CN114002763A - 一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案 - Google Patents
一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114002763A CN114002763A CN202111304083.XA CN202111304083A CN114002763A CN 114002763 A CN114002763 A CN 114002763A CN 202111304083 A CN202111304083 A CN 202111304083A CN 114002763 A CN114002763 A CN 114002763A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- film
- layer
- germanium
- far infrared
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000005457 optimization Methods 0.000 claims abstract description 22
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000004038 photonic crystal Substances 0.000 claims abstract description 14
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 claims abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/28—Interference filters
- G02B5/281—Interference filters designed for the infrared light
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明提供一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案,TFCalc软件输入一个初始的5层带有掺杂层一维光子晶体结构,首先对其连续目标进行设定,在3~5μm和8~14μm设置为高反射,5~8μm和10.6μm设置为高透过;其次,在设置优化参数界面采用锗和硫化锌两种材料添加“Needle”层,并且选择连续添加膜层到最优设计膜系、同时添加许多层、在添加Needle前采用局部优化;最后,在Tunneling参数中选择生长薄膜进行结构优化,所述薄膜为以玻璃为基底,不同厚度的锗和硫化锌交替形成的13层膜结构,靠近空气和玻璃的两层为锗,所述薄膜可实现中远红外波段与10.6μm激光波段的兼容隐身。
Description
技术领域
本发明涉及一种隐身薄膜的设计方案,尤其涉及一种中远红外与激光兼容隐身薄膜的设计方案,属于隐身材料技术领域。
背景技术
在红外探测技术中,3~5μm波段是航空发动机尾焰和发动机排气管的辐射范围,是空中设备的红外制导探测系统主要的工作波段;8~14μm波段是热成像系统的工作波段,任何温度高于热力学零度的物体都会在8~14μm波段发生辐射;工作波长为10.6μm的CO2激光器作为主要激光探测武器可用于测距、制导、目标指示和干扰等。
现有3~5μm和8~14μm红外波段选择性高反射薄膜实际上为两种禁带在不同波长范围的光子晶体的叠加,利用一维光子晶体结构实现中远两个红外窗口波段的高反射区通常存在生产周期较长、生产成本高等问题。
根据基尔霍夫定律:T+R+ε=1,其中T为材料的透过率,R为材料的反射率,ε为材料的吸收率;对于红外波段基本不透光材料,即T≈0,则ε≈1-R,其中吸收率等于发射率,为实现红外波段低发射率可相应提高材料的反射率。
另根据Stefan-Boltzmann定律:W=σεT4,式中W是物体的总辐射能,单位是W/m2;σ是玻尔兹曼常数,其值为5.67032×10-8Wm-2k-4;ε是物体红外发射率;T是物体绝对温度。因此目标物体表面的辐射能力取决于表面发射率和温度两个因素。
在满足红外窗口波段3~5μm和8~14μm高反射率的同时,非红外窗口波段5~8μm满足低反射率,可以使温度从该波段向大气中辐射,这样更有效的降低目标物体的辐射能力。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可实现中远红外(3~5μm、8~14μm)与10.6μm激光波段兼容隐身的薄膜设计方案,改进现有技术中的多波段兼容性难题,主要涉及中远红外波段选择性高反射率和10.6μm激光工作波段高透过。
本发明的目的是这样实现的:
一种中远红外与激光兼容隐身薄膜的设计方案,TFCalc软件输入一个初始的5层带有掺杂层一维光子晶体结构,首先对其连续目标进行设定,在3~5μm和8~14μm设置为高反射,5~8μm和10.6μm设置为高透过;其次,在设置优化参数界面采用锗和硫化锌两种材料添加“Needle”层,并且选择连续添加膜层到最优设计膜系、同时添加许多层、在添加Needle前采用局部优化;最后,在Tunneling参数中选择生长薄膜进行结构优化设计,进行结构优化设计的薄膜为以玻璃为基底,不同厚度的锗和硫化锌交替形成的13层膜结构,靠近空气和玻璃的两层为锗,所述薄膜可实现中远红外波段与10.6μm激光波段的兼容隐身。
进一步的,所述的13层膜结构,靠近基底为第一层,各层厚度分别为第一层772nm,第二层850nm,第三层108nm,第四层478nm,第五层258nm,第六层344nm,第七层353nm,第八层235nm,第九层124nm,第十层1164nm,第十一层536nm,第十二层241nm,第十三层89nm,总厚度为5.552μm;
进一步的,进行结构优化设计的薄膜各层厚度由TFCalc、Optilayer、EssentialMacleod软件经针孔和隧道算法优化得到。
一种中远红外与激光兼容隐身薄膜,所述薄膜由上述任意一种的方法制备而成;
进一步的,所设计的薄膜在3~5μm和8~14μm红外波段实现高反射,5~8μm波段低反射,10.6μm处高透过特性;
进一步的,所设计的薄膜在5~8μm波段具有低反射特性,温度可从该波段向大气中辐射,有利于红外隐身。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
经优化后的13层膜结构,膜系厚度小,节约生产成本,膜系层数少,可降低生产周期,提高生产效率,并且在5~8μm波段平均反射率较低,有助于在非红外窗口波段的热辐射,从而降低温度;
本发明采用TFCalc软件优化设计出多层膜结构,实现了3~5μm和8~14μm中远红外波段高反射与5~8μm波段低反射,该方案在保证3~5μm和8~14μm波段红外隐身效果的同时,其热量还能从非红外窗口5~8μm波段向大气中辐射,这既能满足薄膜材料的选择性低发射率,又具有一定散热的功能,同时此方案还能达到10.6μm波长处的高透过率,实现与10.6μm激光波段的兼容隐身。
附图说明
图1是本发明提供的薄膜结构示意图;;
图2是本发明优化设计前的反射率图谱;
图3是本发明经优化设计后的反射率图谱。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
TFCalc软件输入一个初始的5层带有掺杂层一维光子晶体结构。首先对其连续目标进行设定,在3~5μm和8~14μm设置为高反射,5~8μm和10.6μm设置为高透过;
其次,在设置优化参数界面采用锗和硫化锌两种材料添加“Needle”层,并且选择连续添加膜层到最优设计膜系、同时添加许多层、在添加Needle前采用局部优化;
最后,在Tunneling参数中选择生长薄膜进行结构优化设计。
优化后结果如图1所示,为本发明设计出一种实现中远红外与激光兼容隐身的13层薄膜结构。该13层薄膜结构是以玻璃为基底,不同厚度的锗和硫化锌交替形成的膜结构。
图2所示,为本发明优化前计算所得反射率曲线图,具体的,为上述5层带有掺杂层一维光子晶体结构。
图3所示,为本发明优化后计算所得反射率曲线图,具体的,为上述13层不同厚度的锗和硫化锌交替形成的膜结构;
表1为优化前后各个波段的平均反射率;
波段 | 3~5μm | 5~8μm | 8~14μm | 10.6μm |
优化前平均反射率 | 55.5% | 37.19% | 81.64% | 8.17% |
优化后平均反射率 | 86.41% | 13.54% | 85.84% | 6.16% |
对比优化设计前后的平均反射率,在3~5μm波段反射率的提高明显,8~14μm波段的平均反射率同样升高,5~8μm波段的平均反射率更低,10.6μm处反射率略有下降。因此,该设计方案可全面实现3~5μm和8~14μm红外窗口高反射特性,5~8μm非红外窗口波段低反射特性,同时在CO2激光器工作波段10.6μm处实现高透射(低反射)。
本发明采用TFCalc软件优化设计出的多层膜结构,是对5层高低折射率交替的对称膜结构的优化,其中高折射率材料层为锗(Ge),低折射率材料为硫化锌(ZnS),基底材料为玻璃,靠近空气和玻璃的两层为锗。
上述的5层膜结构,是带有缺陷层的一维光子晶体结构,其第三层为掺杂层,掺杂层材料同样为半导体材料锗,其厚度为交替结构中锗层厚度的两倍。
上述带有掺杂层的一维光子晶体结构中的两种材料均存在色散,锗在3~14μm的折射率为nGe=4.2~4.1,色散变化较小,因此在计算过程中其折射率取平均值为4.15,硫化锌在3~14μm的折射率为nZnS=2.3~2.1,色散同样变化较小,因此在计算过程中其折射率取其平均值为2.2。
上述带有缺陷层的一维光子晶体结构,具有规律的周期膜层的光学厚度为λ0/4,其中掺杂层的光学厚度为λ0/4。
上述光学厚度为λ0/4=nd。
上述λ0为中心波长,在计算过程中中心波长取值为10.6μm,n为对应材料平均折射率,d为对应材料的厚度。
上述带有缺陷层的一维光子晶体结构,锗层厚度为646nm,硫化锌层的厚度为1262nm,掺杂层锗的厚度为1293nm。
上述带有缺陷层的一维光子晶体结构经TFCalc软件采用针型算法和隧道算法进一步优化后为13层膜结构,其中靠近基底为第一层。
以上所设计的薄膜,满足入射光角度垂直于薄膜表面的情况。
本发明公开了一种中远红外(3~5μm、8~14μm)波段与10.6μm激光波段兼容隐身薄膜的设计方案,通过TFCalc软件,采用针型和隧道算法结合的方式对含掺杂层的一维光子晶体结构进行优化设计;其中,初始含掺杂层的一维光子晶体由五层高低折射率材料交替叠加而成,高折射率材料选用锗,低折射率材料选用硫化锌,掺杂层材料选用锗;优化后为13层膜结构,总厚度0000为5.552μm,在3~5μm和8~14μm波段的平均反射率分别为86.41%和85.84%,红外窗口波段实现高反射特性,5~8μm波段的平均反射率为13.54%,非红外窗口波段实现低反射特性,10.6μm处反射率为6.16%,实现10.6μm激光波段高透过特性。
Claims (4)
1.一种中远红外与激光兼容隐身薄膜的设计方案,其特征在于,TFCalc软件输入一个初始的5层带有掺杂层一维光子晶体结构,首先对其连续目标进行设定,在3~5μm和8~14μm设置为高反射,5~8μm和10.6μm设置为高透过;其次,在设置优化参数界面采用锗和硫化锌两种材料添加“Needle”层,并且选择连续添加膜层到最优设计膜系、同时添加许多层、在添加Needle前采用局部优化;最后,在Tunneling参数中选择生长薄膜进行结构优化设计,进行结构优化设计的薄膜为以玻璃为基底,不同厚度的锗和硫化锌交替形成的13层膜结构,靠近空气和玻璃的两层为锗,所述薄膜可实现中远红外波段与10.6μm激光波段的兼容隐身。
2.根据权利要求1所述的中远红外与激光兼容隐身薄膜的设计方案,其特征在于,所述的13层膜结构,靠近基底为第一层,各层厚度分别为第一层772nm,第二层850nm,第三层108nm,第四层478nm,第五层258nm,第六层344nm,第七层353nm,第八层235nm,第九层124nm,第十层1164nm,第十一层536nm,第十二层241nm,第十三层89nm,总厚度为5.552μm。
3.根据权利要求1所述的中远红外与激光兼容隐身薄膜的设计方案,其特征在于,进行结构优化设计的薄膜各层厚度由TFCalc、Optilayer、Essential Macleod软件经针孔和隧道算法优化得到。
4.一种中远红外与激光兼容隐身薄膜,其特征在于,所述薄膜由权利要求1-3中任意一种的方法制备而成。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111304083.XA CN114002763A (zh) | 2021-11-05 | 2021-11-05 | 一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202111304083.XA CN114002763A (zh) | 2021-11-05 | 2021-11-05 | 一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN114002763A true CN114002763A (zh) | 2022-02-01 |
Family
ID=79927792
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202111304083.XA Pending CN114002763A (zh) | 2021-11-05 | 2021-11-05 | 一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN114002763A (zh) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114690278A (zh) * | 2022-04-20 | 2022-07-01 | 华中科技大学 | 一种用于高光谱-激光隐身的多层薄膜 |
CN114924342A (zh) * | 2022-03-10 | 2022-08-19 | 电子科技大学 | 一种选择性红外辐射隐身材料及其制备方法 |
CN117348124A (zh) * | 2023-10-18 | 2024-01-05 | 济南能谱航空科技有限公司 | 10.6μm激光高透过的红外低辐射材料 |
CN117369029A (zh) * | 2023-10-18 | 2024-01-09 | 济南能谱航空科技有限公司 | 1.06μm激光窗口用红外低辐射材料 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11337703A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外域用反射防止膜及び透過窓 |
CN110703370A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-01-17 | 浙江大学 | 一种多波段兼容散热功能性红外隐身材料 |
CN112162343A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-01-01 | 江西水晶光电有限公司 | 一种用于传感器的中远红外滤光片及制备方法 |
-
2021
- 2021-11-05 CN CN202111304083.XA patent/CN114002763A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11337703A (ja) * | 1998-05-22 | 1999-12-10 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外域用反射防止膜及び透過窓 |
CN110703370A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-01-17 | 浙江大学 | 一种多波段兼容散热功能性红外隐身材料 |
CN112162343A (zh) * | 2020-11-02 | 2021-01-01 | 江西水晶光电有限公司 | 一种用于传感器的中远红外滤光片及制备方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114924342A (zh) * | 2022-03-10 | 2022-08-19 | 电子科技大学 | 一种选择性红外辐射隐身材料及其制备方法 |
CN114690278A (zh) * | 2022-04-20 | 2022-07-01 | 华中科技大学 | 一种用于高光谱-激光隐身的多层薄膜 |
CN114690278B (zh) * | 2022-04-20 | 2023-12-01 | 华中科技大学 | 一种用于高光谱-激光隐身的多层薄膜 |
CN117348124A (zh) * | 2023-10-18 | 2024-01-05 | 济南能谱航空科技有限公司 | 10.6μm激光高透过的红外低辐射材料 |
CN117369029A (zh) * | 2023-10-18 | 2024-01-09 | 济南能谱航空科技有限公司 | 1.06μm激光窗口用红外低辐射材料 |
CN117348124B (zh) * | 2023-10-18 | 2024-09-27 | 苏州光晶航空科技有限公司 | 10.6μm激光高透过的红外低辐射材料 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN114002763A (zh) | 一种中远红外与激光兼容隐身薄膜及其设计方案 | |
Hervé et al. | Radiative cooling by tailoring surfaces with microstructures: Association of a grating and a multi-layer structure | |
US8329247B2 (en) | Methods for producing omni-directional multi-layer photonic structures | |
KR102225793B1 (ko) | 나노입자를 이용한 색상형 복사 냉각 소자 | |
Chen et al. | Smart window coating based on nanostructured VO2 thin film | |
CN104995150A (zh) | 具有热辐射反射涂层的窗玻璃 | |
KR20210035771A (ko) | 방사 냉각 장치 | |
CN110703369B (zh) | 基于选择性吸收与辐射纳米结构的光波段多功能隐身材料 | |
US20100182678A1 (en) | Absorbing layers for the control of transmission, reflection, and absorption | |
KR102225800B1 (ko) | 복사 냉각 소자 및 이의 제조방법 | |
CN103293582A (zh) | 双激光波段及中远红外兼容隐身膜系结构 | |
CN111630419A (zh) | 辐射冷却装置 | |
Li et al. | Ultra-broadband thermal radiator for daytime passive radiative cooling based on single dielectric SiO2 on metal Ag | |
CN107367776B (zh) | 一种热辐射可控的红外光学窗口薄膜设计方法 | |
Li et al. | Multispectral camouflage nanostructure design based on a particle swarm optimization algorithm for color camouflage, infrared camouflage, laser stealth, and heat dissipation | |
CN113791468B (zh) | 彩色辐射制冷材料及其制备方法 | |
Gu et al. | Laser-compatible infrared stealth metamaterial based on high-temperature resistant metal | |
Zhi-chang et al. | A multilayer film based on thin-film interference and impedance matching for dual-laser and infrared stealth as well as thermal management | |
KR102392577B1 (ko) | 복사 냉각 구조체 | |
CN114030586B (zh) | 一种高速飞行器红外隐身复合材料结构 | |
CN111596387A (zh) | 基于气液控制的多波段兼容型智能光学伪装材料 | |
US10215447B2 (en) | Spectrally selective semiconductor dielectric photonic solar thermal absorber | |
Alim et al. | Planar structure with high spectrally-selective emittance for passive radiative cooling | |
KR102615200B1 (ko) | 가시광선-적외선 위장을 위한 맥신 기판 상의 다층 박막으로 구성된 스텔스 소자 | |
Hervé et al. | Radiative cooling by tailoring surfaces with microstructures |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20220201 |