CN114007512A - 无菌覆盖物 - Google Patents

Abstract

本申请描述了一种辐射屏蔽组件，其被构造成阻止从辐射源发出的辐射到达用户。两个屏蔽件由支撑臂支撑，并且被构造成围绕支撑臂的纵向轴线相对于彼此旋转和平移。这使得屏蔽件可以根据需要轻松配置和重新配置，以通过X光检查来可视化患者身体的各个部位。提供无菌覆盖物以确保手术过程中的无菌。

Description

无菌覆盖物

技术领域

本发明总的涉及辐射防护装置，并且具体地涉及用于保护医务人员免受手术室中的放射危害的装置。

背景技术

电子和机器人技术近年来的发展使得外科医生能够使用无创显微外科技术来取代许多开放切口技术。当手术介入部位未向手术室开放时，该部位仍必须可视化，以便充分引导和控制器械。这可以通过放射监测来实现，最常见的示例是X射线监测。在手术过程中，X射线发生器位于患者的一侧，其将X射线发射到手术部位(X射线发生器通常位于患者下方，但X射线发生器的位置可以根据需要改变)。X射线增强器被定位成在发射的X射线穿过手术部位后接收它们，以将图像数据传送到监视器或其他装置，从而将视觉图像呈现给外科医生。

尽管这些显微外科技术在对患者的创伤、恢复时间和感染风险方面比以前的开放身体技术代表了巨大的进步，但持续的放射监测使每个参与者暴露于比使用旧技术所需的辐射更多的辐射。这对患者来说问题不大，他/她一生中可能只接受少量此类手术。但是，执行这些程序的专业医务人员的暴露频率要高得多；除非医务人员得到某种保护，否则累积暴露很容易超过安全限值。

以前解决这些问题的尝试具有严重的局限性。在患者周围放置重型屏蔽件可以阻挡辐射到达医务人员。但是，医务人员仍然需要接近患者的身体，所以完全的屏蔽是不切实际的；由于人体对X射线是透明的(“射线可透”)，因此X射线可以照射穿透患者的身体并使医务人员暴露于危险中。任何手术都伴随着危及生命的并发症的风险，需要医务人员立即接触患者的身体。患者身体周围的重型屏蔽件体积庞大且难以移动，在这种情况下会妨碍医务人员紧急接近患者。

在此类程序中保护医务人员的另一种尝试涉及穿戴式屏蔽件，或者基本上是防辐射“盔甲”。它们已采用以下形式：铅背心、铅围裙、铅甲状腺项圈、含铅亚克力面罩、含铅亚克力眼镜和“零重力”含铅套装。防辐射盔甲有一个严重的缺点：它必须有很大的质量(通常含有铅，一种非常致密的金属)才能阻挡X射线，而且穿起来很重。即使是身体健康的穿戴者，穿着厚重的防辐射盔甲也会很快疲劳，并且长期使用会导致骨科疾病。当使用防辐射盔甲来保护医务人员免受X射线伤害时，只是一种健康危害被另一种健康危害所替代而已。

眼镜和面罩本身的重量可能是可控的，但它们仅能保护身体的一小部分。

“零重力”套装是由刚性金属框架悬挂的带铅连体服。框架安装在一些支撑结构上，例如地板或吊顶上。结果，穿戴者不会用他或她的身体支撑该套装。这种类型的悬挂盔甲还有其他缺点。它使穿戴者的手和下臂未被覆盖且不受保护，从而使穿戴者能够进行精细的手工操作。它将穿戴者的身体运动范围限制在框架可以容纳的运动范围内，这通常会妨碍穿戴者弯腰或坐下。这类套装使用静态面罩以防止穿戴者将任何东西靠近脸部，例如进行视觉检查时。由于其复杂性和材料成本，悬挂式盔甲系统极其昂贵。

另一种形式的防辐射盔甲是移动式“舱室”，它是一个带有轮子的不透辐射的盒子，用户可以站在里面。用户能够在内部推动舱室从一个地方到另一个地方。舱室具有一定高度的臂端口和一定高度的视觉透明部分。因此，用户的手和脸不能重新定位或重新定向太多，例如站立或俯身。该舱室也使用静态面罩以防止穿戴者将任何东西靠近脸部，例如进行视觉检查时。

因此，本领域需要一种保护医务人员免受患者必须暴露于的X射线的危害的装置，该装置不会妨碍用户的身体，允许接近患者的身体，并且在必要时可以快速重新配置。

发明内容

本发明描述了一种辐射屏蔽组件，其通过在操作区域和包含医务人员的区域之间插入屏障来解决上述问题。当与悬挂在手术台下方的屏蔽幕帘一起工作时，该屏蔽组件显著减少了直接从辐射发生器和间接通过患者的射线可透身体到达人员区域的辐射，允许接近患者的身体，允许在用户的一部分上完全自由地移动，并且可以根据需要容易地重新配置。该屏蔽组件通常包括由诸如杆柱或悬臂之类的支撑构件支撑的两个屏蔽结构。每个屏蔽结构具有至少一个大体竖直的屏蔽件，并且两个竖直屏蔽件可以围绕支撑构件的纵向轴线相对于彼此旋转并且围绕支撑构件的纵向轴线相对于彼此平移。

在第一方面，提供了一种辐射屏蔽组件，其被构造成阻挡从辐射源发出的辐射。在第一方面，该组件包括：用于支撑组件的支撑装置；第一屏蔽装置，其用于在第一大致竖直平面内阻挡来自辐射源的辐射，并固定在支撑装置上，并且包括附肢开口，该附肢开口的尺寸设定为允许人体附肢穿过第一屏蔽装置；以及第二屏蔽装置，其在第二大致竖直平面内阻挡来自辐射源的辐射，并且固定在支撑装置上以允许第二屏蔽装置相对于第一屏蔽装置沿大致竖直轴线平移和旋转。

提供了辐射屏蔽组件的第二方面，所述第二方面包括：支撑臂，其构造成支撑屏蔽组件的至少大部分重量，并且该支撑臂具有纵向轴线；第一大致平面形竖直屏蔽件，其固定在支撑臂上，并具有靠近下端的开口，该开口的尺寸设定为容纳人体附肢；第二大致平面形竖直屏蔽件，其可平移且可旋转地连接到支撑臂以围绕大致平行于支撑臂的纵向轴线的轴线旋转并沿该轴线平移；其中第一竖直屏蔽件、第一水平屏蔽件、第二竖直屏蔽件、第二水平屏蔽件和下部竖直屏蔽件都是不透射线的。

在第三方面，提供了一种用于在用户照料位于底部安装式X射线发生器上方的匍匐患者时遮蔽所述用户免受所述X射线发生器的危害的系统，该系统包括：构造成支撑患者的工作台，该工作台具有纵向轴线和横向轴线；位于工作台下方的X射线发生器；位于工作台上方的图像增强器，其用于接收从X射线发生器投射的X射线；不透射线的幕帘屏蔽件，其在工作台的至少第一侧从工作台向下延伸；以及辐射屏蔽组件，该辐射屏蔽组件包括：支撑臂，其构造成支撑屏蔽组件的重量并具有大致竖直的纵向轴线；固定到支撑臂的第一屏蔽组件，其包括第一大致平面形竖直屏蔽件，第一大致平面形竖直屏蔽件靠近工作台的第一侧定位并且大致平行于工作台的纵向轴线，并且第一屏蔽组件包括第一竖直屏蔽件中的、位于工作台上方的开口，以允许患者的手臂穿过该开口；以及第二屏蔽组件，其可旋转且可平移地固定在支撑臂上，以允许第二屏蔽组件绕大致平行于支撑臂的纵向轴线的轴线旋转和平移；其中第二屏蔽组件包括位于工作台上方的第二大致平面形竖直屏蔽件；其中第二竖直屏蔽件能够绕其轴线旋转成大致垂直于工作台的纵向轴线或大致平行于工作台的纵向轴线。

在第四方面，提供了一种构造成阻挡从辐射源发出的辐射的辐射屏蔽组件，该组件包括：支撑臂，其构造成支撑屏蔽组件的至少大部分重量，该支撑臂具有纵向轴线；第一大致平面形竖直屏蔽件，其通过第一不透射线接头固定到支撑臂上；以及第二大致平面形竖直屏蔽件，其通过第二不透射线接头可平移且可旋转地连接到支撑臂，以围绕大致平行于支撑臂的纵向轴线的轴线旋转并沿着该轴线平移。

在第五方面，提供了一种射线照相方法，其包括：将任何辐射屏蔽组件定位在患者和用户之间的上方，使得患者的附肢延伸穿过屏蔽组件中的附肢开口；将医疗器械插入附肢的脉管系统；以及使用辐射发生器照射患者，其中辐射发生器定位成使得辐射至少部分地穿过患者，同时被屏蔽组件阻挡而不能到达用户。

在上述任一方面中，无菌覆盖物可存在于一个或多个屏蔽件或屏蔽装置上。

上面给出了简化的概述，以提供对要求保护的主题的一些方面的基本了解。发明内容并不是详尽的概述。它不旨在确定重要或关键的要素或描述要求保护的主题的范围。它的唯一目的是以简化的形式呈现一些概念，作为稍后呈现的更详细描述的序论。

附图说明

图1是屏蔽组件的实施例，示出了相互垂直的第一竖直屏蔽件和第二竖直屏蔽件，其中第二竖直屏蔽件是降低的。

图2是图1所示的屏蔽组件，其中第一竖直屏蔽件和第二竖直屏蔽件相互垂直，并且其中第二竖直屏蔽件是升高的。

图3是图1所示的屏蔽组件，其中第二竖直屏蔽件已经旋转成大致平行于第一竖直屏蔽件。

图4是由地板单元支撑的屏蔽组件的实施例。

图5是由吊顶安装式吊杆支撑的屏蔽组件的实施例。

图6是由吊顶安装式单轨支撑的屏蔽组件的实施例。

图7是由壁挂式吊杆(其中墙壁是不可见的)支撑的屏蔽组件的实施例。

图8是由壁挂式单轨(其中墙壁是不可见的)支撑的屏蔽组件的实施例。

图9是具有第六屏蔽件的屏蔽组件的实施例。

图10是屏蔽系统的实施例的透视图，该屏蔽系统包括手术台、X射线发生器和X射线图像增强器。患者以示例性位置示出。

图11是图10中的屏蔽系统的实施例的正视图。

图12是在剂量测定测试期间，示例性屏蔽件上的传感器定位的图示。

图13是在剂量测定测试期间，铅围裙上的传感器定位的图示。

图14是在均匀性测试期间，屏蔽件上的传感器定位的图示。

图15是均匀性测试中，屏蔽件上的传感器结果的图示。

图16是屏蔽组件的实施例，其包括位于第一屏蔽装置的底部上的柔性不透射线构件，并且示出了用于升高和降低第二水平屏蔽件的气动活塞。

图17是屏蔽系统的实施例，其包括手术台、X射线发生器和X射线图像增强器，示出了位于手术台下方的不透射线盖布。

图18是具有处于适当位置的无菌覆盖物的屏蔽组件的实施例。

图19是与屏蔽组件的某些实施例一起使用的无菌覆盖物的实施例。

具体实施方式

A.定义

除非另有定义，否则本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的含义相同的含义。将进一步理解的是，术语(例如在常用词典中定义的那些)应被解释为具有与其在说明书的上下文中的含义一致的含义，并且不应以理想化或过于正式的含义来解释，除非本文明确地进行了这样的限定。为了简洁或清楚起见，可能不会详细描述众所周知的功能或构造。

术语“大约”和“大致”通常是指考虑到测量的性质或精度，对于所测量的量而言，可接受的误差或变化程度。典型的示例性误差或变化程度在给定值或数值范围的20％以内，优选在10％以内，更优选在5％以内。例如，术语“大致平行”或“大致竖直”是指与真正平行或竖直相比在可接受的误差或变化程度内的角度，例如在真正平行或竖直的45°、25°、20°、15°、10°或1°以内。除非另有说明，否则本说明书中给出的数值是近似值，这意味着在没有明确说明的情况下，可以推断出术语“大约”或“大致”。除非另有说明，否则声明的数字量是精确的。

应当理解，当一个特征或元件被称为在另一个特征或元件“上”时，它可以直接在所述另一个特征或元件上，或者也可以存在中间的特征和/或元件。相比之下，当一个特征或元件被称为“直接在”另一个特征或元件上时，不存在中间的特征或元件。还应理解，当一个特征或元件被称为“连接”、“附接”、“固定”或“联接”到另一个特征或元件时，它可以直接连接、附接、固定或联接到所述另一个特征或元件，或者可以存在中间的特征或元件。相反，当一个特征或元件被称为“直接连接”、“直接附接”、“直接固定”或“直接联接”到另一个特征或元件时，不存在中间的特征或元件。尽管关于一个实施例进行了描述或图示，但是这样描述或图示的特征和元件可以适用于其他实施例。

本文使用的术语仅用于描述特定实施例的目的，并不旨在进行限制。本文使用的单数形式“一”、“一个”和“该”也旨在包括复数形式(即，冠词所修饰的任何内容中的至少一个)，除非上下文明确地另有指示。

空间方面的相关术语，例如“下方”、“以下”、“下部”、“上方”、“上部”等，可以为了便于描述而使用，用以描述当设备处于如图所示的右侧朝上构型时，一个元件或特征与另一个元件或特征的关系。

诸如“A和B中的至少一个”之类的术语应理解为“仅A、仅B、或A和B两者”。相同的解释应该应用于更长的列举(例如，“A、B和C中的至少一个”)。相比之下，诸如“至少一个A和至少一个B”之类的术语应理解为A和B都需要。

术语“第一”、“第二”、“第三”等在本文中用于描述多种特征或元件，但这些特征或元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个特征或元件与另一个特征或元件区分开来。因此，在不脱离本发明的教导的情况下，下面讨论的第一特征或元件可以被称为第二特征或元件，并且类似地，下面讨论的第二特征或元件可以被称为第一特征或元件。

术语“基本上由……组成”是指除了所引述的要素之外，所要求保护的内容还可能包含其他要素(步骤、结构、成分、部件等)，这些其他要素不会对为了本发明中其预期目的而要求保护的内容的可操作性产生不利影响。该术语不包括对为了本发明中其预期目的而要求保护的内容的可操作性产生不利影响的此类其他要素，即使此类其他要素可能会增强为了某些其他目的而要求保护的内容的可操作性。

应当理解，本发明公开的实施例的任何给定要素都可以体现在单个结构、单个步骤、单个物质等中。类似地，所公开实施例的给定要素可以体现在多个结构、步骤、物质等中。

B.辐射屏蔽组件

提供了辐射屏蔽组件100，其被构造成阻挡从辐射源发出的辐射并由支撑装置145支撑以支撑组件100。参照图1至图3，第一屏蔽装置105位于第一大致竖直平面中。第一屏蔽装置105固定到支撑装置145上，并具有附肢开口110，附肢开口110的尺寸设定为允许人体附肢穿过第一屏蔽装置105。这提供了接近患者的手臂(或者是腿或躯干)的机会以便通过患者的脉管系统引入医疗器械(例如关节镜器械)。

第二屏蔽装置115位于第二大致竖直平面中，其固定到支撑装置145，以允许第二屏蔽装置115相对于第一屏蔽装置105沿大致竖直轴线平移和旋转。因此，如果需要接近患者，第二屏蔽装置115可以相对于第一屏蔽装置105升高、降低或摆动(比较图1至图3)。

为了保护医务人员免受穿过附肢开口110照射的辐射，可以定位第三屏蔽装置120以在与第一竖直平面大致垂直的第一大致水平平面中阻挡来自附肢开口110的辐射。第三屏蔽装置120可以固定到第一屏蔽装置105上，使得第三屏蔽装置120随着第一屏蔽装置105而平移和旋转。换言之，在组件100的至少一种构型中，第一屏蔽装置105和第三屏蔽装置120可以相对于彼此静止(但在一些实施例中，它们可以相对于支撑臂150或相对于组件100的其他部分在至少一个自由度上移动)。可以在第一屏蔽装置105的底部上以柔性不透射线构件的形式提供附加(或替代)保护。在屏蔽组件100的替代实施例中，使用柔性不透射线构件220代替第三屏蔽装置120，以拦截通过附肢开口110发出的辐射。这种柔性不透射线构件220的示例包括护罩、护袖、幕帘和虹膜口的一个或多个挡叶(leaf)。它们可以由任何合适的柔性且不透射线的材料构成。

第四屏蔽装置125可以定位在第二大致水平平面中。第二水平平面与第二竖直平面大致垂直。第四屏蔽装置125固定到第二屏蔽装置115，使得第四屏蔽装置125与第二屏蔽装置115一起例如沿着支撑装置145平移和旋转。可以在第四屏蔽装置125的底部上以柔性不透射线的护罩的形式提供额外的保护。在屏蔽组件100的替代实施例中，使用柔性不透射线护罩代替第四屏蔽装置125。

可以存在第五屏蔽装置135，其位于与第二大致竖直平面和第二大致水平平面基本垂直的第三大致竖直平面中，并且连接到第二屏蔽装置115，使得第五屏蔽装置135与第二屏蔽装置115一起旋转和平移，并且向下延伸。

屏蔽组件100的一些实施例包括第六屏蔽装置140，第六屏蔽装置140位于第四大致竖直平面中，连接到第一屏蔽装置105，使得第六屏蔽装置140向下延伸。第四大致竖直平面可以大致平行于第一竖直平面。第六屏蔽装置140可以定位成保护用户的下半身免受辐射。第六屏蔽装置140可以采用多种合适的形式中的任何一种，包括大致平面形的屏蔽件、柔性盖布和第一屏蔽装置105的延伸部中的一种或多种。

第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115可以被构造成围绕公共轴线如铰链摆动(比较图1和图2)。例如，该轴线可以是支撑装置145的纵向轴线。在其他实施例中，第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115可以各自围绕两个单独的轴线中的每一个摆动，其中所述轴线彼此大致平行。在一些这样的实施例中，轴线可以都大致平行于支撑装置145的纵向轴线。类似地，第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115能够像书的封底和封面一样相对于彼此摆动。在一些实施例中，第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115能够呈现彼此大约180°的相对位置，使得当从上方看时，它们大致平行和/或共线。这种“开放”构型对于沿匍匐患者的整个长度形成屏障是有用的。在一些实施例中，，第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115能够采取彼此成0°或接近0°的相对位置，在这种情况下，它们可以彼此接触，或者非常接近并且大致平行。在一些实施例中，第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115被构造成在至少大约90°的弧上相对于彼此旋转。在一些另外的实施例中，第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115被构造成在高达约180°的弧上相对于彼此旋转，并且在另外的特定实施例中在从约0-180°的弧上相对于彼此旋转。

第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115还可以被构造成相对于彼此平移，或者沿着支撑装置145一起平移(比较图1和图2)。屏蔽组件100可以包括用于使第一屏蔽装置105和第二屏蔽装置115中的至少一个沿着支撑装置145平移的装置225。举例来说，这种用于平移的装置225可以是辅助机构、配重机构、电动机、液压机构、气动机构、手动机构或前述机构的任何组合。

支撑装置145可以被构造成允许整个屏蔽组件100在手术室内相对于手术台305平移。例如，支撑装置145可以被构造成允许整个屏蔽组件100的手动平移，或者允许通过一个或多个致动器机械地平移整个屏蔽组件100。支撑装置145的一些实施例构成支撑臂150。支撑臂150将被构造成支撑组件100的大部分重量(如果不是全部)。在图2和3中的图示实施例中，支撑臂150是细长的钢结构，其纵向轴线在屏蔽组件100使用时是大致竖直的。支撑臂150可以由具有足够机械强度以支撑组件100的任何材料构成，并且可以由本领域普通技术人员设计。优选地，支撑臂150由对于预期频率和强度的辐射也是不可透的材料构成。例如，支撑臂150的一些实施例对于放射学应用的典型能量下的X射线是不可透的。

支撑装置145将由吊顶、地板、墙壁或其他结构支撑。当在地板上安装时(如图4所示)，支撑装置145可以通过各种结构悬挂。支撑装置145可以一体地安装在地板上，或者可以由支架支撑，既可以是移动的也可以是静止的。

支撑装置145的一些实施例包括大致竖直的杆柱155。支撑装置145能够在一定程度上支撑屏蔽组件100。例如，支撑装置145的一些实施例能够支撑组件100的大部分重量。在另外的实施例中，支撑装置145能够支撑组件100的大约全部重量或支撑全部重量。杆柱155可以通过各种方式被支撑。在辐射屏蔽组件100的一些实施例中，杆柱155由落地支架170支撑。落地支架170还可包括多个轮子175以允许组件100容易地部署和移走。在系统的进一步实施例中，杆柱155由高架吊杆160悬挂(见图5和图7)。使用高架吊杆160可以为甚至相对庞大的组件100提供容易的移动性，从而允许组件100相对于患者快速且容易地放置和移走。可以设想多种利用吊杆160的构造。例如，杆柱155可以被构造成围绕高架吊杆160的纵向轴线旋转，或者相对于高架吊杆160枢转。杆柱155能够沿着高架吊杆160的纵向轴线平移。在系统的进一步实施例中，高架吊杆160由第二杆柱165支撑。第二杆柱165又可以支撑在轮式落地支架170上、安装在吊顶上或安装在墙壁上。例如，第二杆柱165可以由壁挂式导轨180或吊顶安装式导轨185支撑(见图6和图8)；在这样的实施例中，第二杆柱165能够沿着壁挂式导轨180或吊顶安装式导轨185平移。作为另一个示例，第二杆柱165可以由壁挂式摆臂190或吊顶安装式摆臂195支撑(见图5和图7)。在另一个实施例中，第二杆柱165可以由摆臂支撑，摆臂又由壁挂式导轨180或吊顶安装式导轨185支撑，并且其中摆臂能够沿壁挂式导轨180或吊顶安装式导轨185平移。

在存在第三水平屏蔽装置120的一些实施例中，第一屏蔽装置105和第三屏蔽装置120被构造成一起竖直平移。例如，第一屏蔽装置105和第三屏蔽装置120可以被构造成沿着支撑装置145一起平移。平移的程度可以被构造成在用户站立或坐下时优化用户对X射线的屏蔽。例如，第一屏蔽装置105可以被构造成沿着平移，使得在第一位置，第一屏蔽装置105的顶部边缘至少大约是地板上方的成年人的高度。考虑到正常人的体型，该高度可以是地板上方175cm、180cm、185cm、190cm、195cm或200cm。

类似地，第一屏蔽装置105本身的尺寸将被设计为在使用期间就位时提供足够的防辐射保护。例如，它可以具有至少约为从手术台305的上表面到平均人类全身高的距离的高度。在各种实施例中，第一屏蔽装置105的高度至少约为当手术台305位于地板上时，从所述手术台305的上表面到地板上方175cm、180cm、185cm、190cm、195cm或200cm的高度的距离。较高的高度具有在更大面积上屏蔽X射线的优点，而较低的高度具有重量减轻和成本降低的优点。

在图中所示的实施例中，第一屏蔽装置105旨在大致平行于手术台305的长轴定位，并保护用户的上半身免受从手术台305下方的点发射的X射线的影响。在图示的实施例中，第一屏蔽装置105是固定到支撑臂150的大致平面形竖直屏蔽件。当然，第一屏蔽装置105即使不完全竖直也可以实现其功能，并且可以根据需要或期望设计成倾斜的，从而自定义被屏蔽区域。第一竖直屏蔽件105的一些实施例将被设计成在用户头部上方延伸，以防止直接辐射到达用户头部。第一竖直屏蔽件105可以设计成延伸到站立用户或在某些情况下坐着的用户的头部上方。所示的第一竖直屏蔽件105的实施例的长度足以从患者的头部延伸到患者的腰部附近。这种配置在使用X光检查来可视化患者胸部区域的手术中特别有用。可以增加所述长度以提供更广泛的保护，但这种长度的增加必须与伴随这种变化的额外重量和配置灵活性的降低相平衡。

在所示实施例中，在第一屏蔽装置105中示出了开口110，以允许患者的手臂从被屏蔽区域伸出。可选地，开口110可以包含柔性屏蔽材料，例如不透射线的幕帘或柔性法兰220。如图所示的开口110是半圆形，但也可以采用允许患者的附肢延伸穿过屏蔽装置的任何形状。开口110为辐射泄漏提供了可能的路径。第三屏蔽装置120被定位成阻挡通过开口110照射的辐射照射到用户上。在图示的实施例中，第三屏蔽装置120是位于开口110上方并与第一竖直屏蔽件105垂直的水平屏蔽件。该特定配置可用于阻挡来自开口110下方和竖直屏蔽件的与用户站立侧相反的一侧的发射位置的辐射。第三屏蔽装置120可以不同地定向以适应相对于开口110的不同发射位置。

在图1至图3所示的实施例中，第二屏蔽装置115被构造成相对于第一屏蔽装置105旋转和平移，以允许根据患者的体型调整组件100并允许重新配置组件100，从而提供不同程度的接近患者并防止辐射。在图示的实施例中，第二屏蔽装置115采用连接到支撑臂150的第二大致竖直屏蔽件115的形式，以允许第二屏蔽装置115围绕臂的纵向轴线旋转并平行于同一根纵向轴线平移。在图1中，第二竖直屏蔽件115被示为处于与第一竖直屏蔽件105垂直的位置。这样的配置在实践中是有用的，以在第二竖直屏蔽件115穿过患者身体时使得用户能够接近患者的腿。如果患者定位成头部最靠近第二竖直屏蔽件115，则第二竖直屏蔽件115也可以降低到手术台305以形成完整的屏蔽件。在图3中，第二竖直屏蔽件115被示为大体平行于第一竖直屏蔽件105。

当第二屏蔽装置115位于手术台305上方时，第四屏蔽装置125用于阻挡可能从第二屏蔽装置115下方发出的辐射。在附图中，第四屏蔽装置125被示为是具有切口130的水平屏蔽件。该梯形切口130用于在手术期间提供对患者腹股沟的接近，这对于允许进入股静脉以进行关节镜插入是有用的。切口130是第二水平屏蔽件125的有用但可选的特征。在图示实施例中，第二水平屏蔽件125定位成拦截从手术台305下方发射的辐射，但该结构可以不同地定位以拦截来自另一个方向的辐射。

当存在第五屏蔽装置135时，其用于在用户位于支撑臂150的与辐射源相反的一侧时，拦截辐射以防止暴露用户的下半身。在第一屏蔽装置150下方通常不是一定要有这种结构，因为手术台通常配备有悬挂在手术台上的铅幕帘，用于需要放射监测的手术。然而，幕帘并不总是沿着手术台的整个长度延伸或沿着手术台的宽度延伸。

屏蔽装置的大部分表面区域对于它们旨在阻挡的辐射的频率和强度都是不透明的。屏蔽装置的一些实施例可以是完全不透射线的。不透X射线的示例性材料包括铅板、铅屑、含铅丙烯酸玻璃和铅颗粒的聚合物悬浮液。可以使用其他重金属，例如钡，但铅具有非常高的原子序数和稳定的核素等优点。随着沿辐射矢量的厚度增加，射线不透性增加。在设计屏蔽装置时，将在实现足够的射线不透性和限制设备重量之间取得平衡。例如，铅屏蔽件的一些实施例将是大约0.5mm-1.5mm厚。铅屏蔽件的进一步实施例将是大约0.8mm-1.0mm厚。较不致密的材料(如含铅丙烯酸)必须更厚才能达到与铅相同的射线不透性水平。例如，含铅丙烯酸屏蔽件的一些实施例将是大约12mm-35mm厚。含铅丙烯酸屏蔽件的其他实施例将是大约18mm-22mm厚。铅钡型玻璃是另一种合适的材料。例如，铅钡型玻璃屏蔽件的一些实施例将是约7mm-17mm厚。铅钡型玻璃屏蔽的其他实施例将是大约7mm、9mm、14mm或17mm厚。比较这些示例性材料发现，铅具有单位厚度下更好的射线不透性的优点，而含铅丙烯酸和铅钡型玻璃具有视觉透明性和X射线不透性的优点。在组件100的一些实施例中，第一至第五屏蔽装置105、115、120、125、135中的至少一个对可见光是透明的。在此类实施例中，透明屏蔽装置可具有等于或超过50％、55％、60％、65％、70％、75％、80％、85％、90％、95％、99％和100％之一的光透射率。

在任何具体材料的背景下，屏蔽装置的射线不透性可以表示为毫米-铅当量值。在系统的各种实施例中，第一屏蔽装置105、第二屏蔽装置115、第三屏蔽装置120、第四屏蔽装置125或第五屏蔽装置135中的至少一个具有至少0.5mm、1.0mm、1.5mm、2mm、3mm或3.3mm铅当量值的射线不透性。

上述任何屏蔽装置都可以通过不透射线接头205彼此连接或连接到支撑装置145。这种不透射线接头205将最小化来自发生器的辐射通过接头205的透射。这可以通过如下方式在板之间实现：例如，将具有足够窄的间隙的板连接在一起，其中当在手术台305处按预期定位所述板时，无法从辐射源穿过所述间隙描绘出一条直线。这种接头205可以使用例如不透射线的卡箍或搭接接头来构造。例如可以使用围绕固定到屏蔽装置的支撑臂150的不透射线套筒来构造具有支撑臂150的不透射线接头205。

辐射屏蔽组件100由支撑臂150支撑并且定位成将第一屏蔽组件和第二屏蔽组件设置在患者和用户之间。第一屏蔽组件固定到支撑臂150，包括第一大致竖直屏蔽件105和第一大致水平屏蔽件120。第二屏蔽组件也固定到支撑臂150，并且相对于第一屏蔽组件沿支撑臂150的纵向轴线旋转和平移。第二屏蔽组件包括：位于手术台305上方的第二大致平面形竖直屏蔽件115；连接到第二竖直屏蔽件115并位于手术台305上方的第二大致水平屏蔽件125；以及从第二水平屏蔽件125延伸到手术台305下方的下部大致平面形竖直屏蔽件135。第二竖直屏蔽件115可以绕其轴线旋转成大致垂直于手术台305的纵向轴线或大致平行于手术台305的纵向轴线。

屏蔽组件还可以包括一个或多个无菌覆盖物以在手术期间保持无菌。这种覆盖物可以由任何适合灭菌的材料制成。覆盖物也可以由在制造时就无菌的材料制成，即使这种材料不适合随后的灭菌；覆盖物的这种实施例可以被认为是一次性的。适合灭菌的材料可以适合仅一种灭菌方法，或适合多种方法。已知的灭菌方法包括化学灭菌、热灭菌(湿式和干式)和辐射灭菌(例如伽马射线)。覆盖物可以由透明材料构成，其具有在一个或多个屏蔽件也是透明的情况下允许医务人员观察患者的优点。一个或多个覆盖物可以是射线可透的，因为它们的主要功能是提供无菌环境，而不是本身提供额外的辐射防护。在系统的一些实施例中，所有的覆盖物都是射线可透的。

屏蔽组件可以包括以下中的一个或多个：第一屏蔽装置或第一竖直屏蔽件上的第一覆盖物405；第二屏蔽装置或第二竖直屏蔽件上的第二覆盖物415；第三屏蔽装置或第一水平屏蔽件上的第三覆盖物420；第四屏蔽装置或第二水平屏蔽件上的第四覆盖物425；第五屏蔽装置或下部竖直屏蔽件上的第五覆盖物435；第六屏蔽装置或第三大致竖直屏蔽件上的第六覆盖物410；以及支撑装置或杆柱上的第七覆盖物440。在屏蔽组件的一些实施例中，第一、第三和第六覆盖物405、420、410是单个部件的各个部分。在屏蔽组件的一些实施例中，第二和第四覆盖物415、425是单个部件的各个部分。在图19所示的实施例中，第一覆盖物单元450包括围绕第一屏蔽组件的组成部分的第一、第三和第六覆盖物405、420、410；并且第二覆盖物单元455包括围绕第二屏蔽组件的组成部分的第二和第四覆盖物415、425。

无菌覆盖物可以采用各种形状。示例包括从杆上悬挂下来的盖布或位于盖布上方的其他支撑结构。另一个示例是覆盖一个或多个屏蔽件的多个侧面的壳层。这种壳层可以是硬壁的(如盒子)或软的(如袋子)。软的壳层可包括将覆盖物紧固在屏蔽件上的装置，例如拉绳。覆盖物可以成形为容纳一个或多个屏蔽件。

图18示出了在无菌覆盖物就位时的屏蔽组件的实施例。第一屏蔽组件(包括第一竖直屏蔽件和第一水平屏蔽件)被透明塑料制成的软覆盖物单元覆盖。软覆盖物单元包括配合在第一竖直屏蔽件上的第一覆盖部分405和配合在第一水平屏蔽件上的第三覆盖部分420。可以使用拉绳将第一屏蔽组件上的软覆盖物单元紧固到位。第二屏蔽组件部分地被第二软覆盖物单元覆盖；第二软覆盖物单元包括围绕第二竖直屏蔽件的第二覆盖物415和位于第二水平屏蔽件上的第四覆盖物425。下部竖直屏蔽件被第五覆盖物435覆盖，第五覆盖物435采用悬垂的盖布的形式。支撑杆柱也被第七覆盖物440覆盖，第七覆盖物440例如是可灭菌盖布。注意，支撑杆柱的盖布通过小粘合剂片粘附到第一和第二屏蔽组件的软覆盖物上。

屏蔽组件可以是包括手术台305、X射线发生器310和图像增强器315(见图10和图11)的更大系统的一部分。如本领域中已知的，X射线发生器310将被定位成引导X射线穿过手术台305并到达另一侧的图像增强器315。例如，发生器310和图像增强器315可以相互安装在C形臂320上。手术台305通常具有从手术台305的至少一侧垂下的不透射线的幕帘325。幕帘325也可以围绕手术台305的两侧或更多侧延伸。幕帘325在系统配置有位于手术台305下方的X射线发生器310时特别有用。患者通常会“匍匐”，这意味着患者以任何合适的方位躺在手术台305上，包括仰卧、俯卧和侧卧。通常，患者将被放置在手术台305上，位于X射线发生器310和图像增强器315之间，例如通常安装在C形臂320上。在附图中，X射线发生器310示出为在患者下方，这是一种常用配置，但不是系统唯一可以使用的配置。工作台(例如手术台305)能够支撑患者。根据患者的年龄和体型，可以使用手术台305的各种配置。图像增强器315将被定位成接收从X射线发生器310投射的X射线(例如，如果X射线发生器310在手术台305下方，则将图像增强器315定位在手术台305上方)。通常，不透射线的幕帘屏蔽件325在医务人员工作的一侧(“第一侧”)从手术台305向下延伸。第一屏蔽装置105可以定位成沿其长尺寸接触手术台的边缘，或者使得第一屏蔽装置105的底部边缘沿其长尺寸低于手术台305的表面。第二屏蔽装置115也可以平行于手术台305的长尺寸定位，以便在用户和患者的下肢之间形成屏障。在这种配置中，第二屏蔽装置115也将被定位成使其下边缘接触手术台305或悬在手术台表面的高度以下，以阻挡辐射到达用户。可替代地，第二屏蔽装置115可以相对于第一屏蔽装置105以近似垂直的角度旋转，从而与手术台305横向交叉。如果第二屏蔽装置115在底部具有切口以容纳患者的身体，那么这可以为用户提供接近患者下肢的路径，例如接近股静脉。第二屏蔽装置115可以沿着支撑装置145适当地升高以适应患者的生理机能。还能够想到，可以将第二屏蔽装置115定位成与手术台305横向交叉，并与手术台305接触，例如在患者的头部位于第二屏蔽装置115附近的情况下(未示出)。因此，诸如导管或关节镜器械之类的医疗器械可以通过延伸经过第一屏蔽装置105或第二屏蔽装置115的手臂或腿插入患者的脉管系统，同时使到达用户的辐射最小化。

提供了一种使用以上公开的辐射屏蔽组件100的任何实施例的放射学方法。该方法包括将上述辐射屏蔽组件或系统中的任何一个定位在患者和用户之间，使得患者的附肢延伸穿过屏蔽组件中的附肢开口110；将医疗器械插入附肢的脉管系统；以及使用辐射发生器310照射患者，其中辐射发生器310定位成使得辐射至少部分地穿过患者，同时辐射被屏蔽组件100阻挡而不能到达用户。

C.示例

分析是在测试地点进行的，目的是评估屏蔽系统的实施例。二次散射辐射是利用通常用于荧光镜检查操作的Siemens C-ARM X射线源通过两个CIRS 76-125患者等效体模产生的。进行分析以调查通过定制屏蔽件的散射辐射，并将其与没有防护屏蔽件的情况下以及具有铅围裙的情况下的结果进行比较。

测试样品是专门为C-ARM应用制造的定制铅丙烯酸辐射防护屏蔽件。该屏蔽件由一系列定制制造的18.8mm厚的铅丙烯酸材料(Sharp Mfg.West Bridgewater，MA)组成，最小密度为4.36g/cm³，折射率为1.71，热膨胀系数为8E-6/℃(30°-380°)，努氏硬度为370。具体地，所述材料是高光学级铅钡型玻璃，重金属氧化物大于60％，PbO占至少55％。制造商保证该材料的铅当量大于3.3mm Pb。带有标签的定制屏蔽件设计大致如图4所示地构造。除了由铝制成的支撑系统外，屏蔽系统全部由完全相同的源材料制成。所有面板均由制造商制造和切割。

散射辐射是使用西门子型号10394668(序列号为1398)的医用C形臂源通过CIRS76-125铅丙烯酸患者等效体模四肢和躯干(用于代表具有手臂的患者躯干)而产生的，(Computerized Imaging Reference Systems,Inc.，Norfolk，VA)。根据报告，西门子医疗C形臂与剂量监测室(diamentor chamber)一起在70kV下具有0.8mm铝的固有过滤能力，尺寸B是在70kV下为0.2mm铝。本报告中讨论的测量未使用二次过滤。

使用序列号为2079的Victoreen 470A全景测量仪进行辐射测量。使用阿拉巴马大学伯明翰分校(UAB)放射学实验室的Cs-137同位素源进行校准。

使用两种产品与铅围裙进行了比较：一种是序列号为T116969的Techno Aide铅围裙，另一种是序列号为1 02 001的Xenolite。根据制造商的信息，两种铅围裙的铅当量均为0.5mm Pb。

测试方法和程序由以下进行指导：ASTM F3094(ASTM国际：“Standard TestMethod for Determining Protection Provided by X-ray Shielding Garments Usedin Medical X-ray Fluoroscopy from Sources of Scattered X-Rays”，ASTM第11.03卷，职业健康和安全；防护性衣物(2017))；IEC 61331-1(国际电工委员会：“Protectivedevices against diagnostic medical X-radiation-Part 1:Determination ofattenuation properties of materials”(2014)，可在https://webstore.iec.ch/publication/5289获得)；以及医学物理学家。测试方法是在执行之前开发和创建的。ASTMF3094和IEC 61331-1以引用方式并入本文，以使本领域普通技术人员能够执行这些协议。

对定制制造的铅丙烯酸屏蔽件进行了散射辐射衰减和均匀性测试。此外，沿着整个屏蔽件的主要边缘以及医生在手术过程中放置患者手臂处的半圆形部分进行了测量。等效散射辐射测量值与0.5mm铅当量铅围裙进行了比较。最后一组测量是在屏蔽件没有就位的情况下进行的。所有数据均在现场记录。使用10秒的暴露时间记录所有测量值，并至少重复3次。防护等级的标准基于从81kV的X射线C-ARM源测得的散射辐射衰减。

Victoreen 470A检测到的辐射代表X射线与CIRS 76-125患者等效体模相互作用产生的散射X射线辐射。C-ARM X射线源之间的距离设置为用于患者检查的默认距离，即17英寸或43.18cm。该协议在本文中称为“修订后的ASTM F3094/IEC61331-1协议”。

在没有屏蔽件的情况下进行的平均散射辐射测量可以在下表1中找到。所有测量均最少重复三次。辐射测量首先是在定制制造的屏蔽件就位的情况下进行的，以便可以标记屏蔽件、体模和探测器的准确位置以供后续测量使用，而无需任何屏蔽件或与两个铅围裙进行比较测量。

测量区域	mR/hr(mR/小时)平均(标准偏差)
		居中	3.725(0.095)
底部，边缘	1.65(0.1)
		右边，边缘	1.67(0.057)
顶部，边缘	2.7(0.0)
		左边，边缘	3.55(0.057)
底部，左边，边缘	2.267(0.058)

表1：无防护屏蔽件情况下的体模、散射暴露总结

所有测量均最少重复三次。使用定制制造的铅-丙烯酸屏蔽件(图12)进行的平均散射辐射测量可以在下表2中找到。通过定制制造的屏蔽件以及目前普遍接收的铅围裙进行的测量的强度非常低，仅略高于背景辐射。结果，与上表1中没有任何屏蔽件情况下的测量相比，重复测量产生了低标准偏差。

测量区域	mR/hr(标准偏差)
		居中	0.083(0.029)
底部，边缘	0.15(0.0)
		右边，边缘	0.15(0.0)
顶部，边缘	0.15(0.077)
		左边，边缘	0.2(0.0)
底部，左边，边缘	0.25(0.0)

表2：有定制制造的屏蔽件情况下的体模、散射暴露总结

此外，进行了测量以检测医生在使用时的精确位置下的辐射水平。测量是专门在医生的腹股沟高度以及医生的胸部高度处进行的。结果总结在下表3中。

测量区域	mR/hr(标准偏差)
		医生的中胸部	0.0773(0.0343)
医生的腹股沟	0.21(0.022)

表3：有定制制造的屏蔽件情况下的体模、散射暴露总结

然后使用Techno Aide 0.5mm铅等效围裙进行散射辐射测量，这些测量可在下表4中找到。测量是通过铅围裙(图13)进行的，目的是将普遍接收的医疗辐射防护装置与本研究中提出的装置进行比较。使用实际、真实位置下的严格比较，以力图提供最准确的信息和比较。下面创建了一个图形表示，其中表4总结了对于散射辐射测量的观察平均值(具有标准偏差)。

测量区域	mR/hr(标准偏差)
		居中	0.075(0.027)
底部，边缘	0.075(0.029)
		右边，边缘	0.1125(0.025)
顶部，边缘	0.1(0.0)
		左边，边缘	0.1(0.0)

表4：使用Techno Aide 0.5mm Pb铅围裙情况下的体模、

散射暴露总结

在第一个0.5mm铅当量围裙上完成调查测量后，选择第二个铅围裙并以对TechnoAide产品完全一样的方式进行重复测量。散射辐射测量的平均测量结果总结在表5中，用于第二个XenoLite铅围裙比较。

测量区域	平均(标准偏差)mR/hr
		居中	0.05(0.0)
底部，边缘	0.1(0.0)
		右边，边缘	0.05(0.0)
顶部，边缘	0.1(0.0)
		左边，边缘	0.067(0.03)

表5：使用XenoLite 0.5mm Pb铅围裙情况下的体模、散射暴露总结

测量两个屏蔽部件作为一致性的代表，以确保整个屏蔽设备中不存在空隙。这些测量以与上述相同的方式进行。结果可以在图14和15中找到。数据以与表1至4中相同的格式表示，括号中为报告的平均散射辐射测量值和标准偏差。

如图14所示，在对主面板A进行调查测量时没有观察到明显的空隙。辐射测量产生的值与之前报告的以各个面板为中心情况下的测量结果非常相似。需要附加说明的是，重复测量基本相同，产生的标准偏差较低。

如图15所示，使用主体面板A对四个区域的一致性进行了调查。平均测量辐射值如上所示，括号中为标准偏差。图14和图15之间的快速比较显示了主面板A与主体面板A之间非常相似的值。

通过/失败标准基于定制在C-ARM屏蔽设备中的工业级铅丙烯酸的预先接受的性能标准。此外，该屏蔽设备提供的保护必须等于或大于用于相同应用的目前普遍接受的铅围裙所提供的。使用阿拉巴马州指南，即医务人员每年接受不超过5雷姆(Rem)作为浅剂量当量，并将其用作通过/失败标准。

本研究的终点基于阿拉巴马州医生在C-ARM患者检查中使用的保护装置指南所规定的所有测量的成功完成。本研究的终点特别基于使用目前普遍接受的铅围裙与没有任何类型的防护屏蔽件以及有定制制造的铅丙烯酸屏蔽件相比进行的可比较测量。

赞助商定制制造的铅丙烯酸屏蔽件背后可检测到的辐射水平与基于制造商的性能标准的计算值一致。检测到的辐射水平在对于医务人员容许的最大允许辐射剂量范围内。

与目前普遍接受的铅围裙相比，在定制屏蔽件背后检测到的衰减辐射水平相对来说是相同的。定制屏蔽件和铅围裙的性能在很大程度上是由于在这种情况下检测到二次辐射，而不是一次辐射。散射等效初级辐射用于确定材料的官方铅当量。在诸如本研究中使用的实际散射条件下，二次辐射的可测量量是如此之低，以致人们不会预见到在具有不同铅当量的材料之间存在可测量的差异。

使用当前接受的每年5雷姆(R)、每年52个工作周和每周暴露40小时的剂量当量，计算出使用该屏蔽件原型的年暴露总量。根据本研究期间观察到的最高辐射测量值0.25mR/hr，每周工作40小时将产生每周10mR的总剂量。使用从所有测量值计算出的平均值0.164mR/hr，每周工作40小时将产生每周6.6mR的总剂量。使用每周10mR的最大可能剂量，定制制造的屏蔽装置将产生每年520mR或0.52R的总剂量。

D.结论

前文的说明图示并描述了本发明的过程、机器、制造、物质组成和其他教导。此外，本发明仅示出和描述了所公开的过程、机器、制造、物质组成和其他教导的某些实施例，但是如上所述，应当理解，本发明的教导能够用于各种其他组合、修改和环境，并且能够在如本文表达的教导的范围内，与相关领域普通技术人员的技能和/或知识相称地进行改变或修改。上文描述的实施例进一步旨在解释实践本发明的过程、机器、制造、物质组成和其他教导的某些已知最佳模式，并使本领域的其他技术人员能够在这些或其他实施例中利用本发明的教导，其中可以根据特定应用或用途的需要进行各种修改。因此，本发明的过程、机器、制造、物质组成和其他教导并不意在限制本文公开的确切实施例和示例。本文提供的任何章节标题仅用于与37 C.F.R.§1.77一致或以其他方式提供组织序列。这些标题不应限制或表征本文描述的发明。

Claims (139)

1.一种辐射屏蔽组件，所述辐射屏蔽组件构造成阻挡从辐射源发出的辐射，所述组件包括：

(a)支撑所述组件的支撑装置；

(b)第一屏蔽装置，所述第一屏蔽装置第一大致竖直平面内阻挡来自辐射源的辐射，所述第一屏蔽装置固定在所述支撑装置上，并且包括附肢开口，所述附肢开口的尺寸设定为允许人体附肢穿过所述第一屏蔽装置；

(c)第二屏蔽装置，所述第二屏蔽装置在第二大致竖直平面内阻挡来自辐射源的辐射，所述第二屏蔽装置固定到所述支撑装置上，以允许所述第二屏蔽装置相对于所述第一屏蔽装置沿大致竖直轴线平移和旋转；以及

(d)至少以下一者：

(i)在所述第一屏蔽装置上的第一无菌覆盖物；以及

(ii)在所述第一屏蔽装置上的第二无菌覆盖物。

2.根据权利要求1所述的辐射屏蔽组件，包括：在所述第一屏蔽装置上的所述第一无菌覆盖物；以及在所述第一屏蔽装置上的所述第二无菌覆盖物。

3.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括第三屏蔽装置，所述第三屏蔽装置在与第一竖直平面大致垂直的第一大致水平平面中阻挡来自所述附肢开口的辐射，并且所述第三屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置，使得所述第三屏蔽装置随所述第一屏蔽装置平移和旋转。

4.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第三屏蔽装置，所述第三屏蔽装置在与第一竖直平面大致垂直的第一大致水平平面中阻挡来自所述附肢开口的辐射，并且所述第三屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置，使得所述第三屏蔽装置随所述第一屏蔽装置平移和旋转；以及在所述第三屏蔽装置上的第三无菌覆盖物。

5.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第三屏蔽装置，所述第三屏蔽装置在与第一竖直平面大致垂直的第一大致水平平面中阻挡来自所述附肢开口的辐射，并且所述第三屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置，使得所述第三屏蔽装置随所述第一屏蔽装置平移和旋转；其中所述第一无菌覆盖物包括在所述第三屏蔽装置上的第三无菌覆盖物。

6.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括第四屏蔽装置，所述第四屏蔽装置在与第二竖直平面大致垂直的第二大致水平平面中阻挡来自辐射源的辐射，并且所述第四屏蔽装置固定到所述第二屏蔽装置，使得所述第四屏蔽装置随所述第二屏蔽装置平移和旋转。

7.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第四屏蔽装置，所述第四屏蔽装置在与第二竖直平面大致垂直的第二大致水平平面中阻挡来自辐射源的辐射，并且所述第四屏蔽装置固定到所述第二屏蔽装置，使得所述第四屏蔽装置随所述第二屏蔽装置平移和旋转；以及在所述第四屏蔽装置上的第四无菌覆盖物。

8.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第四屏蔽装置，所述第四屏蔽装置在与第二竖直平面大致垂直的第二大致水平平面中阻挡来自辐射源的辐射，并且所述第四屏蔽装置固定到所述第二屏蔽装置，使得所述第四屏蔽装置随所述第二屏蔽装置平移和旋转；并且其中所述第二无菌覆盖物包括在所述第四屏蔽装置上的第四无菌覆盖物。

9.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第五屏蔽装置，所述第五屏蔽装置在与第二大致竖直平面和第二大致水平平面大致垂直的第三大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，并且所述第五屏蔽装置连接到所述第二屏蔽装置，使得所述第四屏蔽装置随所述第二屏蔽装置平移和旋转。

10.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第五屏蔽装置，所述第五屏蔽装置在与第二大致竖直平面和第二大致水平平面大致垂直的第三大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，并且所述第五屏蔽装置连接到所述第二屏蔽装置，使得所述第四屏蔽装置随所述第二屏蔽装置平移和旋转；以及在所述第五屏蔽装置上的第五无菌覆盖物。

11.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第六屏蔽装置，所述第六屏蔽装置在与第一大致竖直平面大致平行的第四大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第六屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置。

12.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第六屏蔽装置，所述第六屏蔽装置在与第一大致竖直平面大致平行的第四大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第六屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置；以及在所述第六屏蔽装置上的第六无菌覆盖物。

13.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第六屏蔽装置，所述第六屏蔽装置在与第一大致竖直平面大致平行的第四大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第六屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置；并且其中所述第一无菌覆盖物包括在所述第六屏蔽装置上的第六无菌覆盖物。

14.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第六屏蔽装置，所述第六屏蔽装置在与第一大致竖直平面大致平行的第四大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第六屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置，并且其中所述第六屏蔽装置选自由以下各项构成的组：大致平面形屏蔽件、柔性盖布、以及所述第一屏蔽装置的延伸部。

15.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置和所述第二屏蔽装置被构造成在至少约90°的弧上相对于彼此旋转。

16.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置和所述第二屏蔽装置被构造成在高达约180°的弧上相对于彼此旋转。

17.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置和所述第二屏蔽装置被构造成在大约0-180°的弧上相对于彼此旋转。

18.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置包括大致竖直的杆柱。

19.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置能够支撑所述辐射屏蔽组件的大约整个重量。

20.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置能够支撑所述辐射屏蔽组件的整个重量。

21.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，在操作中，所述支撑装置支撑所述辐射屏蔽组件的整个重量。

22.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置和所述第三屏蔽装置被构造成一起竖直平移。

23.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置和所述第三屏蔽装置被构造成沿所述支撑装置一起平移。

24.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置被构造成沿大致竖直轴线平移，使得在第一位置中，所述第一屏蔽装置的顶部边缘至少约为地板上方的成年人的高度。

25.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置被构造成沿大致竖直轴线平移，使得在第一位置中，所述第一屏蔽装置的顶部边缘至少在地板上方约2m处。

26.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置的高度至少约为从手术台的上表面到平均人类全身高的距离。

27.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当手术台被放置在地板上时，所述第一屏蔽装置的高度至少约为从所述手术台的上表面到地板上方2m的高度的距离。

28.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置、所述第二屏蔽装置、所述第三屏蔽装置、所述第四屏蔽装置或所述第五屏蔽装置中的至少一个具有至少0.5mm铅当量的辐射不透性。

29.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置具有至少0.5mm铅当量的辐射不透性。

30.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置、所述第二屏蔽装置、所述第三屏蔽装置、所述第四屏蔽装置或所述第五屏蔽装置中的至少一个具有至少1mm铅当量的辐射不透性。

31.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置具有至少1mm铅当量的辐射不透性。

32.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置、所述第二屏蔽装置、所述第三屏蔽装置、所述第四屏蔽装置或所述第五屏蔽装置中的至少一个具有至少1.5mm铅当量的辐射不透性。

33.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置具有至少1.5mm铅当量的辐射不透性。

34.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置、所述第二屏蔽装置、所述第三屏蔽装置、所述第四屏蔽装置或所述第五屏蔽装置中的至少一个具有至少2mm铅当量的辐射不透性。

35.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置具有至少2mm铅当量的辐射不透性。

36.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置、所述第二屏蔽装置、所述第三屏蔽装置、所述第四屏蔽装置或所述第五屏蔽装置中的至少一个具有至少3mm铅当量的辐射不透性。

37.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置具有至少3mm铅当量的辐射不透性。

38.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置、所述第二屏蔽装置、所述第三屏蔽装置、所述第四屏蔽装置或所述第五屏蔽装置中的至少一个具有至少3.3mm铅当量的辐射不透性。

39.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置具有至少3.3mm铅当量的辐射不透性。

40.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当通过修订的ASTMF3094/IEC 61331-1协议测量时，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置中的至少一个将辐射暴露降低至少85％。

41.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当通过修订的ASTMF3094/IEC 61331-1协议测量时，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置将辐射暴露降低至少85％。

42.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当通过修订的ASTMF3094/IEC 61331-1协议测量时，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置中的至少一个将辐射暴露降低至2.5mR/hr以下。

43.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当通过修订的ASTMF3094/IEC 61331-1协议测量时，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置将辐射暴露降低至2.5mR/hr以下。

44.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当通过修订的ASTMF3094/IEC 61331-1协议测量时，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置中的至少一个将辐射暴露降低至不超过约2.5mR/hr。

45.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，当通过修订的ASTMF3094/IEC 61331-1协议测量时，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置将辐射暴露降低至不超过约2.5mR/hr。

46.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括柔性不透射线构件，所述柔性不透射线构件定位成至少部分地覆盖所述附肢开口并且构造成允许人体附肢穿过所述附肢开口。

47.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括柔性不透射线构件，所述柔性不透射线构件定位成至少部分地覆盖所述附肢开口并且构造成允许人体附肢穿过所述附肢开口，其中所述柔性不透射线构件选自由幕帘、虹膜口的挡叶以及护套构成的组。

48.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第二屏蔽装置和所述第四屏蔽装置被构造成沿所述支撑装置一起平移。

49.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括用于沿着所述支撑装置升高和降低所述第一屏蔽装置和所述第三屏蔽装置中的至少一个的装置。

50.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括用于沿所述支撑装置彼此独立地升高和降低所述第一屏蔽装置和所述第二屏蔽装置的装置。

51.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括用于沿所述支撑装置升高和降低所述第一屏蔽装置和所述第二屏蔽装置的装置。

52.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，用于升高和降低的所述装置选自：辅助机构、配重系统、电动机、液压系统、气动系统和手动系统。

53.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置包括由落地支架支撑的杆柱。

54.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱。

55.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，其中所述杆柱能够围绕所述高架吊杆的纵向轴线旋转。

56.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，其中所述杆柱能够相对于所述高架吊杆枢转。

57.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，其中所述杆柱能够沿所述高架吊杆的纵向轴线平移。

58.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，其中所述高架吊杆由第二杆柱支撑。

59.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，所述高架吊杆由第二杆柱支撑，并且所述第二杆柱由壁挂式导轨或吊顶安装式导轨支撑，并且其中所述第二杆柱能够沿所述壁挂式导轨或吊顶安装式导轨平移。

60.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，所述高架吊杆由第二杆柱支撑，并且其中所述第二杆柱由壁挂式摆臂或吊顶安装式摆臂支撑。

61.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置是由高架吊杆悬挂的杆柱，所述高架吊杆由第二杆柱支撑，并且所述第二杆柱由摆臂支撑，所述摆臂则由壁挂式导轨或吊顶安装式导轨支撑，并且其中所述摆臂能够沿所述壁挂式导轨或吊顶安装式导轨平移。

62.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置中的至少一个对可见光是透明的。

63.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置至所述第六屏蔽装置对可见光是透明的。

64.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述支撑装置包括被构造成支撑所述辐射屏蔽组件的至少大部分重量的支撑臂。

65.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第一屏蔽装置是第一大致平面形竖直屏蔽件。

66.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第三屏蔽装置是第一大致水平屏蔽件。

67.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第二屏蔽装置是第二大致平面形竖直屏蔽件。

68.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第四屏蔽装置是第二大致水平屏蔽件。

69.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中，所述第五屏蔽装置是下部大致平面形竖直屏蔽件。

70.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，其中：

(a)所述第一屏蔽装置是第一大致平面形竖直屏蔽件；

(b)所述第三屏蔽装置是第一大致水平屏蔽件；

(c)所述第二屏蔽装置是第二大致平面形竖直屏蔽件；

(d)所述第四屏蔽装置是第二大致水平屏蔽件；并且

(e)所述第五屏蔽装置是下部大致平面形竖直屏蔽件。

71.一种辐射屏蔽组件，所述辐射屏蔽组件构造成阻挡从辐射源发出的辐射，所述组件包括：

(a)支撑臂，所述支撑臂构造成支撑所述屏蔽组件的至少大部分重量，并且所述支撑臂具有纵向轴线；

(b)第一大致平面形竖直屏蔽件，所述第一大致平面形竖直屏蔽件固定在所述支撑臂上，并具有靠近下端的开口，所述开口的尺寸设定为容纳人体附肢；

(c)第二大致平面形竖直屏蔽件，所述第二大致平面形竖直屏蔽件可平移且可旋转地连接到所述支撑臂，以围绕大致平行于所述支撑臂的纵向轴线的轴线旋转并沿其平移；

其中，所述第一竖直屏蔽件、所述第一水平屏蔽件、所述第二竖直屏蔽件件、所述第二水平屏蔽件和所述下部竖直屏蔽件均不透射线；并且

所述辐射屏蔽组件还包括在所述第一竖直屏蔽件和所述第二竖直屏蔽件中的至少一个上的无菌覆盖物。

72.根据权利要求71所述的辐射屏蔽组件，包括第一大致水平屏蔽件，所述第一大致水平屏蔽件连接到所述第一竖直屏蔽件以与所述第一竖直屏蔽件一起平移和旋转，并且所述第一大致水平屏蔽件定位成阻挡从所述第一竖直屏蔽件中的所述开口发出的辐射。

73.根据权利要求71至72中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第一大致水平屏蔽件，所述第一大致水平屏蔽件连接到所述第一竖直屏蔽件以与所述第一竖直屏蔽件一起平移和旋转，并且所述第一大致水平屏蔽件定位成阻挡从所述第一竖直屏蔽件中的所述开口发出的辐射；以及在所述第一大致水平屏蔽件上的第三无菌覆盖物。

74.根据权利要求71至73中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括第二大致水平屏蔽件，所述第二大致水平屏蔽件连接到所述第二竖直屏蔽件以与所述第二竖直屏蔽件一起平移和旋转。

75.根据权利要求71至73中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第二大致水平屏蔽件，所述第二大致水平屏蔽件连接到所述第二竖直屏蔽件以与所述第二竖直屏蔽件一起平移和旋转；以及在所述第二大致水平屏蔽件上的第四无菌覆盖物。

76.根据权利要求71至75中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括下部大致平面形竖直屏蔽件，所述下部大致平面形竖直屏蔽件连接到所述第二水平屏蔽件以与所述第二水平屏蔽件和所述第二竖直屏蔽件一起平移和旋转，其中所述下部屏蔽件大致垂直于所述第二竖直屏蔽件和所述第二水平屏蔽件。

77.根据权利要求71至75中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：下部大致平面形竖直屏蔽件，所述下部大致平面形竖直屏蔽件连接到所述第二水平屏蔽件以与所述第二水平屏蔽件和所述第二竖直屏蔽件一起平移和旋转，其中所述下部屏蔽件大致垂直于所述第二竖直屏蔽件和所述第二水平屏蔽件；以及在所述下部大致平面形竖直屏蔽件上的第五无菌覆盖物。

78.根据权利要求71至77中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括第三大致竖直屏蔽件，所述第三大致竖直屏蔽件在大致平行于所述大致平面形竖直屏蔽件的大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第三大致竖直屏蔽件固定到所述第一屏蔽装置上。

79.根据权利要求71至77中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括：第三大致竖直屏蔽件，所述第三大致竖直屏蔽件在大致平行于所述大致平面形竖直屏蔽件的大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第三大致竖直屏蔽件固定到所述第一屏蔽装置上；以及在所述第三大致竖直屏蔽件上的第六无菌覆盖物。

80.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括第六屏蔽装置，所述第六屏蔽装置在与第一大致竖直平面大致平行的第四大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第六屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置，并且其中所述第三大致竖直屏蔽件选自由以下各项构成的组：大致平面形实心屏蔽件、柔性盖布、以及所述第一大致平面形竖直屏蔽件的延伸部。

81.根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件，包括第六屏蔽装置，所述第六屏蔽装置在与第一大致竖直平面大致平行的第四大致竖直平面中阻挡来自辐射源的辐射，其中所述第六屏蔽装置固定到所述第一屏蔽装置，并且其中所述第三大致竖直屏蔽件选自由以下各项构成的组：大致平面形实心屏蔽件、以及所述第一大致平面形竖直屏蔽件的延伸部；以及在所述第六屏蔽装置上的第六无菌覆盖物。

82.一种辐射屏蔽组件，所述辐射屏蔽组件构造成阻挡从辐射源发出的辐射，所述组件包括：

(a)支撑臂，所述支撑臂构造成支撑所述屏蔽组件的至少大部分重量，并且所述支撑臂具有纵向轴线；

(b)第一大致平面形竖直屏蔽件，所述第一大致平面形竖直屏蔽件通过第一不透射线接头固定在所述支撑臂上；

(c)第二大致平面形竖直屏蔽件，所述第二大致平面形竖直屏蔽件通过第二不透射线接头可平移且可旋转地连接至所述支撑臂，以围绕大致平行于所述支撑臂的纵向轴线的轴线旋转并沿其平移；以及

(d)在所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第二大致平面形竖直屏蔽件中的至少一个上的无菌覆盖物。

83.根据权利要求82所述的辐射屏蔽组件，包括下部大致平面形竖直屏蔽件，所述下部大致平面形竖直屏蔽件连接到所述第二大致平面形竖直屏蔽件以与所述第二竖直屏蔽件一起平移和旋转，其中所述下部屏蔽件大致垂直于所述第二竖直屏蔽件和所述第二水平屏蔽件。

84.根据权利要求82所述的辐射屏蔽组件，包括：下部大致平面形竖直屏蔽件，所述下部大致平面形竖直屏蔽件连接到所述第二大致平面形竖直屏蔽件以与所述第二竖直屏蔽件一起平移和旋转，其中所述下部屏蔽件大致垂直于所述第二竖直屏蔽件和所述第二水平屏蔽件；以及在所述下部大致平面形竖直屏蔽件上的第五无菌覆盖物。

85.一种用于在用户照料位于底部安装式X射线投射器上方的匍匐患者时遮蔽所述用户免受所述X射线投射器的危害的系统，所述系统包括：

(a)构造成支撑患者的工作台，所述工作台具有纵向轴线和横向轴线；

(b)位于所述工作台下方的所述X射线投射器；

(c)位于所述工作台上方的图像增强器，用于接收从所述X射线投射器投射的X射线；

(d)不透射线的幕帘屏蔽件，所述幕帘屏蔽件在所述工作台的至少第一侧从所述工作台向下延伸；以及

(e)辐射屏蔽组件，所述辐射屏蔽组件包括：

(i)支撑臂，所述支撑臂构造成支撑所述屏蔽组件的重量并具有大致竖直的纵向轴线；

(ii)固定到所述支撑臂的第一屏蔽组件，所述第一屏蔽组件包括：

(A)第一大致平面形竖直屏蔽件，所述第一大致平面形竖直屏蔽件靠近所述工作台的第一侧定位并且大致平行于所述工作台的纵向轴线；以及

(B)在所述第一竖直屏蔽件中的、位于所述工作台上方的开口，以允许患者的手臂穿过所述开口；以及

(iii)第二屏蔽组件，所述第二屏蔽组件可旋转且可平移地固定在所述支撑臂上，以允许所述第二屏蔽组件绕大致平行于所述支撑臂的纵向轴线的轴线旋转和平移；其中所述第二屏蔽组件包括位于所述工作台上方的第二大致平面形竖直屏蔽件；以及

(iv)以下中的至少一个：在所述第一屏蔽组件上的第一无菌覆盖物、以及在所述第二屏蔽组件上的第二无菌覆盖物；

其中，所述第二竖直屏蔽件能够绕其轴线旋转成大致垂直于所述工作台的纵向轴线或大致平行于所述工作台的纵向轴线。

86.根据权利要求85所述的系统，其中，所述第一屏蔽组件包括位于所述开口上方的第一大致水平屏蔽件，以阻挡通过所述开口发出的辐射。

87.根据权利要求85所述的系统，其中，所述第一屏蔽组件包括：位于所述开口上方的第一大致水平屏蔽件，以阻挡通过所述开口发出的辐射；并且所述第一屏蔽组件包括在所述第一大致水平屏蔽件上的第三无菌覆盖物。

88.根据权利要求85至87中任一项所述的系统，其中，所述第二屏蔽组件包括连接到所述第二竖直屏蔽件并定位在所述工作台上方的第二大致水平屏蔽件。

89.根据权利要求85至87中任一项所述的系统，其中，所述第二屏蔽组件包括连接到所述第二竖直屏蔽件并定位在所述工作台上方的第二大致水平屏蔽件；并且所述第二屏蔽组件包括在所述第二大致水平屏蔽件上的第四无菌覆盖物。

90.根据权利要求85至89中任一项所述的系统，其中，所述第二屏蔽组件包括从所述第二水平屏蔽件延伸到所述工作台下方的下部大致平面形竖直屏蔽件。

91.根据权利要求85至89中任一项所述的系统，其中，所述第二屏蔽组件包括从所述第二水平屏蔽件延伸到所述工作台下方的下部大致平面形竖直屏蔽件；并且所述第二屏蔽组件包括在所述下部大致平面形竖直屏蔽件上的第五无菌覆盖物。

92.根据权利要求70至90中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第二大致平面形竖直屏蔽件被构造成在至少约90°的弧上相对于彼此旋转。

93.根据权利要求70至92中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第二大致平面形竖直屏蔽件被构造成在高达约180°的弧上相对于彼此旋转。

94.根据权利要求70至93中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第二大致平面形竖直屏蔽件被构造成在大约0-180°的弧上相对于彼此旋转。

95.根据权利要求70至94中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂包括大致竖直的杆柱。

96.根据权利要求70至95中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂能够支撑所述辐射屏蔽组件的大约整个重量。

97.根据权利要求70至96中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂能够支撑所述辐射屏蔽组件的整个重量。

98.根据权利要求70至97中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，在操作中，所述支撑臂支撑所述辐射屏蔽组件的整个重量。

99.根据权利要求70至98中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件被构造成竖直地平移。

100.根据权利要求70至99中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第一大致水平屏蔽件被构造成一起竖直地平移。

101.根据权利要求70至100中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件被构造成沿所述支撑臂平移。

102.根据权利要求70至101中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第一大致水平屏蔽件被构造成一起沿所述支撑臂平移。

103.根据权利要求70至102中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件被构造成沿大致竖直轴线平移，使得在第一位置，所述第一大致平面形竖直屏蔽件的顶部边缘至少约为地板上方的成年人的高度。

104.根据权利要求70至103中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件被构造成沿大致竖直轴线平移，使得在第一位置，所述第一大致平面形竖直屏蔽件的顶部边缘至少在地板上方约2m处。

105.根据权利要求70至104中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第一大致平面形竖直屏蔽件的高度至少约为从手术台的上表面到平均人类全身高的距离。

106.根据权利要求70至105中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当手术台被放置在地板上时，所述第一大致平面形竖直屏蔽件的高度至少约为从所述手术台的上表面到地板上方2m的高度的距离。

107.根据权利要求70至106中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个具有至少0.5mm铅当量的辐射不透性。

108.根据权利要求70至107中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件都具有至少0.5mm铅当量的辐射不透性。

109.根据权利要求70至108中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个具有至少1mm铅当量的辐射不透性。

110.根据权利要求70至109中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件都具有至少1mm铅当量的辐射不透性。

111.根据权利要求70至110中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个具有至少1.5mm铅当量的辐射不透性。

112.根据权利要求70至111中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件都具有至少1.5mm铅当量的辐射不透性。

113.根据权利要求70至112中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个具有至少2mm铅当量的辐射不透性。

114.根据权利要求70至113中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件都具有至少2mm铅当量的辐射不透性。

115.根据权利要求70至114中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个具有至少3mm铅当量的辐射不透性。

116.根据权利要求70至115中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件都具有至少3mm铅当量的辐射不透性。

117.根据权利要求70至116中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个具有至少3.3mm铅当量的辐射不透性。

118.根据权利要求70至117中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件都具有至少3.3mm铅当量的辐射不透性。

119.根据权利要求70至118中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当通过修订的ASTM F3094/IEC 61331-1协议测量时，所述屏蔽件中的至少一个将辐射暴露降低至少85％。

120.根据权利要求70至119中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当通过修订的ASTM F3094/IEC 61331-1协议测量时，所有所述屏蔽件将辐射暴露降低至少85％。

121.根据权利要求70至120中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当通过修订的ASTM F3094/IEC 61331-1协议测量时，所述屏蔽件中的至少一个将辐射暴露降低至2.5mR/hr以下。

122.根据权利要求70至121中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当通过修订的ASTM F3094/IEC 61331-1协议测量时，所有所述屏蔽件将辐射暴露降低至2.5mR/hr以下。

123.根据权利要求70至122中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当通过修订的ASTM F3094/IEC 61331-1协议测量时，所述屏蔽件中的至少一个将辐射暴露降低至不超过约2.5mR/hr。

124.根据权利要求70至123中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，当通过修订的ASTM F3094/IEC 61331-1协议测量时，所有所述屏蔽件将辐射暴露降低至不超过约2.5mR/hr。

125.根据权利要求70至124中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述第二大致平面形竖直屏蔽件和所述第二大致水平屏蔽件被构造成一起沿所述支撑臂平移。

126.根据权利要求70至125中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，包括柔性不透射线构件，所述柔性不透射线构件定位成至少部分地覆盖所述附肢开口并且构造成允许人体附肢穿过所述附肢开口。

127.根据权利要求70至126中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，包括柔性不透射线构件，所述柔性不透射线构件定位成至少部分地覆盖所述附肢开口并且构造成允许人体附肢穿过所述附肢开口，其中所述柔性不透射线构件选自由幕帘、虹膜口的挡叶以及护套构成的组。

128.根据权利要求70至127中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，包括用于沿着所述支撑臂升高和降低所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第一大致水平屏蔽件中的至少一个的装置。

129.根据权利要求70至128中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，包括用于沿着所述支撑臂升高和降低所述第一大致平面形竖直屏蔽件和所述第一大致水平屏蔽件中的至少一个的装置，其中用于升高和降低的所述装置选自：辅助机构、配重系统、电动机、液压系统、气动系统和手动系统。

130.根据权利要求70至129中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂包括由落地支架支撑的杆柱。

131.根据权利要求70至130中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂是由高架吊杆悬挂的杆柱。

132.根据权利要求70至131中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂是由高架吊杆悬挂的杆柱，并且其中所述杆柱能够围绕所述高架吊杆的纵向轴线旋转。

133.根据权利要求70至132中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂是由高架吊杆悬挂的杆柱，并且其中所述高架吊杆由第二杆柱支撑。

134.根据权利要求70至133中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂是由高架吊杆悬挂的杆柱，所述第二杆柱由壁挂式导轨或吊顶安装式导轨支撑，并且其中，所述第二杆柱能够沿所述壁挂式导轨或吊顶安装式导轨平移。

135.根据权利要求70至134中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂是由高架吊杆悬挂的杆柱，并且其中所述第二杆柱由壁挂式摆臂或吊顶安装式摆臂支撑。

136.根据权利要求70至135中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述支撑臂是由高架吊杆悬挂的杆柱，所述第二杆柱由摆臂支撑，所述摆臂则由壁挂式导轨或吊顶安装式导轨支撑，并且其中所述摆臂能够沿所述壁挂式导轨或吊顶安装式导轨平移。

137.根据权利要求70至136中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所述屏蔽件中的至少一个对可见光是透明的。

138.根据权利要求70至137中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统，其中，所有所述屏蔽件对可见光都是透明的。

139.一种射线照相方法，包括：

(a)将根据前述权利要求中任一项所述的辐射屏蔽组件或系统定位在患者和用户之间的上方，使得患者的附肢延伸穿过所述屏蔽组件中的附肢开口；

(b)将医疗器械插入所述附肢的脉管系统；以及

(c)使用辐射发生器照射患者，其中所述辐射发生器定位成使得辐射至少部分地穿过患者，同时被所述屏蔽组件阻挡而不能到达用户。

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