CN114132048A

CN114132048A - 一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法及相关设备

Info

Publication number: CN114132048A
Application number: CN202111519631.0A
Authority: CN
Inventors: 陈乃奇; 陈钢
Original assignee: Shenzhen Anteland Technology Co Ltd
Current assignee: Shenzhen Anteland Technology Co Ltd
Priority date: 2021-12-13
Filing date: 2021-12-13
Publication date: 2022-03-04

Abstract

本发明公开了一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法及相关设备，方法包括：步骤1：将网版设置为处于与激光直接成像设备的激光模组的出光垂直的工作台上，工作台位于运动机构上，网版朝向激光模组的一面涂镀有若干厚度不同的感光胶涂层模块；步骤2：激光直接成像设备计算曝光若干厚度不同的感光胶涂层模块需要的不同功率，根据不同功率分别控制激光模组出光，对若干感光胶涂层模块曝光。本发明能一次完成对网版的不同厚度的感光胶涂层模块曝光，提高了工作效率，节省了时间。

Description

一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法及相关设备

技术领域

本发明属于激光直接成像领域，尤其是涉及到利用激光直接成像设备曝光网版的方法及相关设备。

背景技术

在激光制版领域，将网版曝光是一道必不可少的工序。参考图1及图2，网版1包括基板10及覆盖在基板10的感光胶涂层11。感光胶涂层11具有不同的厚度(划分的区域仅仅是示例性的)，例如图2中，感光胶涂层11厚度按从厚到薄的顺序分：A区域＞B区域＞C区域＞D区域，D区域＝E区域＝F区域＝G区域。由于现有的激光直接成像设备的曝光功率恒定，所以在曝光上述不同厚度的感光胶图层11时，通常的做法是，先用较长时间多次来回的曝光完区域A(厚度最厚，所以曝光时间较长)，其次曝光区域B，再其次是曝光区域C，最后曝光四个厚度最薄的区域：D区域、E区域、F区域、G区域。由于激光直接成像设备的曝光功率恒定不可调节，感光胶涂层越厚，需要多次曝光才能爆透，因此需要的时间较长，所以采用该激光直接成像设备曝光厚度不同的感光胶涂层时，耗时久，效率低下。

发明内容

本发明提供了一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法，其目的在于解决因激光直接成像设备的激光功率不可调而导致的曝光厚度不同的网版时需要多次曝光造成的曝光效率低下的问题。

本发明的方案如下：

一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法，包括如下步骤：

步骤1：将网版设置为处于与激光直接成像设备的激光模组的出光垂直的工作台上，工作台位于运动机构上，网版朝向激光模组的一面涂镀有若干厚度不同的感光胶涂层模块；

步骤2：激光直接成像设备计算曝光若干厚度不同的感光胶涂层模块需要的不同功率，根据不同功率分别控制激光模组出光，对若干感光胶涂层模块曝光。

进一步地，步骤2具体包括以下步骤：

步骤21：激光直接成像设备先曝光完某一感光胶涂层模块，再依次曝光完剩下的感光胶涂层模块；或者

步骤22：激光直接成像设备按从一个方向到另一个方向的顺序逐行曝光完若干感光胶涂层模块。

进一步地，步骤21中，激光直接成像设备先曝光完某一感光胶涂层模块，具体包括：

步骤210：激光直接成像设备的传感器采集某一感光胶涂层模块的厚度信息并发送给激光直接成像设备的控制器，控制器根据厚度信息计算出曝光该感光胶涂层需要的激光功率，并将激光功率发送给激光直接成像设备的上位机；

步骤211：上位机发送控制指令给控制器，控制器根据控制指令控制激光模组出光以提供激光功率，对某一感光胶涂层模块曝光。

进一步地，在步骤22中，激光直接成像设备在曝光厚度不同的感光胶涂层的某一行感光胶时，采用不同的激光功率。

进一步地，步骤22中从一个方向到另一个方向，是指从左到右或者从右到左，或者从上到下，或者从下到上。

进一步地，在步骤21中，当传感器检测到网版的下一块要曝光的感光胶涂层模块的厚度和刚曝光完的前一块感光胶涂层模块的厚度不同时，控制器需要将曝光下一块感光胶涂层模块所需要的功率发送给上位机。

进一步地，步骤1中，将网版设置为处于与激光直接成像设备的激光模组的出光垂直的工作台上，是通过激光直接成像设备的上位机向控制器发送控制指令，控制器根据控制指令控制运动机构驱动工作台沿着X轴方向或Y轴方向运动到处于与激光模组的出光垂直的方向实现的。

进一步地，激光模组包括至少一组激光光源和至少一组光学成像模块；激光光源经过光学成像模块透射后，对运动到处于光学成像模块正下方的感光胶涂层模块进行曝光。

进一步地，光学成像模块包括至少一块凸透镜，激光光源发出的光经凸透镜透射后，聚焦到某一感光胶涂层模块上。

进一步地，运动机构包括X轴方向导轨、Y轴方向导轨、设置在X轴方向导轨上的第一滑块和第一电机，以及设置在Y轴方向导轨上的第二滑块和第二电机；工作台设置在第一滑块和第二滑块上，第一电机通过第一滑块控制工作台沿X轴方向运动，第二电机通过第二滑块控制工作台沿Y轴方向运动。

进一步地，控制器为芯片处理器。

本发明还公开了一种存储介质，其上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现上述任意一项方法的步骤。

本发明还公开了一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行程序时实现上述任一项方法的步骤。

本发明的有益技术效果：本发明技术方案能够根据网版上各个感光胶涂层模块的不同厚度，控制激光模组差异化出光，使得激光模组的出光功率和感光胶涂层的厚度相适配，一次性完成对网版不同厚度的感光胶涂层模块曝光，提高了曝光效率，节省了时间。

附图说明

图1为网版上感光胶厚度不同的区域划分示意图；

图2为图1的显示了不同厚度的感光胶涂层模块的剖视图；

图3为激光直接成像设备控制工作台运动的结构示意图；

图4为利用激光模组按从上到下的顺序逐行曝光各感光胶涂层模块示意图；

图中各部件对应的名称及序号分别为：网版1、工作台2、运动机构3、激光直接成像设备4、控制器41、激光模组42、激光光源420、光学成像模块421、传感器43、上位机44。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制；术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述区别，而不能理解为指示或暗示相对重要性，此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

本发明公开了一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法，包括如下步骤：

参考图3，图3为激光直接成像设备控制工作台运动的结构示意图。将网版1放置在工作台2上，网版1垂直于激光直接成像设备4的激光模组的42的出光方向，同时使得网版1的涂镀有感光胶涂层的一面朝着激光模组的42的出光方向。工作台2放置在运动机构3上，激光直接成像设备4的上位机44发送控制指令给控制器41，控制器41将控制指令传递给运动机构3，驱动网版1随同工作台2沿着X方向和/或Y方向运动。也就是说，网版1放置在工作台2上，工作台2放置在运动机构3上。上位机44通过控制器41控制运动机构3驱动工作台2沿着X方向和/或Y方向运动，所以网版1可以在工作台2上沿着X方向和/或Y方向运动。

参考图1，网版1包括基板10，以及在基板10上的不同区域涂镀有不同的感光胶涂层模块11，感光胶涂层模块11朝向激光模组42的出光方向。按感光胶涂层模块11的厚度由厚到薄的顺序，依次为：A区域＞B区域＞C区域＞D区域，D区域＝E区域＝F区域＝G区域，这些区域仅仅是示例性的。网版1在工作台2上演着X轴方向或Y轴方向运动时，激光直接成像设备4的激光模组42能根据感光胶涂层模块的厚度的不同，实时调节出光功率的大小，对不同厚度的感光胶涂层模块11进行曝光。由于感光胶涂层模块的厚度不尽相同，因此，曝光每一块感光胶涂层模块所需要的功率可能各不相同。

参考图1和图2，在利用激光直接成像设备曝光若干厚度不同的感光胶涂层模块时，至少有两种可选的曝光方法，第一种是先曝光完第一个感光胶涂层模块，再依次曝光完第二个感光胶涂层模，直块至最后一个感光胶涂层模块，例如，在图2中，可以依次按照如下顺序先后曝光：D区域、A区域、E区域、B区域、F区域、C区域、G区域；在曝光每一个区域时候，激光直接成像设备4的传感器43采集该区域的感光胶涂层模块的厚度信息，并将该厚度信息反馈给控制器41，控制器41反馈给上位机44。上位机44根据厚度信息发出控制指令给控制器41，控制器41根据控制指令控制激光模组42的出光功率，以对该感光胶涂层模块进行曝光。当曝光完该感光胶涂层模块后，用同样的办法曝光剩余的感光胶涂层模块。需要说明的是，感光胶涂层模块的厚度不同，则需要的曝光功率也不同。

另外一种可选的曝光方法为：激光直接成像设备按从一个方向到另一个方向的顺序逐行曝光完若干感光胶涂层模块。参考图4，例如，调节好图3中的激光模组42，上位机44发送控制指令通过控制器41传递给控制运动机构3，运动机构3驱动工作台2沿着X方向运动，激光模组42按从左到右的方向运动，依次曝光D区域、A区域、E区域、B区域、F区域、C区域、G区域最上面的第一行，然后逐行曝光上述区域的第二行，第三行，第四行，直至曝光完上述区域最下面的一行。在曝光上述区域的每一行时，由于每一区域的感光胶涂层模块的厚度不尽相同，因此，激光模组42的出光功率不尽相同，此时，需要通过控制激光模组42的出光功率，以便和不同区域的感光胶模块的厚度相适配。本办法中所说的从一个方向到另一个方向，是指控制工作台从左到右运动，或者从右到左运动，或者从上到下运动，或者从下到上运动。

因此，利用本激光直接成像设备，通过调整激光模组42的出光功率，可以对网版上厚度不同的感光胶涂层模块一次曝光就能爆透，而不用对厚度较厚的感光胶涂层多次曝光才能爆透，提高了工作效率，节约了时间。

参考图3，图3只示意性的画出了激光模组42只有一组的情形，在实际应用中，激光模组42可以设置为若干组，若干组激光模组42同时对感光胶涂层模块进行曝光，能提高曝光效率，缩短曝光时间。本实施例中的激光模组42包括至少一组激光光源420和至少一组光学成像模块421；激光光源420经过光学成像模块421透射后，对运动到处于光学成像模块正下方的某一感光胶涂层模块模块进行曝光。可以理解的是，激光出光功率大小可调是通过调节激光光源420的大小实现的；曝光快慢是通过控制激光光源的组数及对应的光学成像模块421的组数来实现的。例如，对图2中的A区域进行曝光时，因为A区域厚度最厚，需要的激光功率最大，则将激光光源420功率调大。为加快A区域的曝光过程，上位机44通过发送指令控制控制器42同时控制多组激光光源420及对应的光学成像模块421同时工作，对A区域进行快速曝光。而对于感光胶模块厚度较薄的D区域，曝光感光胶模块需要的功率较小，则调小激光光源420的出光功率。由于激光光源420功率大小可调，在一定范围内，不管曝光什么厚度的感光胶模块，曝光感光胶模块的同一位置，只需一次曝光即可，避免了因激光光源大小不可调而导致曝光较厚的感光胶模块的同一位置需要多次曝光才能爆透而对于厚度较薄的感光胶模块因功率过大使得网版曝光一次就造成过爆的缺陷。

可选地，光学成像模块421包括至少一块凸透镜(未图示)，激光光源发出的光通过凸透镜透射后，聚焦到处于凸透镜正下方的某一感光胶涂层上的某一点，并对该点进行曝光。当某一感光胶涂层在运动机构的带动下沿着X轴方向和/或Y轴方向运动时，该激光光源通过凸透镜进行连续直线曝光。

可以理解的是，在图3中，作为其中一个实施例，运动机构3包括未图示的：X轴方向导轨、Y轴方向导轨，第一滑块和第一电机。第一滑块和第一电机设置在X轴方向导轨上。第一滑块的上端连接在工作台2的下端部，下端连接在X轴方向导轨上；第一电机控制第一滑块在X轴方向导轨上运动，带动工作台2在X轴方向导轨上运动，工作台2带动网版1在X轴方向上运动。同样的，运动机构3还包括设置在Y轴方向导轨上的第二滑块和第二电机；第二滑块的上端也连接在工作台2上，下端连接在Y轴方向导轨上，第二电机控制第二滑块在Y轴方向导轨上运动，带动工作台2在Y轴方向导轨上运动，工作台2带动网版1在Y轴方向上运动。

进一步地，作为其中的一个实施例，图3中的控制器41优选为芯片处理器，其用于接收来自传感器43探测到某一感光胶涂层的厚度信息，同时用于接收上位机44发出的各种控制指令，各种控制指令通过控制器41发送给运动机构3控制工作台运动或者控制激光模组42出光。

本发明还公开了一种存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现上述任意一项方法的步骤。

本发明还公开了一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，处理器执行程序时实现前述任一项方法的步骤。

本发明能够根据网版上各个感光胶涂层模块的不同厚度，控制激光模组适应性出光，使得激光模组的出光功率和各感光胶涂层的厚度相适配，一次性完成对网版不同厚度的感光胶涂层模块曝光，提高了工作效率，节省了时间。

最后应说明的是：以上仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims

1.一种利用激光直接成像设备曝光网版的方法，其特征在于，包括：

步骤2：激光直接成像设备计算曝光若干厚度不同的感光胶涂层模块需要的不同功率，根据不同功率分别控制激光模组出光，对所述若干感光胶涂层模块曝光。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤2具体包括以下步骤：

3.如权利要求2的方法，其特征在于，步骤21中，激光直接成像设备先曝光完某一感光胶涂层模块，具体包括：

4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在步骤22中，激光直接成像设备在逐行曝光厚度不同的感光胶涂层时，采用不同的激光功率。

5.如权利要求2所述的方法，其特征在于，在步骤21中，当传感器检测到网版的下一块要曝光的感光胶涂层模块的厚度和刚曝光完的前一块感光胶涂层模块的厚度不同时，传感器将所述下一块要曝光的感光胶涂层模块的厚度信息通过所述控制器发送给上位机。

6.如权利要求2所述的方法，其特征在于，步骤1中，将网版设置为处于与激光模组的出光方向垂直的工作台上，是通过激光直接成像设备的上位机向控制器发送控制指令，控制器根据控制指令控制运动机构驱动工作台沿着X轴方向或Y轴方向运动到处于与激光模组的出光垂直的方向实现的。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述激光模组包括至少一组激光光源和至少一组光学成像模块，所述激光光源经过所述光学成像模块透射后，对感光胶涂层模块进行曝光。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述光学成像模块包括至少一块凸透镜，激光光源发出的光经凸透镜透射后，聚焦到某一感光胶涂层模块上。

9.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述运动机构包括X轴方向导轨、Y轴方向导轨、设置在所述X轴方向导轨上的第一滑块和第一电机，以及设置在所述Y轴方向导轨上的第二滑块和第二电机；所述工作台设置在所述第一滑块和所述第二滑块上，所述第一电机通过所述第一滑块控制工作台沿X轴方向运动，所述第二电机通过所述第二滑块控制工作台沿Y轴方向运动。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制器为芯片处理器。

11.一种存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至6中任一项方法的步骤。

12.一种计算机设备，包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行程序时实现如权利要求1至6中任一项方法的步骤。