内的漏射辐射束的至少一部分，至少一个块的形状和尺寸可以是非限制性的。出于说明目的，至少一个块的形状可以包括矩形、正方形、圆形、多边形、梯形等。至少一个块的尺寸可以足够大，以阻挡端部区域内的漏射辐射束的至少一部分。在一些实施例中，当第一组叶片的一个或以上叶片穿过第一参考距离或第二组叶片的一个或以上叶片穿过第二参考距离并因此形成端部区域时，至少一个块可遮挡端部区域内漏射辐射束的至少一部分。

通过布置块，可减少传送到除对象病灶之外的正常部分(例如，周围正常组织)的辐射束，从而降低辐射对周围正常组织的相对毒性。至少一个块的投影可以至少覆盖端部区域，并且块的尺寸可以相对较小，因此占据放射治疗系统100的一小部分空间。此外，至少一个块的重量可以是相对较轻的，从而对放射治疗系统(例如，放射治疗系统的辐射传送设备)造成较小的负载。在一些情况下，通过调整至少一个块的尺寸，将MLC的每个叶片、设计成相对较小的长度，从而叶片可以更快地移动，缩短放射治疗的时间。

在一些实施例中，本说明书可以提供放射治疗系统。该放射治疗系统可以包括上述MLC、上述至少一个块和辐射源。该辐射源可以发射辐射束。如本文所使用的，该辐射源可类似于或与图1所述的第一辐射源114相同。

图6A-6B是根据本说明书一些实施例所示的示例性放射治疗系统的截面图。放射治疗系统600可以是上述放射治疗系统的示例。应该注意的是，图6A-6B仅示出放射治疗系统600的一部分部件。放射治疗系统600的该部分部件可以被配置为形成一个孔，辐射束的一部分通过该孔传送到治疗区域。放射治疗系统600还可以包括成像组件(例如，CT、CBCT)、治疗辐射源(例如，第一辐射源114)、机架(例如，机架111)、床(例如，床115)等。

放射治疗系统600可以包括具有单层叶片的MLC、第一块630-1和第二块630-2。MLC(或该层叶片)可包括第一组叶片610-1(也被称为“叶片610-1”)和第二组叶片610-2(也被称为“叶片610-2”)。第一块630-1可以位于叶片610-1上方。第二块630-2可以位于叶片610-2上方。

如图6B所示，MLC可以形成一个孔，一部分辐射束通过该孔被传送到治疗区域。由叶片610-1和叶片610-2的前端形成的区域可以构成治疗区域，例如，如图6B所示的区域620。矩形640可以表示辐射区域(第一辐射源114的辐射区域的最大值)。除治疗区域之外的区域内的辐射束可由MLC和两个块(即，第一块630-1、第二块630-2)遮挡。

图7是根据本说明书的一些实施例所示的示例性处理设备的模块图。处理设备140可以在如图2所示的计算设备200(例如，处理器210)或如图3所示的CPU 340上实现。处理设备140可以包括确定模块710和操控模块720。

处理设备140中的模块可以通过有线连接或无线连接或通信。有线连接可以包括金属电缆、光缆、混合电缆等或其任何组合。无线连接可以包括局域网络(LAN)、广域网络(WAN)、蓝牙、紫蜂网络、近场通信(NFC)等或其任意组合。

确定模块710可被配置为确定是否存在第一区域。如上所述，当第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成该第一区域。第一条线的更详细描述可在本说明书的其他地方找到。例如，参见图4A-6B。如果放射治疗系统仅包括MLC，则响应于第一区域存在的确定，操控模块720可使MLC的第二层叶片的一个或以上叶片移动以遮挡第一区域内漏射的辐射束的至少一部分。响应于第一区域不存在的确定，操控模块720可以使第二层叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的一部分。在一些实施例中，操控模块720可以使第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的一部分。在一些实施例中，操控模块720可以使第二层叶片中的所有叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的一部分。在一些实施例中，操控模块720可使第二层叶片的一个或以上叶片或第二层叶片的所有叶片与第一层叶片一起移动。

如果放射治疗系统还包括至少一个类似于或与图1和图6A-6B中所述的至少一个块相同的块，如果至少一个块是固定的，则至少一个块的投影可以遮挡第一区域中漏射的辐射束的至少一部分。响应于第一区域存在的确定，操控模块720可使第二层叶片中的一个或以上叶片或第二层叶片中的所有叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，操控模块720可使第二层叶片中的一个或以上叶片或第二层叶片中的所有叶片与第一层叶片一起移动。如果至少一个块是可移动的，则响应于第一区域存在的确定，操控模块720可以确定至少一个块是否能够移动。响应于所述至少一个块能够移动的确定，操控模块720可使至少一个块遮挡第一区域内漏射的辐射束的至少一部分，以及使第二层叶片中的一个或以上叶片或第二层叶片中的所有叶片移动以阻挡辐射束的第二部分中的至少一部分。在一些实施例中，操控模块720可以使第二层叶片中的一个或以上叶片或所有叶片与第一层叶片一起移动。响应于至少一个块不能移动的确定，操控模块720可以使第二层叶片的一个或以上叶片遮挡第一区域内泄露辐射束的至少一部分。

在一些实施例中，放射治疗系统可至少包括具有至少两层叶片的MLC。在一些实施例中，至少两层叶片可以堆叠布置。在一些实施例中，至少两层叶片可以平行排列并且具有偏移，使得第一层叶片中的每个叶片可以与另一层叶片中的叶片之间存在偏移，例如，在纵向上。叶片的至少一部分可以移动以阻挡辐射区域内第一部分辐射束的路径。辐射束的第二部分可以入射到放射治疗系统100的治疗区域。如上所述，治疗区域应符合病灶的形状。对象的病灶(例如，肿瘤)可能位于放射治疗的治疗区域。因此，辐射束的第一部分和/或第二部分可能与病灶的形状有关。出于说明目的，辐射束的第一部分可包括除治疗区域内辐射束的一部分(例如，第二部分)之外的辐射束的至少一部分。至少两层叶片中的每一层可以与图1中描述的叶片层相似或相同。

图8是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的示例性过程的流程图。过程800可以在图1所示的放射治疗系统100中实施。例如，过程800可以以指令(例如，应用)的形式存储在存储设备150和/或存储器220中，并由处理设备140(例如，图2所示的处理器210、图3所示的CPU 340或图7所示的处理设备140中的一个或以上模块)调用和/或执行。以下所示过程的操作仅出于说明的目的。在一些实施例中，过程800可以通过一个或以上未描述的附加操作来完成，和/或不需要讨论的一个或以上操作。另外，如图8所示和下文所述的过程800的操作的顺序并不旨在限制。

在810中，处理设备140(例如，确定模块710)可以确定是否存在第一区域。如上所述，当第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏出，形成第一区域。第一条线的更详细描述可以在本说明书的其他地方找到。例如，参见图4A-6B。

处理设备140(例如，操控模块720)可基于810中的确定结果，操作MLC的第二层叶片。出于说明目的，MLC可包括第一层叶片和第二层叶片。响应于第一区域存在的确定，在820中，处理设备140可使MLC的第二层叶片移动以遮挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分，从而可减少第一区域内漏射的辐射束对对象正常组织的损害。在一些实施例中，处理设备140可以将用于遮挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分的指令发送到第二层叶片。处理设备140可以将第二层叶片移动到遮挡漏射辐射束的至少一部分的位置。

在一些实施例中，处理设备140可以使第二层叶片的第一部分遮挡第一区域内漏射的辐射束的至少一部分。具体地说，处理设备140可以使第二层叶片的第二部分阻挡辐射束的第二部分。在一些实施例中，第二层叶片的第二部分还可以阻挡第一区域内子区域内的辐射束的至少一部分。此外，处理设备140可以使第二层叶片的第一部分遮挡除子区域之外的第一区域内的漏射辐射束的至少一部分。

第二层叶片的第二部分可与第一层叶片共同形成治疗区域。在一些实施例中，第二层叶片的第二部分可以与第一层叶片一起移动。治疗区域的边界可以基于至少两个台阶(例如，如图9C所示)形成，至少两个台阶中的至少一个台阶的宽度可以小于每个叶片的宽度。因此，与由第一层叶片形成的治疗区域的边界相比(例如，如图9A所示)，可以提高治疗区域边界的分辨率(或精细度)。

响应于第一区域不存在的确定，处理设备140(例如，操控模块720)可以使第二层叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，处理设备140可以使第二叶片的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，处理设备140可以使第二叶片的所有叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，处理设备140可以向第二层叶片发送用于移动以阻挡辐射束的第二部分的部分的指令。可以基于至少两个台阶(例如，如图9B所示)形成治疗区域的边界，至少两个台阶中的至少一个台阶的宽度可以小于每个叶片的宽度。因此，与由第一层叶片形成的治疗区域的边界相比，可以提高治疗区域的边界的分辨率(或精细度)(例如，如图9A所示)。

出于说明目的，MLC可以至少包括第一层叶片和第二层叶片。响应于第一区域存在的确定，处理设备140可使除第一层叶片和第二层叶片之外的一层或以上叶片的至少一部分移动以阻挡辐射束的第二部分。在一些实施例中，除了第一层叶片和第二层叶片之外的一层或以上叶片的至少一部分也可以阻挡第一区域内的第一子区域内的辐射束的至少一部分。此外，处理设备140可以使第二层叶片遮挡除第一子区域之外的第一区域内的漏射辐射光束的至少一部分。

类似地，在一些实施例中，处理设备140可使第二层叶片的第一部分遮挡第一区域内漏射的辐射束的至少一部分。具体地，处理设备140可以使第二层叶片的第二部分阻挡辐射束的第二部分。在一些实施例中，第二层叶片的第二部分还可以阻挡第一区域内第二子区域内的辐射束的至少一部分。此外，处理设备140可使第二层叶片的第一部分遮挡除第一子区域和第二子区域之外的第一区域内的漏射辐射束的至少一部分。

响应于第一区域不存在的确定，处理设备140(例如，操控模块720)可使该层或以上层叶片和第二层叶片的至少一部分移动以阻挡辐射束的第二部分。在一些实施例中，该层或以上层叶片的至少一部分和第二层叶片可以与第一层叶片一起移动。在一些实施例中，处理设备140可以将用于移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分的指令发送到除第一层叶片之外的叶片层。

通过提供上述方法，MLC可同时形成治疗区域并阻挡传送至除对象病灶之外的正常部分的漏射辐射束的至少一部分。在一些情况下，可以基于至少两个台阶形成治疗区域的边界，至少两个台阶中的至少一个台阶的宽度可以小于每个叶片的宽度。因此，与由第一层叶片形成的治疗区域的边界相比，可以提高治疗区域的边界的分辨率(或精细度)。

应当注意的是，以上描述仅出于说明的目的而提供，并不旨在限制本说明书的范围。对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本说明书的描述，做出各种各样的变化和修改。然而，这些变化和修改不脱离本说明书的范围。

图9A-9C是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的截面图。放射治疗系统可以是如图8所示的放射治疗系统的示例。应该注意的是，图9A-9C仅示出放射治疗系统的一部分部件。放射治疗系统的该部分部件可被配置为形成一个孔，一部分辐射束通过该孔传送到治疗区域。放射治疗系统还可以包括成像组件(例如，CT、CBCT)、治疗辐射源(例如，第一辐射源114)、机架(例如，机架111)、床(例如，床115)等。

放射治疗系统可以包括MLC。MLC可以具有第一层叶片和第二层叶片。如图所示9A-9C，实线矩形可以表示第一层叶片中的叶片。虚线矩形可以表示第二层叶片中的叶片。矩形940可以表示第一辐射源114的辐射区域。如图9A所示，第一层叶片可能无法阻挡第一区域内的漏射辐射束，可以移动第二层叶片以遮挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分。如图9B所示，第一层叶片可以阻挡第一区域内的漏射辐射束，第二层叶片可以与第一层叶片一起移动。如图9C所示，第一层叶片可能无法阻挡第一区域内漏射的辐射束，可以移动第二层叶片的一部分以遮挡第一区域内漏射的辐射束的至少一部分。第二层叶片的第二部分可以与第一层叶片共同形成治疗区域。

如图9A所示，可以基于至少两个台阶形成治疗区域920A的边界，每个台阶的宽度可以与第一层叶片的每个叶片的宽度相同。如图9B所示，可以基于至少两个台阶形成治疗区域920B的边界，每个台阶的宽度可以小于或等于第一层叶片或第二层叶片的每个叶片的宽度。如图9C所示，可以基于至少两个台阶形成治疗区域920C的边界，每个台阶的宽度可以小于或等于第一层叶片或第二层叶片中的每个叶片的宽度。如图1所述，分辨率可用于表示治疗区域(或孔)的边界的精细度。分辨率越高，治疗区域的边界可能更精细。治疗区域920B的边界的分辨率可以高于治疗区域920A的边界的分辨率。治疗区域920C的边界的分辨率可以高于治疗区域920A的边界的分辨率。

在一些实施例中，本说明书可以提供至少包括具有至少两层叶片的MLC和至少一个块的放射治疗系统。在一些实施例中，至少两层叶片可以堆叠布置。在一些实施例中，至少两层叶片可以平行排列并且具有偏移，使得第一层叶片中的每个叶片可以与第二层叶片中的叶片之间存在偏移，例如在纵向上。叶片的至少一部分可以是可移动的以阻挡治疗区域内的第一部分的辐射束的路径。MLC的辐射束的第二部分可以入射到放射治疗系统100的治疗区域。如上所述，治疗区域应符合病灶的形状。对象的病灶(例如，肿瘤)可以位于放射治疗的治疗区域。因此，辐射束的第一部分和/或第二部分可以与病灶的形状相关。出于说明的目的，辐射束的第一部分可以包括除治疗区域内辐射束的一部分(例如，第二部分)之外的辐射束的至少一部分。至少两层叶片中的每一层可以与图1中描述的叶片层相似或相同。

MLC可以位于第一平面。至少一个块可以位于与第一平面不同的第二平面。至少一个块可以被配置为阻挡除治疗区域之外的第一区域内的至少一部分漏射辐射束。如本文所用，MLC的第一层叶片可能无法阻挡第一区域内的漏射辐射束。在一些实施例中，至少一个块可以由不透辐射材料(例如，钨、铅、钢合金、钨合金)制成。至少一个块可以沿着辐射束朝向对象的方向布置。至少一个块的投影可以至少覆盖第一区域，从而阻挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分。至少一个块可以类似于或与图5A-5B中描述的至少一个块相同。关于至少一个块的更详细描述可在本说明书的其他地方找到。例如，参见图5A-5B及其说明。

图10是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统的示例性过程1000的流程图。过程1000可以在图1所示的放射治疗系统100中实现。例如，过程1000可以以指令(例如，应用程序)的形式存储在存储设备150和/或存储器220中，并由处理设备140(例如，图2所示的处理器210、图3所示的CPU 340或图7所示的处理设备140中的一个或以上模块)调用和/或执行。以下所示过程的操作仅出于说明的目的。在一些实施例中，过程1000可以用一个或以上未描述的附加操作来完成，和/或不用讨论的一个或以上操作。另外，如图10所示和下文所述的过程1000的操作的顺序并下面描述的不是限制性的。

在1010中，处理设备140(例如，确定模块710)可以确定是否存在第一区域。如上所述，当第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得该第一区域被暴露以允许辐射束的第一部分的至少一部分漏出，形成第一区域。第一条线的更详细描述可在本说明书的其他地方找到。例如，参见图4A-6B。

响应于第一区域存在的确定，处理设备140(例如，操控模块720)可操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个。在一些实施例中，如果至少一个块是固定的，则第一平面上的至少一个块的投影可以覆盖第一区域，从而阻挡第一区域内的漏射辐射束的至少一部分。在1030中，处理设备140可以操控除了MLC的第一层叶片之外的一层或以上叶片。在一些实施例中，处理设备140可以操控除第一层叶片之外的一层或以上叶片的至少一部分，以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，除第一层叶片以外的一层或以上层叶片的至少一部分可以与第一层叶片一起移动。

在一些实施例中，如果至少一个块是可移动的，处理设备140可以首先确定至少一个块是否能够移动。响应于至少一个块能够移动的确定，在1020中，处理设备140可使至少一个块移动以遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分。在1030中，处理设备140可以操控除MLC的第一层叶片之外的一层或以上叶片。在一些实施例中，处理设备140可以操控除第一层叶片之外的一层或以上叶片的至少一部分，以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，除第一层叶片之外的一层或以上叶片的至少一部分可以随着第一层叶片移动。响应于至少一个块不能移动的确定，处理设备140可以类似于过程800操控MLC，在此不再重复。

响应于第一区域不存在的确定，处理设备140可使除第一层叶片之外的一层或以上层叶片移动以形成治疗区域。在一些实施例中，处理设备140可以操控除了第一层叶片之外的一层或以上层叶片的至少一部分，以阻挡辐射束的第二部分的一部分。在一些实施例中，除第一层叶片以外的一层或以上层叶片的至少一部分可以与第一层叶片一起移动。

通过提供上述方法，当至少一个块未能阻挡至少一部分漏射辐射束时，可操控MLC以阻挡至少一部分漏射辐射束，从而确保漏射辐射束不会被传送到除对象的病灶之外的正常部分。在一些情况下，可以基于至少两个台阶形成治疗区域的边界。至少两个台阶中的至少一个台阶的宽度可以小于每个叶片的宽度。因此，与由第一层叶片形成的治疗区域的边界相比，可以提高治疗区域的边界的分辨率(或精细度)。

应当注意的是，以上描述仅出于说明的目的而提供，并不旨在限制本说明书的范围。对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本说明书的描述，做出各种各样的变化和修改。然而，这些变化和修改不脱离本说明书的范围。

图11A-11B是根据本说明书的一些实施例所示的操控放射治疗系统1100的截面图。放射治疗系统1100可以是图10中描述的放射治疗系统的示例。应该注意的是，图11A-11B仅说明放射治疗系统1100的一部分部件。放射治疗系统1100的该部分部件可被配置为形成孔，辐射束的一部分通过该孔被传送到治疗区域。放射治疗系统1100还可包括成像组件(例如，CT、CBCT)、治疗辐射源(例如，第一辐射源114)、机架(例如，机架111)、床(例如，床115)等。

放射治疗系统1100可以包括具有两层叶片的MLC、第一块1130-1和第二块1130-2。MLC的第一层叶片可以包括第一组叶片1110-1(也被称为“叶片1110-1”)和第二组叶片1110-2(也被称为“叶片1110-2”)。MLC的第二层叶片可以包括第一组叶片1150-1(也被称为“叶片1150-1”)和第二组叶片1150-2(也被称为“叶片1150-2”)。第一块1130-1可以位于叶片1110-1上方。第二块1130-2可以位于叶片1110-2上方。

如图11B所示，矩形1140可以表示辐射区域(第一辐射源114的辐射区域的最大值)。两层叶片可以相互移动以形成一个孔，一部分辐射束通过该孔被传送到治疗区域。由叶片1110-1、叶片1110-2、叶片1150-1和叶片1150-2的前端形成的区域可以构成治疗区域，例如，如图11B所示的区域1120。两个块在MLC的平面上的投影可以覆盖区域1130-1和区域1130-2，从而阻挡由区域1130-1以及区域1130-2构成的第一区域内的漏射辐射束。

上文已对基本概念做了描述，显然，对于阅读此申请后的本领域的普通技术人员来说，上述发明披露仅作为示例，并不构成对本说明书的限制。虽然此处并未明确说明，但本领域的普通技术人员可能会对本说明书进行各种修改、改进和修正。该类修改、改进和修正在本说明书中被建议，所以该类修改、改进、修正仍属于本说明书示范实施例的精神和范围。

同时，本说明书使用了特定词语来描述本说明书的实施例。例如“一个实施例”、“一实施例”、和/或“一些实施例”意指与本说明书至少一个实施例相关的某一特征、结构或特性。因此，应当强调并注意的是，本说明书中在不同位置两次或以上提及的“一实施例”或“一个实施例”或“一替代性实施例”并不一定是指同一实施例。此外，本说明书的一个或以上实施例中的某些特征、结构或特点可以进行适当的组合。

此外，本领域的普通技术人员可以理解，本说明书的各方面可以通过若干具有可专利性的种类或情况进行说明和描述，包括任何新的和有用的过程、机器、产品或物质的组合，或对其任何新的和有用的改进。因此，本说明书的各个方面可以完全由硬件、软件(包括固件、驻留软件、微代码等)或结合软件和硬件实现来实现，它们在本文中通常被称为“单元”、“模块”或“系统”。此外，本说明书的各个方面可以采取计算机程序产品的形式，该计算机程序产品体现在一个或以上计算机可读介质中，其上体现有计算机可读程序代码。

非暂时性计算机可读信号介质可以包括传播的数据信号，其中包含计算机可读程序代码，例如，在基带中或作为载波的一部分。此类传播信号可以有多种形式，包括电磁形式、光形式等或任何合适的组合。计算机可读信号介质可以是除计算机可读存储介质之外的任何计算机可读介质，该介质可以通过连接至少一个指令执行系统、装置或设备以实现通信、传播或传输供使用的程序。位于计算机可读信号介质上的程序代码可以通过任何合适的介质进行传播，包括无线电、电缆、光纤电缆、RF等，或任何上述介质的组合。

用于执行本说明书的方面的操作的计算机程序代码可以以一种或以上编程语言的任何组合来编写，包括面向对象的编程语言，如java、Scala、Simalltalk、Eiffel、JADE、Emerald、C++、C#、VB.NET、Python或者传统的过程编程语言，如“C”编程语言、VisualBasic、Fortran2003、Perl、COBOL2002、PHP、ABAP，动态编程语言，如Python、Ruby和Groovy，或其他编程语言。该程序代码可以完全在用户计算机上运行、或作为独立的软件包在用户计算机上运行、或部分在用户计算机上运行部分在远程计算机运行、或完全在远程计算机或服务器上运行。在后一种情况下，远程计算机可以通过任何类型的网络(包括局域网(LAN)或广域网(WAN))连接到用户计算机，或者可以与外部计算机建立连接(例如，通过使用网络服务提供商的网络)或在云计算环境中或作为服务提供，例如，软件服务(SaaS)。

此外，除非权利要求中明确说明，本说明书所述处理元素和序列的顺序、数字字母的使用、或其它名称的使用，并非用于限定本说明书流程和方法的顺序。尽管上述披露中通过各种示例讨论了一些目前认为有用的发明实施例，但应当理解的是，该类细节仅起到说明的目的，附加的权利要求并不仅限于披露的实施例，相反，权利要求旨在覆盖所有符合本说明书实施例实质和范围的修正和等价组合。例如，尽管上述各种组件的实现可以体现在硬件设备中，但也可以实现为纯软件解决方案，例如，在现有服务器或移动设备上的安装。

同理，应当注意的是，为了简化本说明书披露的表述，从而帮助对一个或以上发明实施例的理解，前文对本说明书的实施例的描述中，有时会将多种特征归并至一个实施例、附图或对其的描述中。然而，本说明书的该方法不应被解释为反映所声称的待扫描对象物质需要比每个权利要求中明确记载的更多特征的意图。相反，发明的主体应具备比上述单一实施例更少的特征。

在一些实施例中，表达数量、性质等的数字用于描述和要求本说明书的一些实施例应理解为在某些情况下通过术语“大约”、“近似”或“大体上”进行修改。除非另外说明，“大约”、“近似”或“大体上”表明所述数字允许有±20％的变化。相应地，在一些实施例中，说明书和权利要求中使用的数值参数均为近似值，该近似值根据个别实施例所需特点可以发生改变。在一些实施例中，数值参数应考虑规定的有效数位并采用一般位数保留的方法。尽管本说明书一些实施例中用于确认其范围广度的数值域和参数为近似值，在具体实施例中，此类数值的设定在可行范围内尽可能精确。

本文中提及的所有专利、专利申请、专利申请公布和其他材料(如论文、书籍、说明书、出版物、记录、事物和/或类似的东西)均在此通过引用的方式全部并入本文以达到所有目的，与上述文件相关的任何起诉文档记录、与本文件不一致或冲突的任何上述文件或对迟早与本文件相关的权利要求书的广泛范畴有限定作用的任何上述文件除外。举例来说，如果与任何合并材料相关的术语的描述、定义和/或使用与本文件相关的术语之间存在任何不一致或冲突，则应以本文件中的描述、定义和/或术语使用为准。

最后，应当理解的是，本说明书中所述实施例仅用以说明本说明书实施例的原则。其他的变形也可能属于本说明书的范围。因此，作为示例而非限制，本说明书实施例的替代配置可视为与本说明书的教导一致。相应地，本说明书的实施例不仅限于本说明书明确介绍和描述的实施例。

本说明书的一些实施例也可以实施如下：

实施例1：一种放射治疗系统，包括：

多叶准直器(MLC)，其中，所述MLC包括至少一层叶片，所述至少一层叶片中的每一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，所述第一组叶片和所述第二组叶片被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域内的至少一部分辐射束，当所述第一组叶片或所述第二组叶片中的至少一个叶片移动时，辐射区域中形成端部区域，使得MLC无法阻挡所述端部区域内漏射辐射束的路径；以及

位于MLC上方的至少一个块，其中，所述至少一个块被配置为遮挡所述端部区域内的漏射辐射束的至少一部分。

实施例2：根据实施例1所述的放射治疗系统，其中：

当所述第一组叶片中的至少一个叶片或所述第二组叶片中的至少一个叶片移动时，所述端部区域的面积是变化的。

实施例3：根据实施例1或2所述的放射治疗系统，其中：

所述端部区域包括第一部分，当所述第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时形成所述第一部分。

实施例4：根据实施例3所述的放射治疗系统，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片中的至少一个叶片的长度等于或短于辐射区域宽度的一半。

实施例5：根据实施例1-4中任一项所述的放射治疗系统，其中：

端部区域包括第二部分，当第二组叶片中的一个或以上叶片穿过第二条线时形成所述第二部分。

实施例6：根据实施例5所述的放射治疗系统，其中：

第二条线是所述辐射区域的中心线，以及

所述第二组叶片中的至少一个叶片的长度等于或短于所述辐射区域的宽度的一半。

实施例7：根据实施例1-6中任一项的放射治疗系统，其中：

所述第一组叶片中的每一个叶片具有相同的长度。

实施例8：根据实施例1-7中任一项的放射治疗系统，其中：

所述第二组叶片中的每一个叶片具有相同的长度。

实施例9：根据实施例1-8中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块包括位于所述第一组叶片上方的第一块和位于所述第二组叶片上方的第二块。

实施例10：根据实施例1-9中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块中的每个块的长度与以下至少一个相关：所述第一组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、所述第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、至少一层叶片中每层叶片的尺寸、所述第一组叶片中的至少一个叶片的长度或所述第二组叶片中的至少一个叶片的长度。

实施例11：根据实施例1-10中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块中的至少一个块可以与所述第一组叶片或所述第二组叶片一起移动。

实施例12：根据实施例1-10中任一项的放射治疗系统，其中，所述至少一个块中的至少一个是固定的。

实施方案13：根据实施例1-12中任一项的放射治疗系统，其中，所述至少一层叶片包括一层以上的叶片。

实施例14：根据实施例1-13中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述放射治疗系统的至少一部分被配置为形成治疗区域。

实施例15：根据实施例1-14中任一项所述的放射治疗系统，还包括在辐射区域内传递辐射束的辐射传送设备。

实施例16：一种操控放射治疗系统的方法，所述方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实现，其中：

放射治疗系统包括多叶准直器(MLC)，所述多叶准直器具有至少两层叶片，并且被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域中的至少一部分辐射束，

当MLC的第一层叶片移动未能阻挡漏射辐射束的路径时，在辐射区域内形成端部区域，以及所述方法包括：

确定MLC的第一层叶片是否未能遮挡端部区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

实施例17：根据实施例16所述的方法，其中，所述确定结果包括第一层叶片未能遮挡端部区域，以及所述操控MLC的第二层叶片包括：

使第二层叶片独立于第一层叶片移动，使得第二层叶片遮挡端部区域内漏射的辐射束的至少一部分。

实施例18：根据实施例16所述的方法，其中，所述确定结果包括第一层叶片能遮挡端部区域，以及所述操控MLC的第二层叶片包括：

使第二层叶片与第一层叶片一起移动。

实施例19：根据实施例16-18中任一项所述的方法，其中：

第一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，以及

当第一组叶片的至少一个叶片或第二组叶片的至少一个叶片移动时，改变端部区域的面积。

实施例20：根据实施例19所述的方法，其中：

端部区域包括当第一组叶片的一个或以上叶片穿过第一条线时形成的第一部分。

实施例21：根据实施例20所述的方法，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例22：根据实施例19所述的方法，其中：

端部区域包括当第二组叶片的一个或以上叶片穿过第二条线时形成的第二部分。

实施例23：根据实施例22的方法，其中：

第二条线是辐射区域的中心线，以及

第二组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例24：根据实施例16-23中任一项所述的方法，其中，所述至少两层叶片包括两层叶片。

实施例25：根据实施例16-24中任一项所述的方法，其中，所述MLC包括两层以上的叶片，以及所述方法包括：

使MLC除第二层叶片之外的至少一层叶片与所述第一层叶片一起移动。

实施例26：根据实施例16-25中任一项所述的方法，其中，放射治疗系统还包括位于MLC上方的至少一个块，以及所述方法还包括：

使用所述至少一个块遮挡端部区域内的至少一部分漏射的辐射束。

实施例27：一种系统，包括：

至少一个存储设备，包括一组操控放射治疗系统的指令集，其中：

放射治疗系统包括具有至少两层叶片的多叶准直器(MLC)，所述MLC被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域内的至少一部分辐射束，以及

当MLC的第一层叶片移动但不能阻挡漏射辐射束的路径时，在辐射区域内形成端部区域；以及

与至少一个存储设备通信的至少一个处理器，其中，当执行所述指令集时，所述至少一个处理器被配置为使所述系统执行以下操作：

确定MLC的第一层叶片是否未能遮挡端部区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

实施例28：根据实施例27所述的系统，其中，所述确定结果包括第一层叶片未能遮挡端部区域，以及为了操控MLC的第二层叶片，至少一个处理器被配置为使系统执行以下操作：

使所述第二层叶片独立于所述第一层叶片移动，使得所述第二层叶片遮挡端部区域内漏射的辐射束的至少一部分。

实施例29：根据实施例27所述的系统，其中，确定结果包括第一层叶片能够遮挡端部区域，以及为了操控MLC的第二层叶片，至少一个处理器被配置为使系统执行以下操作：

使所述第二层叶片与所述第一层叶片一起移动。

实施例30：根据实施例27-29中任一项所述的系统，其中：

所述第一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，以及

当第一组叶片的至少一个叶片或第二组叶片的至少一个叶片移动时，改变端部区域的面积。

实施例31：根据实施例30所述的系统，其中：

端部区域包括当第一组叶片的一个或以上叶片穿过第一条线时形成的第一部分。

实施例32：根据实施例31所述的系统，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例33：根据实施例30所述的系统，其中：

端部区域包括当第二组叶片中的一个或以上叶片穿过第二条线时形成的第二部分。

实施例34：根据实施例33所述的系统，其中：

第二条线是辐射区域的中心线，以及

第二组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例35：根据实施例27-34中任一项所述的系统，其中，至少两层叶片包括两层叶片。

实施例36：根据实施例27-35中任一项所述的系统，其中，MLC包括两层以上的叶片，以及所述至少一个处理器被配置为使系统执行包括：

使所述MLC除所述第二层叶片之外的至少一层叶片与所述第一层叶片一起移动。

实施例37：根据实施例28-36中任一项所述的系统，其中，放射治疗系统还包括位于MLC上方的至少一个块，以及至少一个处理器被配置为使系统执行以下操作：

使用至少一个块来遮挡端部区域内漏射的辐射束的至少一部分。

实施例38：一种操控放射治疗系统的方法，所述方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实现，其中：

放射治疗系统包括具有至少两层叶片的多叶准直器(MLC)和位于MLC上方的至少一个块，所述MLC被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域内的至少一部分辐射束，

当MLC的第一层叶片移动未能阻挡漏射辐射束的路径时，在辐射区域内形成端部区域，以及所述方法包括：

确定MLC的第一层叶片是否未能遮挡端部区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片和至少一个块。

实施例39：根据实施例38所述的方法，其中，所述确定结果包括第一层叶片未能遮挡端部区域，以及所述操控MLC的第二层叶片和至少一个块包括：

使至少一个块遮挡端部区域内漏射的辐射束的至少一部分；以及

使第二层叶片与第一层叶片一起移动。

实施例40：根据实施例38所述的方法，其中，确定结果包括第一层叶片能够遮挡端部区域，以及所述操控MLC的第二层叶片和至少一个块包括：

使第二层叶片与第一层叶片一起移动。

实施例41：根据实施例38-40中任一项所述的方法，其中：

第一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，以及

当第一组叶片的至少一个叶片或第二组叶片的至少一个叶片移动时，改变端部区域的面积。

实施例42：根据实施例41所述的方法，其中：

端部区域包括当第一组叶片的一个或以上叶片穿过第一条线时形成的第一部分。

实施例43：根据实施例42所述的方法，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例44：根据实施例41所述的方法，其中：

端部区域包括当第二组叶片中的一个或以上叶片穿过第二条线时形成的第二部分。

实施例45：根据实施例44所述的方法，其中：

第二条线是辐射区域的中心线，以及

第二组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例46：根据实施例41-45中任一项所述的方法，其中，至少一个块中的每个块的长度与以下至少一个相关：第一组叶片的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、至少一层叶片中每一层叶片的尺寸、第一组叶片中至少一个叶片的长度或第二组叶片中至少一个叶片的长度。

实施例47：根据实施例38-46中任一项所述的方法，其中，至少一个块中的至少一个块可与第一组叶片或第二组叶片一起移动。

实施例48：根据实施例38-47中任一项所述的方法，其中，至少一个块中的至少一个是固定的。

实施例49：根据实施例38-48中任一项所述的方法，其中，至少两层叶片包括两层叶片。

实施例50：一种系统，包括：

至少一个存储设备，包括操控放射治疗系统的一组指令集，其中：

放射治疗系统包括具有至少两层叶片的多叶准直器(MLC)和位于MLC上方的至少一个块，所述MLC被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域内的至少一部分辐射束，

当MLC的第一层叶片移动但未能阻挡漏射辐射束的路径时，在辐射区域内形成端部区域，以及所述至少一个处理器被配置为使系统执行以下操作：

确定MLC的第一层叶片是否未能遮挡端部区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片和至少一个块。

实施例51：根据实施例50所述的系统，其中，确定结果包括第一层叶片未能遮挡端部区域，以及为了操控MLC的第二层叶片和至少一个块，至少一个处理器被配置为使系统执行以下操作：

使至少一个块遮挡端部区域内漏射的辐射束的至少一部分；以及

使第二层叶片与第一层叶片一起移动。

实施例52：根据实施例50所述的系统，其中，确定结果包括第一层叶片能够遮挡端部区域，以及为了操控MLC的第二层叶片和至少一个块，至少一个处理器被配置为使系统执行以下操作：

使第二层叶片与第一层叶片一起移动。

实施例53：根据实施例50-52中任一项所述的系统，其中：

第一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，以及

当第一组叶片的至少一个叶片或第二组叶片的至少一个叶片移动时，改变端部区域的面积。

实施例54：根据实施例53所述的系统，其中：

端部区域包括当第一组叶片的一个或以上叶片穿过第一条线时形成的第一部分。

实施例55：根据实施例54所述的系统，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片的至少一个叶片的长度等于或短于辐射区域宽度的一半。

实施例56：根据实施例53所述的系统，其中：

端部区域包括当第二组叶片的一个或以上叶片穿过第二条线时形成的第二部分。

实施例57：根据实施例56所述的系统，其中：

第二条线是辐射区域的中心线，以及

第二组叶片中至少一个叶片的长度等于或小于辐射区域宽度的一半。

实施例58：根据实施例53-57中任一项所述的系统，其中，至少一个块中的每个块的宽度与以下至少一个相关：第一组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、至少一层叶片中每一层叶片的尺寸、第一组叶片中至少一个叶片的长度或第二组叶片中至少一个叶片的长度。

实施例59：根据实施例50-58中任一项所述的系统，其中，至少一个块中的至少一个块可与第一组叶片或第二组叶片一起移动。

实施例60：根据实施例50-59中任一项所述的系统，其中，至少一个块中的至少一个是固定的。

实施例61：根据实施例50-60中任一项所述的系统，其中，至少两层叶片包括两层叶片。

实施例62：一种非暂时性计算机可读介质，包括：

由至少一个处理器执行的指令，使至少一个处理器实现方法，其中：

放射治疗系统包括具有至少两层叶片的MLC，所述MLC被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域内的至少一部分辐射束，

当MLC的第一层叶片移动但未能阻挡漏射辐射束的路径时，在辐射区域内形成端部区域，以及所述方法包括：

确定MLC的第一层叶片是否未能遮挡端部区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

实施例63：一种非暂时性计算机可读介质，包括：

由至少一个处理器执行的一组指令，使至少一个处理器实现方法，其中：

放射治疗系统包括多叶准直器(MLC)，所述MLC具有至少两层叶片，所述MLC被配置为通过阻挡至少一部分辐射束的路径来遮挡辐射区域内的至少一部分辐射束，以及

当MLC的第一层叶片移动但未能阻挡漏射辐射束的路径时，在辐射区域内形成端部区域；以及

与至少一个存储设备通信的至少一个处理器，当执行所述组指令时，至少一个处理器被配置为使系统执行包括：

确定MLC的第一层叶片是否未能遮挡端部区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

实施例64：一种放射治疗系统，包括：

辐射源，被配置为发射辐射束；以及

位于第一平面的多叶准直器(MLC)，其中，MLC包括至少一层叶片，至少一层叶片中的每一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内第一部分辐射束的路径，其中，穿过MLC的辐射束的第二部分入射到放射治疗系统的治疗区域，放射治疗系统的等中心位于治疗区域内；以及

位于与第一平面不同的第二平面的至少一个块，其中，至少一个块被配置为遮挡端部区域内漏射辐射束的至少一部分，其中，当MLC未能阻挡端部区域内漏射辐射束的路径时，形成端部区域。

实施例65：根据实施例64所述的放射治疗系统，其中，MLC和至少一个块沿朝向对象辐射束的方向布置。

实施例66：根据实施例64或65所述的放射治疗系统，其中：

端部区域包括第一部分，当至少一层叶片中的至少一层的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域。

实施例67：根据实施例66所述的放射治疗系统，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片中的至少一个叶片的长度等于辐射区域的长度的一半。

实施例68：根据实施例66或67所述的放射治疗系统，其中：

端部区域包括第二部分，当至少一层叶片中的至少一层的第二组叶片中的一个或以上叶片穿过第二条线时，使得所述第二区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第二区域。

实施例69：根据实施例68所述的放射治疗系统，其中：

第二条线是辐射区域的中心线，以及

第二组叶片中的至少一个叶片的长度等于辐射区域的长度的一半。

实施例70：根据实施例64-69中任一项所述的系统，其中，至少一个块包括位于第二平面的第一块和第二块。

实施例71：根据实施例64-70中任一项所述的系统，其中，至少一个块或其一部分是可移动的。

实施例72：根据实施例64-71中任一项所述的系统，其中，至少一个块中的至少一个是固定的，以及至少一个块中的至少一个在第一平面上的投影与MLC至少部分重叠。

实施例73：根据实施例64-72中任一项所述的系统，其中，至少一个块中的每个块的尺寸与以下至少一个相关：第一组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、至少一层叶片的尺寸、第一组叶片中的至少一个叶片的长度或第二组叶片中的至少一个叶片的长度。

实施例74：一种操控多叶准直器(MLC)的方法，所述方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实现，其中：

MLC至少包括第一层叶片和第二层叶片，第一层叶片和第二层叶片中的每一层包括第一组叶片和第二组叶片，叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内第一部分辐射束的路径，其中，穿过MLC的辐射束的第二部分入射到放射治疗系统的治疗区域，放射治疗系统的等中心位于治疗区域内，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

实施例75：根据实施例74所述的方法，其中：

第一条线是辐射区域的中心线，以及

第一组叶片中的至少一个叶片的长度等于辐射区域的长度的一半。

实施例76：根据实施例74或75所述的方法，其中，确定结果包括存在第一区域，以及所述操控MLC的第二层叶片包括：

使第二层叶片移动以遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分。

实施例77：根据实施例74或75所述的方法，其中，确定结果包括第一区域不存在，以及所述操控MLC的第二层叶片包括：

使第二层叶片的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。

实施例78：一种操控放射治疗系统的方法，所述方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实现，其中：

放射治疗系统包括多叶准直器(MLC)和至少一个块，MLC包括至少一层叶片，至少一层叶片中的每一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，至少一部分叶片是可移动的以阻挡辐射区域内第一部分辐射束的路径，其中，穿过MLC的第二部分辐射束入射到放射治疗系统的治疗区域，放射治疗系统的等中心位于治疗区域内，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个。

实施例79：根据实施例78所述的方法，其中，至少一个块固定在第二平面上，以及至少一个块中的至少一个的投影与MLC至少部分地重叠。

实施例80：根据实施例78所述的方法，其中，确定结果包括第一个区域存在，以及所述操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个包括：

使第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。

实施例81：根据实施例78所述的方法，其中，至少一个块是可移动的，确定结果包括存在第一区域，以及所述操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个包括：

确定至少一个块是否能够移动；以及

基于第二确定结果，操控第二层叶片。

实施例82：根据实施例81所述的方法，其中，所述基于第二确定结果，操控第二层叶片包括：

响应于至少一块能够移动的第二确定结果，使至少一块遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分，以及使第二层叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分；或者

响应于至少一个块不能移动的第二确定结果，使第二层叶片遮挡通过第一区域漏射的辐射束的至少一部分。

实施例83：根据实施例78所述的方法，其中，确定结果包括第一区域不存在，以及所述操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个包括：

使第二层叶片的一个或以上叶片移动以阻挡辐射束的第二部分的一部分。

实施例84：一种非暂时性计算机可读介质，包括：

由至少一个处理器执行的指令，使至少一个处理器实现方法，其中：

多叶准直器(MLC)包括至少第一层叶片和第二层叶片，第一层叶片和第二层叶片中的每一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，至少一部分叶片是可移动的以阻挡辐射区域内第一部分辐射束的路径，其中，穿过MLC的第二部分辐射束入射到放射治疗系统的治疗区域，放射治疗系统的等中心位于治疗区域内，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控MLC的第二层叶片。

实施例85：一种非暂时性计算机可读介质，包括：

由至少一个处理器执行的指令，使至少一个处理器实现方法，其中：

放射治疗系统包括：

多叶准直器(MLC)和至少一个块，MLC包括至少一层叶片，所述至少一层叶片中的每一层叶片包括第一组叶片和第二组叶片，叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内第一部分辐射束的路径，其中，穿过MLC的辐射束的第二部分入射到放射治疗系统的治疗区域，放射治疗系统的等中心位于治疗区域内，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控至少一个块或MLC的第二层叶片中的至少一个。

Claims (20)

1.一种放射治疗系统，包括：

辐射源，被配置为发射辐射束；

多叶准直器(MLC)，位于第一平面，其中，所述MLC包括至少一层叶片，所述至少一层叶片中的每一层包括第一组叶片和第二组叶片，所述叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内的所述辐射束的第一部分的路径，其中，所述辐射束的第二部分入射在所述放射治疗系统的治疗区域；以及

至少一个块，位于与所述第一平面不同的第二平面，其中，所述至少一个块被配置为遮挡端部区域内漏射辐射束的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其中，所述MLC和所述至少一个块沿所述辐射束朝向对象的方向布置。

3.根据权利要求1或2所述的放射治疗系统，其中：

所述端部区域包括第一部分，当所述至少一层叶片的至少一层的所述第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一部分被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一部分。

4.根据权利要求3所述的放射治疗系统，其中：

所述第一条线是所述辐射区域的中心线，以及

所述第一组叶片中的至少一个叶片的长度等于所述辐射区域长度的一半。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块包括位于所述第二平面上的第一块和第二块。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块中的至少一个或其部分是可移动的。

7.根据权利要求1-6中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块中的至少一个是固定的，以及所述至少一个块中的至少一个在所述第一平面上的投影与所述MLC至少部分重叠。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的放射治疗系统，其中，所述至少一个块中的每一个的尺寸与以下至少一个有关：所述第一组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第一参考距离、所述第二组叶片中的至少一个叶片被允许移动的第二参考距离、所述至少一层叶片中每一层叶片的尺寸、所述第一组叶片中至少一个叶片的长度或所述第二组叶片中至少一个叶片的长度。

9.一种操控多叶准直器(MLC)的方法，所述方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实施，其中：

所述MLC至少包括第一层叶片和第二层叶片，所述第一层叶片和所述第二层叶片中的每一层包括第一组叶片和第二组叶片，所述叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内所述辐射束的第一部分的路径，其中，所述辐射束的第二部分入射在所述放射治疗系统的治疗区域，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，其中，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控所述MLC的所述第二层叶片。

10.根据权利要求9所述的方法，其中：

所述第一条线是所述辐射区域的中心线，以及

所述第一组叶片中的至少一个叶片的长度等于所述辐射区域长度的一半。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中，所述确定结果包括存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片包括：

使所述第二层叶片中的一个或以上叶片移动以遮挡通过所述第一区域漏射的辐射束的至少一部分。

12.根据权利要求9或10所述的方法，其中，所述确定结果包括不存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片包括：

使所述第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡所述辐射束的第二部分中的一部分。

13.一种操控放射治疗系统的方法，所述方法在具有至少一个处理器和至少一个计算机可读存储介质的计算设备上实施，其中：

所述放射治疗系统包括多叶准直器(MLC)和至少一个块，所述MLC包括至少一层叶片，所述至少一层叶片中的每一层包括第一组叶片和第二组叶片，所述叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径，其中，所述辐射束的第二部分入射在所述放射治疗系统的治疗区域，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，其中，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控所述至少一个块或所述MLC中的所述第二层叶片中的至少一个。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述至少一个块固定在所述第二平面上，以及所述至少一个块中的至少一个的投影与所述MLC至少部分重叠。

15.根据权利要求14所述的方法，其中，所述确定结果包括存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片包括：

使所述第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡所述辐射束的第二部分的一部分。

16.根据权利要求13所述的方法，其中，所述至少一个块是可移动的，所述确定结果包括存在所述第一区域，以及操控所述MLC的所述第二层叶片包括：

确定所述至少一个块是否能够移动；以及

基于第二确定结果，操控所述第二层叶片。

17.根据权利要求16所述的方法，其中，所述基于第二确定结果，操控所述第二层叶片包括：

响应于所述至少一个块能够移动的所述第二确定，使所述至少一个块遮挡通过所述第一区域漏射的所述辐射束的至少一部分，以及使所述第二层叶片的一个或以上叶片移动以阻挡所述辐射束的所述第二部分中的一部分；或

响应于所述至少一个块不能移动的所述第二确定，使所述第二层叶片中的一个或以上叶片遮挡通过所述第一区域漏射的所述辐射束的至少一部分。

18.根据权利要求13所述的方法，其中，所述确定结果包括不存在所述第一区域，以及基于第二确定结果，操控所述第二层叶片包括：

使所述第二层叶片中的一个或以上叶片移动以阻挡所述辐射束的第二部分中的一部分。

19.一种非暂时性计算机可读介质，包括：

由至少一个处理器执行的指令，使所述至少一个处理器实现方法，其中：

多叶准直器(MLC)至少包括：

第一层叶片和第二层叶片，所述第一层叶片和所述第二层叶片中的每一层包括第一组叶片和第二组叶片，所述叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径，其中，所述辐射束的第二部分入射在所述放射治疗系统的治疗区域，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，其中，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控所述MLC的所述第二层叶片。

20.一种非暂时性计算机可读介质，包括：

由至少一个处理器执行的指令，使所述至少一个处理器实现方法，其中：

放射治疗系统包括：

多叶准直器(MLC)和至少一个块，所述MLC至少包括第一层叶片和第二层叶片，所述第一层叶片和所述第二层叶片中的每一层包括第一组叶片和第二组叶片，所述叶片的至少一部分是可移动的以阻挡辐射区域内辐射束的第一部分的路径，其中，所述辐射束的第二部分入射在所述放射治疗系统的治疗区域，以及

所述方法包括：

确定是否存在第一区域，其中，当所述第一层叶片的第一组叶片中的一个或以上叶片穿过第一条线时，使得所述第一区域被暴露以允许所述辐射束的第一部分的至少一部分漏射通过，形成所述第一区域；以及

基于确定结果，操控所述至少一个块或所述MLC的所述第二层叶片中的至少一个。

Images