CN114068624A - 显示面板及其制备方法和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置,该显示面板包括:基板、第一电极层、发光层、第二电极层、电子功能蒸镀层及第三电极层,基板包括显示区和设于显示区外侧的电极预留区;第一电极层设于显示区上;发光层设于第一电极层上;发光层包括第一像素区和第二像素区,第一像素区与电极预留区相邻设置;第二电极层设于相邻设置的第一像素区及电极预留区上;电子功能蒸镀层覆盖显示区且设于第二电极层和第二像素区上;第三电极层覆盖显示区和电极预留区且设于电子功能蒸镀层和电极预留区的第二电极层上,第三电极层在电极预留区与第二电极层连接。如此能够避免共蒸镀的电子功能层影响子像素的发光效率和寿命,同时还无需增加设备成本。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种显示面板及其制备方法和显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,显示面板的种类越来越多,其中有机发光二极管(OLED)显示面板和量子点发光二级管(QLED)以其自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳丽、轻薄等特点,受到了广泛的期待。目前的OLED和QLED的制作工艺是采用真空蒸镀制程和溶液制程相结合来制作OLED显示面板,其中溶液制程一般通过喷墨打印技术实现,该喷墨打印技术是将数十兆分之一升的溶液(用于形成OLED显示面板的膜层的溶液)以每秒数百次的频率喷洒在特定的对象上,然后将溶剂去除形成干燥薄膜的成膜制程技术,这种成膜制程技术不仅能够提升材料的利用率,还保证了所形成的膜层的质量。
在喷墨印刷OLED或QLED中,一般用喷墨印刷的方式制备空穴注入层、空穴传输层以及发光层,而电子传输层、电子注入层和阴极一般使用非子像素图案化的蒸镀掩模版,这就会导致红绿蓝三种子像素的器件都有相同的电子传输层和电子注入层,导致某些颜色子像素的发光效率和寿命下降。例如,对于量子点有机发光二极管混合显示面板中的量子点发光子像素,使用蒸镀的电子传输层和电子注入层会使发光效率和寿命降低。因此,在量子点有机发光二极管混合显示面板中,量子点发光子像素需要溶液法制备的电子传输层等电子功能层,或者无电子传输层等电子功能层结构,以避免共蒸镀的电子功能层沉积到量子点发光子像素器件结构内。
为了解决这个问题,目前采用的技术手段有:使用子像素图案化的蒸镀掩模版对应特定像素区域进行电子传输层和电子注入层等电子功能层的蒸镀,而避免对其他像素区域(例如量子点发光子像素区域)形成蒸镀的电子功能层,但是子像素图案化的蒸镀掩模版会增加设备的成本和降低良率。
发明内容
基于此,有必要提供一种显示面板及其制备方法和显示装置,能够避免共蒸镀的电子功能层影响子像素的发光效率和寿命,同时还无需增加设备成本,保证制程的良率。
一种显示面板,包括:
基板,所述基板包括显示区和设于所述显示区外侧的电极预留区;
第一电极层,所述第一电极层设于所述显示区上;
发光层,所述发光层设于所述第一电极层上,所述发光层包括第一像素区和第二像素区,所述第一像素区与所述电极预留区相邻设置;
第二电极层,所述第二电极层设于相邻设置的所述第一像素区及所述电极预留区上;
电子功能蒸镀层,所述电子功能蒸镀层覆盖所述显示区且设于所述第二电极层和所述第二像素区上;
第三电极层,所述第三电极层覆盖所述显示区和所述电极预留区且设于所述电子功能蒸镀层和所述电极预留区的所述第二电极层上;
其中,所述第三电极层在所述电极预留区与所述第二电极层连接。
在其中一些实施例中,所述显示面板还包括:电子功能打印层,所述电子功能打印层设于所述发光层的所述第一像素区上,且位于所述发光层与所述第二电极层之间。
在其中一些实施例中,所述电子功能蒸镀层和所述电子功能打印层分别独立地包括空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的至少一种。
在其中一些实施例中,所述第二电极层为喷墨打印层,所述第三电极层为蒸镀层。
在其中一些实施例中,所述第二电极层的材料为金属纳米线、石墨烯和碳纳米管中的至少一种。
在其中一些实施例中,所述显示面板还包括:
第一像素限定层,所述第一像素限定层设置在所述基板上并用于间隔所述第一像素区和所述第二像素区中相邻的子像素;
第二像素限定层,所述第二像素限定层设置在所述第一像素限定层上并用于间隔所述第一像素区与所述第二像素区;
其中,所述第二像素限定层的表面的疏水性大于所述第一像素限定层的表面的疏水性。
在其中一些实施例中,所述第二电极层设于所述第一像素限定层上,所述第二像素限定层围绕所述第二电极层设置。
在其中一些实施例中,所述第一像素限定层在所述电极预留区开设有电极打印槽,所述第二电极层设于所述电极打印槽内。
在其中一些实施例中,所述第一像素区的子像素为量子点发光子像素;所述第二像素区的子像素为有机发光子像素。
在其中一些实施例中,所述显示面板还包括:
导通结构,所述导通结构设于所述基板的所述电极预留区上,且与所述电极预留区上的所述第二电极层连接。
在其中一些实施例中,所述导通结构的材质为金属颗粒、金属棒、金属线及石墨烯中的至少一种。
一种显示面板的制备方法,包括如下步骤:
提供基板,所述基板包括显示区和设于所述显示区的外侧的电极预留区;
在所述基板的所述显示区上形成第一电极层;
在所述第一电极层上形成发光层;所述发光层包括第一像素区和第二像素区,所述第一像素区与所述电极预留区相邻设置;
在相邻设置的所述第一像素区及所述电极预留区上形成第二电极层;
于所述显示区的所述第二电极层和所述第二像素区上蒸镀形成电子功能蒸镀层;
于所述显示区和所述电极预留区的所述电子功能蒸镀层和所述电极预留区的所述第二电极层上形成第三电极层;
其中,所述第三电极层在所述电极预留区与所述第二电极层连接。
一种显示装置,包括上述任一项所述的显示面板或采用上述方法制备得到的显示面板。
有益效果
上述显示面板,在基板的显示区外侧还设有电极预留区,将发光层的第一像素区和电极预留区相邻设置,然后在该相邻设置的第一像素区及电极预留区上的发光层上设置第二电极层,而在第二像素区不设置第二电极层。然后在整个显示区形成电子功能蒸镀层,并在整个显示区和电极预留区均设置第三电极层,以使第三电极层设于第二像素区和第二电极层上,第三电极层在电极预留区与第二电极层连接。
上述显示面板工作时,第二电极层和第三电极层相互导通可作为阴极,第一电极层作为阳极,故而在发光层的第一像素区工作时,电流经过第三电极层和第二电极层,进入发光层的第一像素区和第一电极层,第二电极层和第三电极层之间的电子功能蒸镀层不参与工作;而在发光层的第二像素区工作时,电流经过第三电极层、与第三电极层接触的电子功能蒸镀层,再进入发光层的第二像素区和第一电极层,第二像素区和第三电极层之间的电子功能蒸镀层参与工作。且该电子功能蒸镀层可以采用蒸镀的方式在整个显示区形成。
如此,上述显示面板通过在特定的第一像素区设置与第三电极层连接的第二电极层,而在第二像素区未设置该第二电极层,通过第二电极层起到避免第一像素区的电子功能蒸镀层参与工作的作用,也就是使第一像素区的电子功能蒸镀层失效,同时保证第二像素区的电子功能蒸镀层正常工作,故而在形成该电子功能蒸镀层时可以采用蒸镀的方式在整个显示区形成,而无需使用子像素图案化的蒸镀掩模版对应特定的像素区域进行电子传输层和电子注入层等电子功能层的蒸镀,同样避免了蒸镀形成的电子功能层对量子点发光子像素的不良影响,提高了良率;还无需增加子像素图案化的蒸镀掩模版,进而不会增加设备的成本。
附图说明
图1为传统的OLED或QLED的制程的示意图;
图2为传统的RGB像素排列结构的示意图;
图3为本发明一实施方式的显示面板的截面示意图;
图4为本发明一实施方式的显示面板的俯视示意图;
图5为本发明一实施方式的显示面板的另一区域的截面示意图;
图6为本发明一实施方式的显示面板的制备方法的流程示意图;
图7为本发明另一实施方式的显示面板的制备方法的流程示意图。
附图标记说明:
11:蒸镀电子传输层区域;12:蒸镀电极区域;
110:基板;104:显示区;105:电极预留区;111:第一像素限定层;112:第二像素限定层;
120:发光层;101:红色子像素;102:绿色子像素;103:蓝色子像素;106:第一像素区;
131:第二电极层;132:第三电极层;
140:电子功能蒸镀层;
150:电子功能打印层;
160:导通结构。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本文所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
在本发明的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的,并不表示是唯一的实施方式。
需要说明的是,当元件被称为“固定于”另一个元件,它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件,它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。
除非另有定义,本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的,不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
如图1所示,目前传统的一实施方式的OLED或QLED的制程为:在基板上依次形成阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层和阴极。其中,制备空穴注入层、空穴传输层以及发光层一般采用喷墨打印工艺,制备电子传输层、电子注入层和阴极一般采用真空蒸镀工艺。
在喷墨打印制程中,基板上设置有像素限定层,不同的显示颜色对应不同的喷墨打印材料和打印体积。在真空蒸镀制程中,一般使用非图案化的蒸镀掩模版,不同的子像素都蒸镀相同的材料以及厚度。
请参阅图2,以目前常用的喷墨打印的基板,RGB像素排列结构(其中,R、G、B)为例,包括红色子像素101、绿色子像素102及蓝色子像素103。
结合图1所示,在子像素内用喷墨印刷的方式进行空穴注入层、空穴传输层以及发光层的制备,然后在蒸镀电子传输层区域11使用与其等同大小的蒸镀掩模版进行电子传输层和电子注入层的蒸镀制备,最后在蒸镀电极区域12使用与其等同大小的蒸镀掩模版进行电极的蒸镀制备。
由于使用的蒸镀掩模版不能对部分子像素进行遮挡,红色子像素101和绿色子像素102都会蒸镀沉积上电子传输层和电子注入层;在一示例中,红色子像素101和绿色子像素102为量子点发光子像素,当蒸镀的电子传输层和电子注入层会对红绿子像素产生不良影响时,现阶段的制备方法难以避免。
上述的OLED或QLED的制程使得子像素RGB都有相同的蒸镀电子传输层和电子注入层,这会导致部分子像素的发光效率和寿命的大幅衰减。
可理解,需要避免形成蒸镀的电子功能层的显示面板不限于此,本发明提供的技术方案可以适用于各种需要避免形成蒸镀的电子功能层的显示面板的使用,不限于特定的显示面板。
为了解决此问题,技术人员做了大量研究,提出了如下的一种显示面板及其制备方法,可以避免共蒸镀的电子传输层和电子注入层等电子功能层影响子像素的发光效率和寿命,同时还无需增加设备成本,保证制程的良率。
下面将结合显示面板的制备方法对其结构进行详细的介绍。
请参阅图3,本发明一实施方式提供了一种显示面板,该显示面板包括:基板110、第一电极层(图未示)、发光层120、第二电极层131、电子功能蒸镀层140和第三电极层132。
请参阅图4,基板110包括显示区104和设于显示区104的外侧的电极预留区105。
第一电极层设于显示区104上。
发光层120设于第一电极层上。发光层120包括第一像素区106和第二像素区(图未标),第一像素区106与电极预留区105相邻设置。
请参阅图5,第二电极层131设于相邻设置的第一像素区106及电极预留区105上。
电子功能蒸镀层140覆盖显示区104且设于第二电极层131和第二像素区上。
第三电极层132覆盖显示区104和电极预留区105且设于电子功能蒸镀层140和电极预留区105的第二电极层131上。
其中,第三电极层132在电极预留区105与第二电极层131连接。
上述显示面板,在基板110的显示区104外侧还设有电极预留区105,将发光层120的第一像素区106和电极预留区105相邻设置,然后在该相邻设置的第一像素区106及电极预留区105上的发光层120上设置第二电极层131,而在第二像素区不设置第二电极层131。然后在整个显示区104形成电子功能蒸镀层140,并在整个显示区104和电极预留区105均设置第三电极层132,以使第三电极层132设于第二像素区和第二电极层131上,第三电极层132在电极预留区105与第二电极层131连接。
上述显示面板工作时,第二电极层131和第三电极层132相互导通可作为阴极,第一电极层作为阳极,故而在发光层120的第一像素区106工作时,电流经过第三电极层132和第二电极层131,进入发光层120的第一像素区106和第一电极层,第二电极层131和第三电极层132之间的电子功能蒸镀层140不参与工作;而在发光层120的第二像素区工作时,电流经过第三电极层132,进入发光层120的第二像素区和第一电极层,第二像素区和第三电极层132之间的电子功能蒸镀层140参与工作。且该电子功能蒸镀层140可以采用蒸镀的方式在整个显示区104形成。
如此,上述显示面板通过在特定的第一像素区106设置与第三电极层132连接的第二电极层131,而在第二像素区未设置该第二电极层131,通过第二电极层131起到避免第一像素区106的电子功能蒸镀层140参与工作的作用,也就是使第一像素区106的电子功能蒸镀层140失效,同时保证第二像素区的电子功能蒸镀层140正常工作,故而在形成该电子功能蒸镀层140时可以采用蒸镀的方式在整个显示区104形成,而无需使用子像素图案化的蒸镀掩模版对应特定的像素区域进行电子传输层和电子注入层等电子功能层的蒸镀,同样避免了蒸镀形成的电子功能层对量子点发光子像素的不良影响,提高了良率;还无需增加子像素图案化的蒸镀掩模版,进而不会增加设备的成本。
此外,设置电极预留区105,实现第二电极层131与第三电极层132的连通,降低了显示面板的功耗。
请参阅图5,本发明一实施方式提供了上述显示面板的制备方法,包括如下步骤S10~S60:
步骤S10:提供基板110,基板110包括显示区104和设于显示区104的外侧的电极预留区105。
步骤S20:在基板110的显示区104上形成第一电极层。
步骤S30:在第一电极层上形成发光层120;发光层120包括第一像素区106和第二像素区,第一像素区106与电极预留区105相邻设置。
步骤S40:在相邻设置的第一像素区106及电极预留区105上形成第二电极层131。可理解,其中第二电机层可采用喷墨打印形成。
步骤S50:于显示区104的第二电极层131和第二像素区上蒸镀形成电子功能蒸镀层140。
步骤S60:于显示区104和电极预留区105的电子功能蒸镀层140和电极预留区105的第二电极层131上形成第三电极层132。其中,第三电极层132在电极预留区105与第二电极层131连接。可理解,第三电极层132可采用蒸镀的方式形成。
可理解,以RGB像素排列结构为例,第一像素区106可为多个,电极预留区105与第一像素区106一一对应设置;第二像素区也可为多个。
在其中一些实施例中,第一电极层为阳极,第二电极层131和第三电极层132为阴极。
进一步地,电子功能蒸镀层140包括空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的至少一种。在一些具体示例中,电子功能蒸镀层140包括依次设置的电子传输层和电子注入层。
可理解,由于电子功能蒸镀层140可在整个显示区104形成,故而上述制备方法还包括采用蒸镀的方式形成电子功能蒸镀层140的步骤。即:上述电子功能蒸镀层140的各层均为蒸镀层。
在其中一些实施例中,显示面板还包括空穴功能层,空穴功能层设于第一电极层与发光层120之间。
进一步地,空穴功能层包括空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层中的至少一种。在一些具体示例中,空穴功能层包括依次设于第一电极层上的空穴注入层和空穴传输层。
可理解,第一电极层为子像素电极,其与发光层120的各子像素一一对应设置。空穴功能层和发光层120均可采用喷墨打印的方式对应各子像素的位置形成。换言之,上述制备方法还包括在基板110上形成空穴功能层的步骤。
在其中一些实施例中,第一像素区106的子像素为量子点发光子像素,第二像素区的子像素为有机发光子像素。进一步地,在一些具体示例中,第一像素区106为红色量子点子像素和绿色量子点子像素;第二像素区为蓝色有机发光子像素。进一步地,发光层120包括红色子像素101、绿色子像素102和蓝色子像素103;在如图4所示的示例中,像素排布结构为RGB,相邻两列的红色子像素101、绿色子像素102构成第一像素区106,一列蓝色子像素103构成第二像素区。
可理解,如背景技术所述,在一些实施例中,对于量子点发光子像素,优选采用喷墨打印形成的电子传输层等电子功能层或者不设置电子传输层等电子功能层。不设置电子功能层,则直接在第一像素区106上直接设置第二电极层131。如图6所示,其制备方法如下:在基板110上的第一电极层上,打印形成空穴功能层和发光层120,然后在第一像素区106上直接打印形成第二电极层131,再在整个显示区104依次蒸镀形成电子功能蒸镀层和第三电极层。
在另外的一些示例中,需要设置喷墨打印形成的电子功能层,如图7所示,在上述制备方法中在第一像素区106上直接打印形成第二电极层131的步骤之前,还包括:在发光层120的第一像素区106上采用喷墨打印形成电子功能打印层150的步骤。则显示面板还包括电子功能打印层150,电子功能打印层150设于发光层120的第一像素区106上,且位于发光层120与第二电极层131之间。
进一步地,电子功能打印层150包括空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的至少一种。在一些具体示例中,电子功能打印层150包括电子传输层。即:电子功能打印层150中的各层均为喷墨打印层。
请继续参阅图3,在其中一些实施例中,显示面板还包括第一像素限定层111和第二像素限定层112。
第一像素限定层111设置在基板110上并用于间隔第一像素区106和第二像素区中相邻的子像素。
第二像素限定层112设置在第一像素限定层111上并用于间隔第一像素区106与第二像素区。进一步地,第二像素限定层112用于间隔第一像素区106与第二像素区之间的相邻两个子像素。
进一步地,第二像素限定层112的表面的疏水性大于第一像素限定层111的表面的疏水性。如此利用第二像素限定层112的高度和疏水性,限制在第一像素区106的打印材料不会流动到第二像素区。
可理解,在一些示例中,第一像素限定层111和第二像素限定层112可以采用相同的材质形成,然而仅对第一像素限定层111进行表面处理,例如使用紫外光照射或高温加热的方式,大幅降低第一像素限定层111的疏水性。在其他示例中,第一像素限定层111和第二像素限定层112也可以采用不相同的材质形成,例如直接采用疏水性较大的材料形成第二像素限定层112。在其他示例中,第一像素限定层111和第二像素限定层112也可以采用不相同的材质形成,其中第二像素限定层112的材料耐紫外光照射或耐高温能力较强;然后置于相同的条件下进行表面处理,例如使用紫外光照射或高温加热的方式,使得第一像素限定层111的疏水性大幅降低。最终第一像素限定层111的疏水性小于第二像素限定层112的疏水性。
进一步地,第二像素限定层112围绕相邻的第一像素区106和电极预留区105设置。如此当在相邻设置的所述第一像素区106及所述电极预留区105上形成连续的第二电极层131时,由于第二像素限定层112的高度和疏水性更大,第二电极层131的电极材料不会流动到第二像素区。故而,形成的第二电极层131设于第一像素限定层111上,第二像素限定层112围绕第二电极层131设置。
优选地,由于第二像素限定层112的限定作用,第二电极层131优选采用喷墨打印方式形成,即为喷墨打印层。相应地,在第一像素区106形成的子像素的膜厚均匀性良好。进一步地,第二电极层131的材料为金属纳米线、石墨烯和碳纳米管等中的至少一种导电性材料。
可理解,第三电极层132是在整个显示区104形成,其可以采用传统的蒸镀方式形成。即第三电极层132为蒸镀层。可理解,第三电极层132的材料也可为常用的阴极材料,例如铝阴极层、镁铝合金层。
继续参阅图5,在其中一些实施例中,第一像素限定层111在电极预留区105开设有电极打印槽,第二电极层131设于电极打印槽内。
在其中一些实施例中,显示面板还包括导通结构160,导通结构160设于基板110的电极预留区105上,且与电极预留区105上的第二电极层131连接。如此使得第二电极层131与第三电极层132进一步通过导通结构相互导通,增加第二电极层131与第三电极层132的接触面积。具体在一示例中,使得第二电极层131的打印电极材料与第三电极层132的蒸镀电极材料进一步在导通结构160中相互连通。
进一步地,导通结构160的材质为导电材料。
更进一步地,导通结构160的材质为金属颗粒、金属棒、金属线及石墨烯中的至少一种。可理解,导通结构160可通过印刷、物理沉积或化学沉积的形式吸附在基板110上。
本发明的一实施方式还提供了一种显示装置,包括上述任一项的显示面板。
在其中一些实施例中,该显示装置可为平板电脑、手机、电视、电脑等等。
在其中一些实施例中,该显示装置包括显示面板及控制单元,该控制单元用于向显示面板传输显示信号。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合,为使描述简洁,未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述,然而,只要这些技术特征的组合不存在矛盾,都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (12)
1.一种显示面板,其特征在于,包括:
基板,所述基板包括显示区和设于所述显示区外侧的电极预留区;
第一电极层,所述第一电极层设于所述显示区上;
发光层,所述发光层设于所述第一电极层上,所述发光层包括第一像素区和第二像素区,所述第一像素区与所述电极预留区相邻设置;
第二电极层,所述第二电极层设于相邻设置的所述第一像素区及所述电极预留区上;
电子功能蒸镀层,所述电子功能蒸镀层覆盖所述显示区且设于所述第二电极层和所述第二像素区上;
第三电极层,所述第三电极层覆盖所述显示区和所述电极预留区且设于所述电子功能蒸镀层和所述电极预留区的所述第二电极层上;
其中,所述第三电极层在所述电极预留区与所述第二电极层连接。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
电子功能打印层,所述电子功能打印层设于所述发光层的所述第一像素区上,且位于所述发光层与所述第二电极层之间。
3.如权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述电子功能蒸镀层和所述电子功能打印层分别独立地包括空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层中的至少一种。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二电极层为喷墨打印层,所述第三电极层为蒸镀层;和/或
所述第二电极层的材料为金属纳米线、石墨烯和碳纳米管中的至少一种。
5.如权利要求1至4任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
第一像素限定层,所述第一像素限定层设置在所述基板上并用于间隔所述第一像素区和所述第二像素区中相邻的子像素;
第二像素限定层,所述第二像素限定层设置在所述第一像素限定层上并用于间隔所述第一像素区与所述第二像素区;
其中,所述第二像素限定层的表面的疏水性大于所述第一像素限定层的表面的疏水性。
6.如权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第二电极层设于所述第一像素限定层上,所述第二像素限定层围绕所述第二电极层设置。
7.如权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素限定层在所述电极预留区开设有电极打印槽,所述第二电极层设于所述电极打印槽内。
8.如权利要求1至4任一项所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素区的子像素为量子点发光子像素;
所述第二像素区的子像素为有机发光子像素。
9.如权利要求1至4任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:
导通结构,所述导通结构设于所述基板的所述电极预留区上,且与所述电极预留区上的所述第二电极层连接。
10.如权利要求9所述的显示面板,其特征在于,所述导通结构的材质为金属颗粒、金属棒、金属线及石墨烯中的至少一种。
11.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供基板,所述基板包括显示区和设于所述显示区的外侧的电极预留区;
在所述基板的所述显示区上形成第一电极层;
在所述第一电极层上形成发光层,所述发光层包括第一像素区和第二像素区,所述第一像素区与所述电极预留区相邻设置;
在相邻设置的所述第一像素区及所述电极预留区上形成第二电极层;
于所述显示区的所述第二电极层和所述第二像素区上蒸镀形成电子功能蒸镀层;
于所述显示区和所述电极预留区的所述电子功能蒸镀层和所述电极预留区的所述第二电极层上形成第三电极层;
其中,所述第三电极层在所述电极预留区与所述第二电极层连接。
12.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1~10任一项所述的显示面板或利用权利要求11的方法制备得到的显示面板。
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