CN114166065B - 一种枪瞄设备十字分划校准方法及相关装置 - Google Patents

一种枪瞄设备十字分划校准方法及相关装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种枪瞄设备十字分划校准方法,包括:获取原始图像;根据原始图像的尺寸生成一测试图像;测试图像中设置有测量点,测量点在测试图像中的位置,与原始图像中十字分划标志点的位置相对应;对原始图像进行放大处理,并对测试图像进行同样的放大处理;根据放大后测试图像中多个测量点确定实际测量点;将实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;根据偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准。通过设置单独的测试图像,采用两路放大的方式实时的比较放大过程中十字分划的偏移量,从而可以实现自动对十字分划进行校准。本发明还提供了一种装置、设备及存储介质,同样具有上述有益效果。

Description

一种枪瞄设备十字分划校准方法及相关装置
技术领域
本发明涉及枪瞄类设备技术领域,特别是涉及一种枪瞄设备十字分划校准方法、一种枪瞄设备十字分划校准装置、一种枪瞄设备十字分划校准设备以及一种计算机可读存储介质。
背景技术
目前使用的枪瞄类设备存在十字分划,用于确定设计的目标,但是在使用的过程中为了能够更好的观察目标需要采取变倍,而变倍采取的大多是电子变倍,这样不仅可以满足效果,同时成本比较低廉,但是采取电子变倍也带来了一个严重的问题,那就是电子变倍采取的是像素之间的插值,是根据邻近的像素确定放大后的像素值,这时候本来十字分划对准的目标经过放大后出现了偏移,导致在射击过程中需要重新校准,操作麻烦不利于用户使用。所以如何提供一种对十字分划进行校准的技术方案是本领域技术人员急需解决的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种枪瞄设备十字分划校准方法,可以对十字分划进行校准;本发明的另一目的在于提供一种枪瞄设备十字分划校准装置、一种枪瞄设备十字分划校准设备以及一种计算机可读存储介质,可以对十字分划进行校准。
为解决上述技术问题,本发明提供一种枪瞄设备十字分划校准方法,包括:
获取原始图像;
根据所述原始图像的尺寸生成一测试图像;所述测试图像中设置有测量点,所述测量点在所述测试图像中的位置,与所述原始图像中十字分划标志点的位置相对应;
对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理;
根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点;
将所述实际测量点的位置与放大后所述原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;
根据所述偏移量对放大后所述原始图像中十字分划的位置进行校准。
可选的,所述对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理包括:
基于插值法对所述原始图像进行放大处理,并基于插值法对所述测试图像进行同样的放大处理。
可选的,在放大前,所述测试图像中测量点位置的灰度值为第一灰度值,所述测试图像中非测量点位置的灰度值为第二灰度值。
可选的,所述第一灰度值为255,所述第二灰度值为0。
可选的,所述根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点包括:
从放大后所述测试图像中的多个测量点,选取灰度值等于所述第一灰度值的测量点作为实际测量点。
可选的,所述根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点包括:
计算放大后所述测试图像中的多个测量点位置的中值点,作为实际测量点。
可选的,所述插值法为双线性插值、或双三次插值、或样条插值。
本发明还提供了一种枪瞄设备十字分划校准装置,包括:
获取模块,用于获取原始图像;
生成模块,用于根据所述原始图像的尺寸生成一测试图像;所述测试图像中设置有测量点,所述测量点在所述测试图像中的位置,与所述原始图像中十字分划标志点的位置相对应;
放大模块,用于对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理;
确定模块,用于根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点;
偏移量模块,用于将所述实际测量点的位置与放大后所述原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;
校准模块,用于根据所述偏移量对放大后所述原始图像中十字分划的位置进行校准。
本发明还提供了一种枪瞄设备十字分划校准设备,包括:
存储器,用于存储计算机程序;
处理器,用于执行所述计算机程序以实现如上述任意一项所述枪瞄设备十字分划校准方法的步骤。
本发明还提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行以实现如上述任意一项所述枪瞄设备十字分划校准方法的步骤。
本发明所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法,包括:获取原始图像;根据原始图像的尺寸生成一测试图像;测试图像中设置有测量点,测量点在测试图像中的位置,与原始图像中十字分划标志点的位置相对应;对原始图像进行放大处理,并对测试图像进行同样的放大处理;根据放大后测试图像中多个测量点确定实际测量点;将实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;根据偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准。
通过设置单独的测试图像,同时对原始图像以及测试图像进行相同的放大,采用两路放大的方式实时的比较放大过程中十字分划的偏移量,从而可以实现自动对十字分划进行校准。
本发明还提供了一种枪瞄设备十字分划校准装置、一种枪瞄设备十字分划校准设备以及一种计算机可读存储介质,同样具有上述有益效果,在此不再进行赘述。
附图说明
为了更清楚的说明本发明实施例或现有技术的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法的流程图;
图2为本发明实施例所提供的一种具体的枪瞄设备十字分划校准方法的流程示意图;
图3为本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准装置的结构框图;
图4为本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准设备的结构框图。
具体实施方式
本发明的核心是提供一种枪瞄设备十字分划校准方法。在现有技术中,电子变倍采取的是像素之间的插值,是根据邻近的像素确定放大后的像素值,这时候本来十字分划对准的目标经过放大后出现了偏移,导致在射击过程中需要重新校准,操作麻烦不利于用户使用。其中电子放大的原理,以x方向为例:
x_pos=x_dest*(dst_width/src_width);
其中x_dest表示目标像素的位置,src_width和dst_width分别表示原图像的宽度和需要放大的宽度,举例如图像宽度为src_width=400,放大2倍,那么dst_width=400/2=200,放大后的图像大小与原图一样为400,那么处在放大后图像200、201位置处的像素x_pos200=200*(200/400)=100,x_pos201=201*(200/400)=100.5,均为裁剪后处于100位置处的像素值,这是简单的最近邻差值的估算方法,当采用别的放大方法后,固定位置十字分划在放大后的图像的值无法准确估计,故出现十字分化的偏斜。
而本发明所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法,包括:获取原始图像;根据原始图像的尺寸生成一测试图像;测试图像中设置有测量点,测量点在测试图像中的位置,与原始图像中十字分划标志点的位置相对应;对原始图像进行放大处理,并对测试图像进行同样的放大处理;根据放大后测试图像中多个测量点确定实际测量点;将实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;根据偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准。
通过设置单独的测试图像,同时对原始图像以及测试图像进行相同的放大,采用两路放大的方式实时的比较放大过程中十字分划的偏移量,从而可以实现自动对十字分划进行校准。
为了使本技术领域的人员更好地理解本发明方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步的详细说明。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
请参考图1,图1为本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法的流程图。
参见图1,在本发明实施例中,枪瞄设备十字分划校准方法包括:
S101:获取原始图像。
在本步骤中,首先会获取原始图像。具体的,在本发明实施例中会在原始图像中设置十字分划,以进行瞄准准备。该原始图像中通常具有目标物以及复杂的背景。
S102:根据原始图像的尺寸生成一测试图像。
在本发明实施例中,所述测试图像中设置有测量点,所述测量点在所述测试图像中的位置,与所述原始图像中十字分划标志点的位置相对应。
在本步骤中,会生成一测试图像,要求该测试图像的尺寸与上述原始图像相同,该测试图像中设置有一测量点,该测量点的位置需要与原始图像中十字分划标志点的位置相对应,即该测量点在测试图像中的位置,需要与十字分划中心在原始图像中的位置相同。在本发明实施例中,通常还需要要求该测试图像不具有复杂的背景,以便在后续步骤中确定实际测量点。通常情况下,上述标志点为十字分划的中点,当然该标志点也可以为十字分划的其他点位,视具体情况而定,在此不做具体限定。
S103:对原始图像进行放大处理,并对测试图像进行同样的放大处理。
在本步骤中,需要对上述原始图像以及测试图像进行同样的放大操作,以避免误差的产生,便于后续步骤中对十字分划位置的校正。
具体的,本步骤通常包括:基于插值法对所述原始图像进行放大处理,并基于插值法对所述测试图像进行同样的放大处理。即在本发明实施例中,通常是基于插值法对原始图像进行放大,同时基于同样的插值法,对测试图像进行同比例同位置的放大,以生成放大后的原始图像以及放大后的测试图像。通常情况下,在对原始图像进行放大处理后,其十字分划的位置会发生偏移,十字分划中心点的位置会发生偏移。
具体的,在本发明实施例中上述插值法可以为双线性插值、或双三次插值、或样条插值。其具体内容可以根据实际情况自行设定,在此不做具体限定。
S104:根据放大后测试图像中多个测量点确定实际测量点。
在上述S103中对测试图像进行放大后,尤其是使用插值法将测试图像进行放大之后,由于算法本身的限制,会产生多个测量点,而在本步骤中会根据多个测量点确定实际测量点。有关实际测量点的具体确定方法将在下述发明实施例中做详细介绍,在此不再进行赘述。
S105:将实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量。
在本步骤中,会根据上述实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划的标志点位置做对比,确定十字分划的偏移量。
S106:根据偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准。
在本步骤中,需要根据上述偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准,通常是将十字分划的标志点位置与上述实际测量点相重合,以实现对十字分划的位置的校准。
本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法,包括:获取原始图像;根据原始图像的尺寸生成一测试图像;测试图像中设置有测量点,测量点在测试图像中的位置,与原始图像中十字分划标志点的位置相对应;对原始图像进行放大处理,并对测试图像进行同样的放大处理;根据放大后测试图像中多个测量点确定实际测量点;将实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;根据偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准。
通过设置单独的测试图像,同时对原始图像以及测试图像进行相同的放大,采用两路放大的方式实时的比较放大过程中十字分划的偏移量,从而可以实现自动对十字分划进行校准。
有关本发明所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法的具体内容将在下述发明实施例中做详细介绍。
请参考图2,图2为本发明实施例所提供的一种具体的枪瞄设备十字分划校准方法的流程示意图。
参见图2,在本发明实施例中,枪瞄设备十字分划校准方法包括:
S201:获取原始图像。
S202:根据原始图像的尺寸生成一测试图像。
上述S201至S202与上述发明实施例中S101至S 102基本一致,详细内容请参考上述发明实施例,在此不再进行赘述。
在本发明实施例中,上述测试图像中通常仅包括一测量点,即在放大前,所述测试图像中测量点位置的灰度值为第一灰度值,所述测试图像中非测量点位置的灰度值为第二灰度值。
即在本发明实施例中,测试图像通常为仅包括一测量点的空白图像,其中测量点位置的灰度值为第一灰度值,测试图像中非测量点位置的灰度值为第二灰度值,已将测量点与背景进行区分,且背景为同一的纯色背景,不具有杂色。需要说明的是,由于上述测试图像中的背景不是杂乱的,其场景与测量点可以通过灰度值进行区分,这样的话在无差异的变倍过程中十字分化的位置便可以准确估计,对于变倍后十字分化的偏斜可以进行校准。
具体的,在本发明实施例中,上述第一灰度值通常为255,上述第二灰度值为0。即上述测试图像通常为白色底,具有一黑色测量点的图像,该测量点的位置需要与原始图像中十字分划标志点的位置相对应。
S203:对原始图像进行放大处理,并对测试图像进行同样的放大处理。
本步骤与上述发明实施例中S103基本一致,详细内容已在上述发明实施例中做详细介绍,在此不再进行赘述。
S204:根据放大后测试图像中多个测量点确定实际测量点。
在本本发明实施例中,具体提供两种方法确定实际测量点。第一种,从放大后所述测试图像中的多个测量点,选取灰度值等于所述第一灰度值的测量点作为实际测量点。基于插值法所生成的多个测量点中,其灰度值进行裁剪后会发生变化。而多个测量点中灰度值等于上述第一灰度值的测量点为实际测量点,即放大后多个测量点中灰度值等于放大前原测量点灰度值的测量点,为实际测量点。因此,在本步骤中可以将放大后测试图像中灰度值等于第一灰度值的测量点作为实际测量点。
第二种,计算放大后所述测试图像中的多个测量点位置的中值点,作为实际测量点。在本种方案中,会将放大后多个测量点的中点,即测量点位置的中值点所对应的位置,作为实际测量点。
当然,在本发明实施例中也可以通过其他方式确定实际测量点,只要能实现对原始图像中十字分划位置进行校正即可,在此不做具体限定。
S205:将实际测量点的位置与放大后原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量。
S206:根据偏移量对放大后原始图像中十字分划的位置进行校准。
上述S205至S206与上述发明实施例中S105至S 106基本一致,详细内容请参考上述发明实施例,在此不再进行赘述。
本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法,通过设置单独的测试图像,同时对原始图像以及测试图像进行相同的放大,采用两路放大的方式实时的比较放大过程中十字分划的偏移量,从而可以实现自动对十字分划进行校准。
下面对本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准装置进行介绍,下文描述的枪瞄设备十字分划校准装置与上文描述的枪瞄设备十字分划校准方法可相互对应参照。
请参考图3,图3为本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准装置的结构框图。参照图3,枪瞄设备十字分划校准装置可以包括:
获取模块100,用于获取原始图像。
生成模块200,用于根据所述原始图像的尺寸生成一测试图像;所述测试图像中设置有测量点,所述测量点在所述测试图像中的位置,与所述原始图像中十字分划标志点的位置相对应。
放大模块300,用于对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理。
确定模块400,用于根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点。
偏移量模块500,用于将所述实际测量点的位置与放大后所述原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量。
校准模块600,用于根据所述偏移量对放大后所述原始图像中十字分划的位置进行校准。
作为优选的,在本发明实施例中,放大模块300具体用于:
基于插值法对所述原始图像进行放大处理,并基于插值法对所述测试图像进行同样的放大处理。
作为优选的,在本发明实施例中,在放大前,所述测试图像中测量点位置的灰度值为第一灰度值,所述测试图像中非测量点位置的灰度值为第二灰度值。
作为优选的,在本发明实施例中,所述第一灰度值为255,所述第二灰度值为0。
作为优选的,在本发明实施例中,确定模块400具体用于:
从放大后所述测试图像中的多个测量点,选取灰度值等于所述第一灰度值的测量点作为实际测量点。
作为优选的,在本发明实施例中,确定模块400具体用于:
计算放大后所述测试图像中的多个测量点位置的中值点,作为实际测量点。
作为优选的,在本发明实施例中,所述插值法为双线性插值、或双三次插值、或样条插值。
本实施例的枪瞄设备十字分划校准装置用于实现前述的枪瞄设备十字分划校准方法,因此枪瞄设备十字分划校准装置中的具体实施方式可见前文中的枪瞄设备十字分划校准方法的实施例部分,例如,获取模块100,生成模块200,放大模块300,确定模块400,偏移量模块500,校准模块600分别用于实现上述枪瞄设备十字分划校准方法中步骤S 101至S106,所以,其具体实施方式可以参照相应的各个部分实施例的描述,在此不再赘述。
下面对本发明实施例提供的一种枪瞄设备十字分划校准设备进行介绍,下文描述的枪瞄设备十字分划校准设备与上文描述的枪瞄设备十字分划校准方法以及枪瞄设备十字分划校准装置可相互对应参照。
请参考图4,图4为本发明实施例所提供的一种枪瞄设备十字分划校准设备的结构框图。
参照图4,该枪瞄设备十字分划校准设备可以包括处理器11和存储器12。
所述存储器12用于存储计算机程序;所述处理器11用于执行所述计算机程序时实现上述发明实施例中所述的枪瞄设备十字分划校准方法的具体内容。
本实施例的枪瞄设备十字分划校准设备中处理器11用于安装上述发明实施例中所述的枪瞄设备十字分划校准装置,同时处理器11与存储器12相结合可以实现上述任一发明实施例中所述的枪瞄设备十字分划校准方法。因此枪瞄设备十字分划校准设备中的具体实施方式可见前文中的枪瞄设备十字分划校准方法的实施例部分,其具体实施方式可以参照相应的各个部分实施例的描述,在此不再赘述。
本发明还提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现上述任一发明实施例中所介绍的一种枪瞄设备十字分划校准方法。其余内容可以参照现有技术,在此不再进行展开描述。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其它实施例的不同之处,各个实施例之间相同或相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言,由于其与实施例公开的方法相对应,所以描述的比较简单,相关之处参见方法部分说明即可。
专业人员还可以进一步意识到,结合本文中所公开的实施例描述的各示例的单元及算法步骤,能够以电子硬件、计算机软件或者二者的结合来实现,为了清楚地说明硬件和软件的可互换性,在上述说明中已经按照功能一般性地描述了各示例的组成及步骤。这些功能究竟以硬件还是软件方式来执行,取决于技术方案的特定应用和设计约束条件。专业技术人员可以对每个特定的应用来使用不同方法来实现所描述的功能,但是这种实现不应认为超出本发明的范围。
结合本文中所公开的实施例描述的方法或算法的步骤可以直接用硬件、处理器执行的软件模块,或者二者的结合来实施。软件模块可以置于随机存储器(RAM)、内存、只读存储器(ROM)、电可编程ROM、电可擦除可编程ROM、寄存器、硬盘、可移动磁盘、CD-ROM、或技术领域内所公知的任意其它形式的存储介质中。
最后,还需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上对本发明所提供的一种枪瞄设备十字分划校准方法、一种枪瞄设备十字分划校准装置、一种枪瞄设备十字分划校准设备以及一种计算机可读存储介质进行了详细介绍。本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.一种枪瞄设备十字分划校准方法,其特征在于,包括:
获取原始图像;
根据所述原始图像的尺寸生成一测试图像;所述测试图像中设置有测量点,所述测量点在所述测试图像中的位置,与所述原始图像中十字分划标志点的位置相对应;
对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理;
根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点;
将所述实际测量点的位置与放大后所述原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;
根据所述偏移量对放大后所述原始图像中十字分划的位置进行校准。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理包括:
基于插值法对所述原始图像进行放大处理,并基于插值法对所述测试图像进行同样的放大处理。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在放大前,所述测试图像中测量点位置的灰度值为第一灰度值,所述测试图像中非测量点位置的灰度值为第二灰度值。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述第一灰度值为255,所述第二灰度值为0。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点包括:
从放大后所述测试图像中的多个测量点,选取灰度值等于所述第一灰度值的测量点作为实际测量点。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点包括:
计算放大后所述测试图像中的多个测量点位置的中值点,作为实际测量点。
7.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述插值法为双线性插值、双三次插值或样条插值。
8.一种枪瞄设备十字分划校准装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于获取原始图像;
生成模块,用于根据所述原始图像的尺寸生成一测试图像;所述测试图像中设置有测量点,所述测量点在所述测试图像中的位置,与所述原始图像中十字分划标志点的位置相对应;
放大模块,用于对所述原始图像进行放大处理,并对所述测试图像进行同样的放大处理;
确定模块,用于根据放大后所述测试图像中多个测量点确定实际测量点;
偏移量模块,用于将所述实际测量点的位置与放大后所述原始图像中十字分划标志点的位置做对比,确定偏移量;
校准模块,用于根据所述偏移量对放大后所述原始图像中十字分划的位置进行校准。
9.一种枪瞄设备十字分划校准设备,其特征在于,包括:
存储器,用于存储计算机程序;
处理器,用于执行所述计算机程序以实现如权利要求1至7任意一项所述枪瞄设备十字分划校准方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行以实现如权利要求1至7任意一项所述枪瞄设备十字分划校准方法的步骤。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004264690A (ja) * 2003-03-03 2004-09-24 Olympus Corp 芯ずれ補正装置及びその方法
WO2016119291A1 (zh) * 2015-01-30 2016-08-04 赵中伟 数字瞄准器及使用其对目标快速跟踪、自动锁定和精确射击的方法
JP2016213578A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 キヤノン株式会社 画像処理装置、撮像装置、画像処理方法、プログラム
CN110995998A (zh) * 2019-12-12 2020-04-10 浙江大华技术股份有限公司 一种光轴偏移的校准方法及装置
CN111707140A (zh) * 2020-07-28 2020-09-25 中国人民解放军陆军装甲兵学院 狙击步枪瞄准点自动校正方法及系统
CN113310352A (zh) * 2021-06-17 2021-08-27 中国人民解放军68302部队参谋部 一种坦克炮瞄准射击方法及装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9702695B2 (en) * 2010-05-27 2017-07-11 Hitachi High-Technologies Corporation Image processing device, charged particle beam device, charged particle beam device adjustment sample, and manufacturing method thereof
WO2012044381A2 (en) * 2010-06-23 2012-04-05 Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. System, method and computer program product for aiming target
JP5941704B2 (ja) * 2012-02-28 2016-06-29 株式会社日立ハイテクノロジーズ パターン寸法測定装置、及びコンピュータプログラム
JP6495126B2 (ja) * 2015-07-13 2019-04-03 オリンパス株式会社 撮像装置、画像処理方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004264690A (ja) * 2003-03-03 2004-09-24 Olympus Corp 芯ずれ補正装置及びその方法
WO2016119291A1 (zh) * 2015-01-30 2016-08-04 赵中伟 数字瞄准器及使用其对目标快速跟踪、自动锁定和精确射击的方法
JP2016213578A (ja) * 2015-04-30 2016-12-15 キヤノン株式会社 画像処理装置、撮像装置、画像処理方法、プログラム
CN110995998A (zh) * 2019-12-12 2020-04-10 浙江大华技术股份有限公司 一种光轴偏移的校准方法及装置
CN111707140A (zh) * 2020-07-28 2020-09-25 中国人民解放军陆军装甲兵学院 狙击步枪瞄准点自动校正方法及系统
CN113310352A (zh) * 2021-06-17 2021-08-27 中国人民解放军68302部队参谋部 一种坦克炮瞄准射击方法及装置

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