CN113966164A - 不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板 - Google Patents

不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种显示器件的技术领域，特别涉及不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板。所述修复方法包括以下步骤：取出现亮点缺陷的不良品，所述不良品包括基板和设于所述基板上的第一减反射膜层；去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，在所述第一减反射膜层上形成第一孔；于所述不良品的设有所述第一减反射膜层一侧的表面上形成保护膜层；刻蚀所述保护膜层，在所述保护膜层上形成第二孔，使所述第一孔完全露出；于所述不良品的设有所述保护膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层；去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层。采用上述修复方法，不良品无需整个盖板报废，也不需在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。

Description

不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板
技术领域
本发明涉及显示器件的技术领域，特别涉及不良品的亮点缺陷的修复方法和盖板。
背景技术
减反射膜：又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
减反射膜镀在玻璃盖板上，可以大大降低玻璃盖板的反射，使消费者更清晰的看到显示器显示的内容，同时背光的亮度也有一定程度的降低，增加了电池使用寿命。
然而，减反射膜在镀膜时，空气或者镀膜腔体中有灰尘等杂物的存在，如果灰尘等杂物被减反射膜覆盖到减反射膜和玻璃中间，会导致灰尘等杂物对应位置的膜层脱落，形成肉眼可见的亮点缺陷，影响产品的外观。行业内，减反射膜的良品率普遍在80％左右，其中，不良品出现亮点缺陷的比例占比很高，占到不良缺陷的50％以上，且出现亮点缺陷的不良品没有办法进行返修，出现亮点缺陷后，不良品的整个盖板需要报废，产生了大量的浪费，导致镀制减反膜的成本成倍的增加，大大限制了减反膜在显示器件上的运用。而如果使用白级净房等手段减少镀膜时灰尘等杂物的影响，从而减少亮点缺陷的产生，则又增大了硬件投资成本。
发明内容
基于此，本发明提供一种不良品亮点缺陷的修复方法，不良品无需整个盖板报废，也不需在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。
为了解决上述问题，本发明所采用的技术方案如下：
一种不良品的亮点缺陷的修复方法，包括以下步骤：
取出现亮点缺陷的不良品，所述不良品包括基板和设于所述基板上的第一减反射膜层；
去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，在所述第一减反射膜层上形成第一孔；
于所述不良品的设有所述第一减反射膜层一侧的表面上形成保护膜层；
刻蚀所述保护膜层，在所述保护膜层上形成第二孔，使所述第一孔完全露出；
于所述不良品的设有所述保护膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层；
去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层。
在其中一个实施例中，所述第一减反射膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％；
所述第二减反射膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％；
所述第二减反射膜层叠加在所述第一减反射膜层上形成的叠合膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％。
在其中一个实施例中，所述第一减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。
在其中一个实施例中，所述第二减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。
在其中一个实施例中，所述第二孔的横向截面面积不小于比所述第一孔的横向截面面积。
在其中一个实施例中，所述第二孔的横向截面面积比所述第一孔的横向截面面积大1％～100％。
在其中一个实施例中，所述保护膜层为紫外光学膜层。
在其中一个实施例中，所述去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层的方法包括：
加热，使所述保护膜层从所述第一减反膜层上脱落。
在其中一个实施例中，所述去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物的方法包括：无尘布擦除或超声波震动去除所述杂物。
在其中一个实施例中，所述刻蚀的方法为激光雕刻。
本发明还提供一种盖板，由上述不良品的亮点缺陷的修复方法修复而成。
与传统方案相比，本发明具有以下有益效果：
本发明采用在不良品上继续形成小部分减反射膜的方法对出现亮点缺陷的不良品进行修复。首先，去除了不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，去除后，在第一减反射膜层上形成第一孔，然后形成能够完全露出第一孔的保护膜层，在此基础上形成第二减反射膜层，第二反射膜层能够填充由杂物引起的第一反射膜层的第一孔，将亮点缺陷修复。然后，去除保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的第二减反射膜层，避免第二减反射膜层大面积形成带来新的亮点缺陷。采用本发明的修复方法，不良品无需整个盖板报废，也避免了在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。
附图说明
图1为一个实施例的不良品的结构示意图；
图2为一个实施例的去除灰尘后的不良品的结构示意图；
图3为一个实施例的形成UV膜层后的不良品的结构示意图；
图4为一个实施例的刻蚀UV膜层后的不良品的结构示意图；
图5为一个实施例的形成第二减反射膜层后的不良品的结构示意图；
图6为一个实施例的盖板结构示意图。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明作进一步详细的说明。本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明公开内容理解更加透彻全面。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。
术语
除非另外说明或存在矛盾之处，本文中使用的术语或短语具有以下含义：
本文所使用的术语“和/或”、“或/和”、“及/或”的可选范围包括两个或两个以上相关所列项目中任一个项目，也包括相关所列项目的任意的和所有的组合，所述任意的和所有的组合包括任意的两个相关所列项目、任意的更多个相关所列项目、或者全部相关所列项目的组合。
本发明中，“一种或几种”指所列项目的任一种、任两种或任两种以上。其中，“几种”指任两种或任两种以上。
本发明中，“优选”仅为描述效果更好的实施方式或实施例，应当理解，并不构成对本发明保护范围的限制。
本发明中，以开放式描述的技术特征中，包括所列举特征组成的封闭式技术方案，也包括包含所列举特征的开放式技术方案。
本发明中，涉及到数值区间，如无特别说明，则包括数值区间的两个端点。
本发明中，“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
本发明中，“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定
本发明中，“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
本发明中，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
本发明中，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
还应当理解的是，在解释元件的连接关系或位置关系时，尽管没有明确描述，但连接关系和位置关系解释为包括误差范围，该误差范围应当由本领域技术人员所确定的特定值可接受的偏差范围内。例如，“大约”、“近似”或“基本上”可以意味着一个或多个标准偏差内，在此不作限定。
减反射膜：又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。
本发明中，涉及到“单面反射率”，如无特殊特别限定，指正面反射率，即指玻璃镀AR膜的那一面的反射率。
减反射膜在镀膜时，空气或者镀膜腔体中有灰尘等杂物的存在，如果灰尘等杂物被减反射膜覆盖到减反射膜和玻璃中间，会导致灰尘等杂物对应位置的膜层脱落，形成肉眼可见的亮点缺陷，影响产品的外观。行业内，减反射膜的良品率普遍在80％左右，其中，不良品出现亮点缺陷的比例占比很高，占到不良缺陷的50％以上，且出现亮点缺陷的不良品没有办法进行返修，出现亮点缺陷后，不良品的整个盖板需要报废，产生了大量的浪费，导致镀制减反膜的成本成倍的增加，大大限制了减反膜在显示器件上的运用。而如果使用白级净房等手段减少镀膜时灰尘等杂物的影响，从而减少亮点缺陷的产生，则又增大了硬件投资成本。
基于此，本发明采用在不良品上继续形成小部分减反射膜的方法对出现亮点缺陷的不良品进行修复，提供一种减反射膜亮点缺陷的修复方法。
在一个减反射膜亮点缺陷的修复方法的实施例中，步骤如下：
S1、获取出现亮点缺陷的不良品，参见图1，不良品包括玻璃基板10和设于玻璃基板10上的第一减反射膜层11，其中，第一减反射膜层11内掺杂了灰尘12，灰尘12对应位置的第一减反射膜层脱落，形成了亮点缺陷。
本实施例中，第一减反射膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％。
可以理解地，可根据光学设计软件，例如TFC，MacLeod等，通过软件自动求解，获得满足上述条件的第一减反射膜层所需的材料和厚度。
可选地，第一减反射膜层11的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。具体地，包括但不限于：氧化钛和氧化硅的组合，也可以是氮化硅氧化硅的组合，也可以是氧化铌和氧化硅的组合。在一些实施例中，第一减反射膜层11的材料可以为氮化硅和氧化硅的交替叠加。
在一些实施例中，第一减反射膜层11的厚度可以为300nm-600nm例如：约433nm等。
还可以理解地，第一减反射膜层11可通过磁控溅射法或电子枪蒸发的方法形成。采用磁控溅射法时，将玻璃基板10放在镀膜机中，抽真空后，通入气体进行磁控溅射，可以控制氧化硅和氮化硅每次形成的厚度，已达到需要的光学效果。
本实施例中，第一减反射膜层的由以下厚度的材料层叠制成：9.27nm的氮化硅、70.52nm的氧化硅、8nm的氮化硅、133.55nm的氧化硅、24.41nm的氮化硅、26.54nm的氧化硅、72.22nm的氮化硅和88.97nm的氧化硅。
S2、参见图2，去除灰尘12，在第一反射膜层11上形成第一孔13。
第一反射膜层11的灰尘12的去除手段有很多，可选地，去除灰尘12的方法可以是擦除或者是超声波震动去除。
可选地，擦除的方法可以是人工擦除或是机械擦除。这些方法均可以时灰尘去除。
由于灰尘12原本占用第一反射膜层11的一部分空间，去除灰尘12后，在第一反射膜层11上对应形成了第一孔13。为便于表述，规定第一孔13的孔深的方向为纵向，与所述纵向垂直的方向为横向。
S3、参见图3，于不良品的设有第一减反射膜层一侧的表面上形成紫外光学膜14(UV膜层)作为保护膜层；
可以理解地，不良品的设有第一减反射膜层一侧的表面是指第一反射膜层11以及随着灰尘去除暴露的第一孔13的底部。对不良品整体进行保护。
本实施例中，UV膜层形成的具体方法为：
将AVENTK6011 UV胶水涂覆在不良品的设有第一减反射膜层一侧的表面上，在紫外线照射30秒的条件下固化。
形成的UV膜层将不良品的表面完全覆盖。通过形成UV膜层作为保护膜层，并在后续步骤中去除UV膜层的操作，可以避免第二减反射膜层大面积形成带来新的亮点缺陷，避免新的不良品产生。
S4、参见图4，刻蚀UV膜层14，在UV膜层14上形成第二孔15，使第一孔13完全露出。
规定第一孔孔深的方向为纵向，与所述纵向垂直的方向为横向，可选地，第二孔可以与第一孔的横向截面面积相同，这样就可以在后续使第二减反射膜填充到第一孔中。但这种方式的加工难度比较大。
可选地，所述第二孔的横向截面面积不小于比所述第一孔的横向截面面积。本实施例中，所述第二孔的横向截面面积比所述第一孔的横向截面面积大，在一些实施例中，所述第二孔的横向截面面积比所述第一孔的横向截面面积可以大1％～100％。在这个范围内，可以保证第二减反射膜填充到第一孔中，加工难度相对较小，更有利于实现。
可以理解地，所述第二孔的横向截面面积比所述第一孔的横向截面面积大，是指第二孔的横向最小截面面积比第一孔的横向最大截面面积要大。
本实施例中，刻蚀的方法为激光雕刻。
S5、如图5所示，于所述不良品的设有UV膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层16。
本实施例中，不良品的设有UV膜层一侧的表面是指UV膜层14、随着灰尘12去除暴露的第一孔13的底部以及随着刻蚀UV膜层14暴露出来的第一孔13外周侧的第一减反射膜层11。
本实施例中，第二减反射膜层16满足：单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％；且，所述第二减反射膜层叠加在所述第一减反射膜层上形成的叠合膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％。
满足上述条件的第二减反射膜层，不仅自身具有减反效果，而且，当在第一孔13外周侧的第一减反射膜层11上叠加第二减反射膜层后，叠合后的膜层仍然具有减反效果。
由于不良品中第一减反射膜层11的材料和厚度是已知的，可以根据光学设计软件，例如TFC，MacLeod等，通过软件自动求解，获得满足上述条件的第二减反射膜层16所需的材料和和厚度，以达到第二减反射膜层16本身具有减反射效果，同时，第二减反射膜层16和第一减反射膜层11叠加后，仍然具有减反射效果，杜绝新的光学不良现象产生。
可选地，第二减反射膜层16的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。具体地，包括但不限于：氧化钛和氧化硅的组合，也可以是氮化硅氧化硅的组合，也可以是氧化铌和氧化硅的组合。在一些实施例中，第一减反射膜层11的材料可以为氮化硅和氧化硅的交替叠加。
在一些实施例中，第二减反射膜层16的厚度可以为400nm～600nm，例如472nm等。
还可以理解地，第二减反射膜层16可通过磁控溅射法或电子枪蒸发的方法形成。采用磁控溅射法时，将上一步骤的产品放在镀膜机中，抽真空后，通入气体进行磁控溅射，可以控制氧化硅和氮化硅每次形成的厚度，已达到需要的光学效果。
本实施例中，第二减反射膜由以下厚度的材料层叠制成：125.99nm的氧化硅、7.5nm的氮化硅、126.16nm的氧化硅、22.79nm的氮化硅、29.12nm的氧化硅、71.86nm的氮化硅和88.81nm的氧化硅。
在一些实施例中，所述第二孔的横向截面面积比所述第一孔的横向截面面积大，形成第二减反射膜时，第二减反射膜层填充到第一孔中，并在超出第一孔的外周侧会形成额外的第二减反射膜层，后续也不需要去除，不会影响外观显示和后续加工。
为验证第二减反射膜层以及第二减反射膜层与第一减反射膜层叠加后的膜层的反射效果，考虑到反射率测试的光学元件的检测精度问题，在加工玻璃的陪镀片上进行以下试验：
1)取加工玻璃的陪镀片，陪镀片上具有与本实施例不良品上相同的第一减反射膜层，具体地：由以下厚度的材料层叠制成：9.27nm的氮化硅(该层为底层，与玻璃基板接触)、70.52nm的氧化硅、8nm的氮化硅、133.55nm的氧化硅、24.41nm的氮化硅、26.54nm的氧化硅、72.22nm的氮化硅和88.97nm的氧化硅。
通过磁控溅射法的方法，在陪镀片的第一减反射膜层上形成第二减反射膜层，第二减反射膜层由以下厚度的材料层叠制成：125.99nm的氧化硅(该层为底层，与第一减反射膜层接触)、7.5nm的氮化硅、126.16nm的氧化硅、22.79nm的氮化硅、29.12nm的氧化硅、71.86nm的氮化硅和88.81nm的氧化硅。
使用广州标旗光电科技发展股份有限公司生产的光学元件对上述所得产品进行反射率测试，其单面反射率在420nm-680nm波长区域平均值小于1.5％。
2)取与本实施例相同的玻璃基板，在玻璃基板上形成第二减反射膜层，第二减反射膜层由以下厚度的材料层叠制成：125.99nm的氧化硅、7.5nm的氮化硅、126.16nm的氧化硅、22.79nm的氮化硅、29.12nm的氧化硅、71.86nm的氮化硅和88.81nm的氧化硅。
使用广州标旗光电科技发展股份有限公司生产的光学元件对上述所得产品进行反射率测试，其单面反射率在420nm-680nm波长区域平均值小于1.5％。
S6、去除所述UV膜层14和位于所述UV膜层14表面区域的第二减反射膜层16。
本实施例中，加热，使所述UV膜层14解胶，然后从所述第一减反膜层11上脱落，由于第二减反射膜层16的一部分位于UV膜层14表面区域，所以这部分第二减反射膜层随着UV膜层14的脱落而脱落，形成如图6所示的盖板产品。
本实施例中，加热至温度可以为150-250℃，进一步可以是200℃。
通过形成UV膜层作为保护膜层，再去除UV膜层的操作，可以避免第二减反射膜层大面积形成带来新的亮点缺陷，避免新的不良品产生。
上述方法首先去除了不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，去除后，在第一减反射膜层上形成第一孔，然后形成能够完全露出第一孔的保护膜层，在此基础上形成第二减反射膜层，第二反射膜层能够填充由杂物引起的第一反射膜层的第一孔，将亮点缺陷修复。然后，去除保护膜层和所述保护膜层上的第二减反射膜层，避免第二减反射膜层大面积形成带来新的亮点缺陷。采用本发明的修复方法，不良品无需整个盖板报废，也避免了在减反射膜镀膜时增加硬件投资，节约成本。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，包括以下步骤：
取出现亮点缺陷的不良品，所述不良品包括基板和设于所述基板上的第一减反射膜层；
去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物，在所述第一减反射膜层上形成第一孔；
于所述不良品的设有所述第一减反射膜层一侧的表面上形成保护膜层；
刻蚀所述保护膜层，在所述保护膜层上形成第二孔，使所述第一孔完全露出；
于所述不良品的设有所述保护膜层一侧的表面上形成第二减反射膜层；
去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层。
2.根据权利要求1所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述第一减反射膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％；
所述第二减反射膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％；
所述第二减反射膜层叠加在所述第一减反射膜层上形成的叠合膜层的单面反射率在420nm-680nm的平均反射率≤1.5％。
3.根据权利要求2所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述第一减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。
4.根据权利要求2任一项所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述第二减反射膜层的材料选自氧化钛、氮化硅、氧化硅和氧化铌一种或几种。
5.根据权利要求1-4任一项所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述第二孔的横向截面面积不小于比所述第一孔的横向截面面积。
6.根据权利要求1-4任一项所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述保护膜层为紫外光学膜层。
7.根据权利要求6所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述去除所述保护膜层和位于所述保护膜层表面区域的所述第二减反射膜层的方法包括：
加热，使所述保护膜层从所述第一减反膜层上脱落。
8.根据权利要求1-4任一项所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述去除所述不良品上引起所述亮点缺陷的杂物的方法包括：无尘布擦除或超声波震动去除所述杂物。
9.根据权利要求1-4任一项所述的不良品的亮点缺陷的修复方法，其特征在于，所述刻蚀的方法为激光雕刻。
10.一种盖板，其特征在于，由权利要求1-9任一项所述的不良品的亮点缺陷的修复方法修复而成。
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