CN113960519A - 一种磁场传感器的校准方法、装置、介质及系统 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种磁场传感器的校准方法，包括：获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线，在实际工作中，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线，以更新后的目标拟合曲线校准磁场传感器测得的数据，在磁场环境发生改变时，只需更新目标拟合曲线，而无需对磁场传感器进行校准。本申请公开的磁场传感器的校准装置、介质及系统与方法对应，效果如上。
Description
技术领域
本申请涉及传感器校准技术领域，特别是涉及一种磁场传感器的校准方法、装置、介质及系统。
背景技术
磁场传感器是可以将各种磁场及其变化的量转变成电信号输出的装置。磁场传感器利用人工设置的永久磁体产生的磁场，可作为许多种信息的载体。因此，探测、采集、存储、转换、复现和监控各种磁场和磁场中承载的各种信息的任务，自然就落在磁场传感器身上。在当今的信息社会中，磁场传感器已成为信息技术和信息产业中不可缺少的基础元件。
磁场传感器在使用前需要进行校准。目前，是通过转动磁场传感器，采集足够数量的点，然后对数据进行处理，消除软磁和硬磁带来的偏差。或者通过亥姆霍兹线圈产生预设磁场，来对传感器进行标定。但是，存在的问题是，在磁场环境改变时，磁场传感器需要重新校准。
因此，如何克服磁场传感器在磁场环境发生改变时需要重新校准的问题是本领域技术人员亟需要解决的。
发明内容
本申请的目的是提供一种磁场传感器的校准方法、装置、介质及系统。
为解决上述技术问题，本申请提供一种磁场传感器的校准方法，包括：
获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；
根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线；
获取所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器的实际采样点数据，根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线；
以更新后的所述目标拟合曲线校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据。
优选地，所述获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线，包括：
确定所述第一磁场传感器的第一采样点和所述第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据；
根据所述第一采样点数据和所述第二采样点数据选择拟合函数类型；
结合所述拟合函数类型获得所述第一采样点数据对应的所述第一拟合曲线和所述第二采样点数据对应的所述第二拟合曲线。
优选地，所述根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线，包括：
确定所述第一拟合曲线对应的第一拟合函数和所述第二拟合曲线对应的第二拟合函数；
任意调整所述第一拟合函数和所述第二拟合函数中的一个拟合函数的系数，使所述第一拟合曲线与所述第二拟合曲线重合以确定所述目标拟合曲线。
优选地，所述根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线，包括：
判断第一实际采样点是否偏移所述目标拟合曲线；
若否，所述第一实际采样点的数据为正常数据；
若是，判断第二实际采样点是否偏移所述目标拟合曲线；
若所述第二实际采样点未偏移所述目标拟合曲线，丢弃所述第二采样点的数据；
若所述第二实际采样点偏移所述目标拟合曲线，根据所述第一实际采样点和所述第二实际采样点的数据更新所述目标拟合曲线。
优选地，所述获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线之前，还包括：
对所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器进行首次校准，并保存首次校准数据。
本申请还提供一种磁场传感器的校准装置，包括：
获取模块，用于获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；
确定模块，用于根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线；
更新模块，用于获取所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器的实际采样点数据，根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线；
校准模块，用于以更新后的所述目标拟合曲线校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据。
本申请还提供一种磁场传感器的校准装置，包括存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行所述计算机程序时实现所述的磁场传感器的校准方法的步骤。
本申请还提供一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现所述的磁场传感器的校准方法的步骤。
本申请还提供一种磁场传感器的校准系统，包括：微控制器，第一磁场传感器和第二磁场传感器；
所述微控制器分别与所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器连接，用于获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器的实际采样点数据，根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线；以更新后的所述目标拟合曲线校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据。
优选地，所述微控制器分别与所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器通过SPI接口或I2C接口连接。
本申请所提供的一种磁场传感器的校准方法，包括：获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。本申请根据第一传感器的第一拟合曲线和第二传感器的第二拟合曲线确定目标拟合曲线，在实际工作中，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线，以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据，在磁场环境发生改变时，只需更新目标拟合曲线，而无需对磁场传感器进行校准。
本申请所提供的一种磁场传感器的校准装置、介质及系统与上述方法对应，具体效果如上。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例，下面将对实施例中所需要使用的附图做简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的一种磁场传感器的校准系统的结构图；
图2为本申请实施例提供的一种磁场传感器的校准方法的流程图；
图3为本申请实施例提供的另一种磁场传感器的校准方法的流程图；
图4为本申请实施例提供的一种磁场传感器的校准装置的结构图；
图5为本申请实施例提供的另一种磁场传感器的校准装置的结构图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护范围。
本申请的核心是提供一种磁场传感器的校准方法、装置、介质及系统。
为了使本技术领域的人员更好地理解本申请方案，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步的详细说明。
图1为本申请实施例提供的一种磁场传感器的校准系统的结构图，如图1所示，磁场传感器的校准系统包括微控制器10，第一磁场传感器11和第二磁场传感器12，微控制器10分别与第一磁场传感器11和第二磁场传感器12连接，具体的连接方式可以通过串行外设接口(Serial Peripheral Interface，SPI)或者I2C总线(Inter－Integrated Circuit，I2C)连接，本申请实施例对连接方式不作具体限定。微控制器10用于处理第一磁场传感器11和第二磁场传感器2的数据和执行校准方法，该校准方法主要包括获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。
本申请所提供的一种磁场传感器的校准系统，包括微控制器，第一磁场传感器和第二磁场传感器，微控制器获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。本申请根据第一传感器的第一拟合曲线和第二传感器的第二拟合曲线确定目标拟合曲线，在实际工作中，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线，以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据，在磁场环境发生改变时，只需更新目标拟合曲线，而无需对磁场传感器进行校准。
为了更加清楚的了解上述校准方法，图2为本申请实施例提供的一种磁场传感器的校准方法的流程图，如图2所示，磁场传感器的校准方法包括：
S10：获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；
S11：根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；
S12：获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；
S13：以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。
在步骤S10中，关于如何获得第一拟合曲线和第二拟合曲线本申请实施例不作具体限定，可以是直接获取第一磁场传感器和第二磁场传感器存有的拟合曲线，当然也可以在初始化后，确定第一磁场传感器的第一采样点和第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据；根据第一采样点数据和第二采样点数据选择拟合函数类型；结合拟合函数类型获得第一采样点数据对应的第一拟合曲线和第二采样点数据对应的第二拟合曲线。
在步骤S11中，根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线，可以是调整第一拟合曲线对应的函数的系数，也可以是调整第二拟合曲线对应的函数的系数，使第一拟合曲线和第二拟合曲线重合，从而确定目标拟合曲线，本申请实施例对如何确定目标拟合曲线不作具体限定。
在步骤S12中，实际采样点数据可以是一个也可以是多个，本申请实施例对实际采样点数据的个数不作具体限定。
在步骤S13中，校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据，该数据主要包括测得产品的方向和角度。
本申请实施例提供一种磁场传感器的校准方法，包括：获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。本申请根据第一传感器的第一拟合曲线和第二传感器的第二拟合曲线确定目标拟合曲线，在实际工作中，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线，以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据，在磁场环境发生改变时，只需更新目标拟合曲线，而无需对磁场传感器进行校准。
基于上述实施例，本申请实施例获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线包括：确定第一磁场传感器的第一采样点和第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据；根据第一采样点数据和第二采样点数据选择拟合函数类型；结合拟合函数类型获得第一采样点数据对应的第一拟合曲线和第二采样点数据对应的所述第二拟合曲线。
本申请实施例中确定第一采样点和第二采样点，所述第一采样点和第二采样点的个数可以为多个，本申请实施例对第一采样点和第二采样点的个数不作具体限定。
本申请实施例中的的拟合函数类型包括一次函数，高斯函数和傅里叶函数等，在此不一一列举。一次函数的解析式为f(x)＝ax+b，其中a，b为系数；高斯函数的解析式为f(x)＝a*exp-((x-b)/c)^2)，其中a，b，c为系数；傅里叶函数的解析式为f(x)＝a0+a1*cos(x*w)+b1*sin(x*w)，其中a0，a1，b1，w为系数。根据第一采样点数据和所述第二采样点数据选择一种拟合函数类型，通过拟合函数类型获得第一采样点数据对应的第一拟合曲线和第二采样点数据对应的第二拟合曲线。
相应的，根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线包括确定第一拟合曲线对应的第一拟合函数和第二拟合曲线对应的第二拟合函数；任意调整第一拟合函数和第二拟合函数中的一个拟合函数的系数，使第一拟合曲线与第二拟合曲线重合以确定目标拟合曲线。
本申请实施例通过确定拟合函数的类型，结合拟合函数类型获得第一采样点数据对应的第一拟合曲线和第一拟合函数、第二采样点数据对应的第二拟合曲线和第二拟合函数，调整第一拟合函数或第二拟合函数的系数，使第一拟合曲线与第二拟合曲线重合以确定目标拟合曲线。通过确定目标拟合曲线可以消除地球磁场的影响，提高磁场传感器测得数据的准确性。
基于上述实施例，本申请实施例中，根据实际采样点数据校准目标拟合曲线包括判断第一实际采样点是否偏移目标拟合曲线；若否，第一实际采样点的数据为正常数据；若是，判断第二实际采样点是否偏移目标拟合曲线；若第二实际采样点未偏移所述目标拟合曲线，丢弃第二采样点的数据；若第二实际采样点偏移目标拟合曲线，根据第一实际采样点和第二实际采样点的数据更新目标拟合曲线。
在确定目标拟合曲线后，进入正常工作模式，第一实际采样点可以为第一磁场传感器的采样点，也可以为第二磁场传感器的采样点，若第一实际采样点为第一磁场传感器的采样点，那第二实际采样点为第二磁场传感器的采样点。对于第一实际采样点和第二实际采样点的个数不作具体限定，可以是一个也可以是多个。在第一实际采样点偏移目标拟合曲线时，判断第二实际采样点是否偏移目标拟合曲线，若未偏移，可丢弃第二采样点的数据，若第二采样点偏移目标拟合曲线，根据第一实际采样点和第二实际采样点的数据更新目标拟合曲线。
本申请实施例通过对比两个磁场传感器的实际采样点是否偏离目标拟合曲线，若第一实际采样点和第二实际采样点均偏离目标曲线，说明周围磁场环境发生改变，此时可以根据第一实际采样点和第二实际采样点的数据更新目标拟合曲线。通过判断实际采样点是否偏离目标拟合曲线可以判断出磁场传感器的磁场环境是否发生改变，若发生改变，也无需对磁场传感器进行校准，只需校准目标拟合曲线便可克服磁场传感器测得的数据受磁场环境改变影响而不准确的问题，从而在使用磁场传感器时更为便利，不用因为磁场环境改变去反复校准磁场传感器。
基于上述实施例，获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线之前还包括对第一磁场传感器和第二磁场传感器进行首次校准，并保存首次校准数据。
本申请实施例中的首次校准是指在首次使用磁场传感器时，微控制器初始化，对第一磁场传感器和第二磁场传感器进行首次校准，首次校准可以是转动磁场传感器，采集足够数量的点，然后对数据进行处理；也可以是通过亥姆霍兹线圈产生预设磁场，来对磁场传感器进行校准。
本申请实施例中，对第一磁场传感器和第二磁场传感器进行首次校准，可以消除后续步骤中第一采样点数据和第二采样点数据不准确的问题，进一步提高磁场传感器测得数据的准确性。
基于上述实施例，为更加清楚的了解本申请实施例，图3为本申请实施例提供的另一种磁场传感器的校准方法的流程图，如图所示，该校准方法包括：
S20：对第一磁场传感器和第二磁场传感器进行首次校准，并保存首次校准数据。
S21：确定第一磁场传感器的第一采样点和第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据。
S22：根据第一采样点数据和第二采样点数据选择拟合函数类型；结合拟合函数类型获得第一采样点数据对应的第一拟合曲和第二采样点数据对应的第二拟合曲线。
S23：确定第一拟合曲线对应的第一拟合函数和第二拟合曲线对应的第二拟合函数；任意调整第一拟合函数和第二拟合函数中的一个拟合函数的系数，使第一拟合曲线与第二拟合曲线重合以确定目标拟合曲线。
S24：判断第一实际采样点是否偏移目标拟合曲线；若否，执行步骤S25；若是，执行步骤S26。
S25：第一实际采样点的数据为正常数据；
S26：判断第二实际采样点是否偏移目标拟合曲线；若否，执行步骤S27；若是，执行步骤S28。
S27；丢弃所述第二采样点的数据；
S28：根据第一实际采样点和第二实际采样点的数据更新目标拟合曲线。
本申请实施例与上述实施例相互对应，这里暂不赘述。
本申请实施例通过对比两个磁场传感器的实际采样点是否偏离目标拟合曲线，若第一实际采样点和第二实际采样点均偏离目标曲线，说明周围磁场环境发生改变，此时可以根据第一实际采样点和第二实际采样点的数据更新目标拟合曲线。通过判断实际采样点是否偏离目标拟合曲线可以判断出磁场传感器的磁场环境是否发生改变，若发生改变，也无需对磁场传感器进行校准，只需校准目标拟合曲线便可克服磁场传感器测得的数据受磁场环境改变影响而不准确的问题，从而在使用磁场传感器时更为便利，不用因为磁场环境改变去反复校准磁场传感器。
在上述实施例中，对于磁场传感器的校准方法进行了详细描述，本申请还提供磁场传感器的校准装置对应的实施例。需要说明的是，本申请从两个角度对装置部分的实施例进行描述，一种是基于功能模块的角度，另一种是基于硬件的角度。
在此基础上，本申请还公开与上述方法对应的磁场传感器的校准装置。图4为本申请实施例提供的一种磁场传感器的校准装置的结构图，如图4所示，磁场传感器的校准装置包括：
获取模块20，用于获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；
确定模块21，用于根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；
更新模块22，用于获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据更新目标拟合曲线；
校准模块23，用于以更新后的目标拟合曲线校准第一磁场传感器和第二磁场传感器测得的数据。
基于上述实施例，作为优选的实施例，获取模块包括：
确定单元，用于确定第一磁场传感器的第一采样点和第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据；
选择单元，用于根据第一采样点数据和第二采样点数据选择拟合函数类型；
获取单元，用于结合拟合函数类型获得第一采样点数据对应的第一拟合曲线和第二采样点数据对应的第二拟合曲线。
基于上述实施例，作为优选的实施例，确定模块包括：
第一确定单元，用于确定第一拟合曲线对应的第一拟合函数和第二拟合曲线对应的第二拟合函数；
调整单元，用于任意调整第一拟合函数和第二拟合函数中的一个拟合函数的系数，使第一拟合曲线与第二拟合曲线重合以确定目标拟合曲线。
基于上述实施例，作为优选的实施例，更新模块包括：
第一判断模块，用于判断第一实际采样点是否偏移目标拟合曲线；
第二确定单元，用于若第一实际采样点未偏移目标拟合曲线，第一实际采样点的数据为正常数据；
第二判断单元，用于若第一实际采样点偏移目标拟合曲线，判断第二实际采样点是否偏移目标拟合曲线；
丢弃单元，用于若第二实际采样点未偏移目标拟合曲线，丢弃第二采样点的数据；
校准单元，用于若第二实际采样点偏移目标拟合曲线，根据第一实际采样点和第二实际采样点的数据更新目标拟合曲线。
基于上述实施例，作为优选的实施例，还包括：
首次校准模块，用于对第一磁场传感器和第二磁场传感器进行首次校准，并保存首次校准数据。
由于装置部分的实施例与方法部分的实施例相互对应，因此装置部分的实施例请参见方法部分的实施例的描述，这里暂不赘述。
本申请所提供的一种磁场传感器的校准装置，根据第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线确定目标拟合曲线，并在实际工作中，根据实际采样点数据实时校准目标拟合曲线，从而在磁场传感器的磁场环境发生改变时，实时校准目标拟合曲线而无需对磁场传感器进行校准，在使用磁场传感器时更为便利，提高磁场传感器测得数据的准确性。
图5为本申请实施例提供的另一种磁场传感器的校准装置的结构图，如图5所示，磁场传感器的校准装置包括：存储器30，用于存储计算机程序；
处理器31，用于执行计算机程序时实现如上述实施例磁场传感器的校准方法的步骤。
本实施例提供的磁场传感器的校准装置可以包括但不限于智能手机、平板电脑、笔记本电脑或台式电脑等。
其中，处理器31可以包括一个或多个处理核心，比如4核心处理器、8核心处理器等。处理器31可以采用DSP(Digital Signal Processing，数字信号处理)、FPGA(Field－Programmable Gate Array，现场可编程门阵列)、PLA(Programmable Logic Array，可编程逻辑阵列)中的至少一种硬件形式来实现。处理器31也可以包括主处理器和协处理器，主处理器是用于对在唤醒状态下的数据进行处理的处理器，也称CPU(Central ProcessingUnit，中央处理器)；协处理器是用于对在待机状态下的数据进行处理的低功耗处理器。在一些实施例中，处理器31可以在集成有GPU(Graphics Processing Unit，图像处理器)，GPU用于负责显示屏所需要显示的内容的渲染和绘制。一些实施例中，处理器31还可以包括AI(Artificial Intelligence，人工智能)处理器，该AI处理器用于处理有关机器学习的计算操作。
存储器30可以包括一个或多个计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质可以是非暂态的。存储器30还可包括高速随机存取存储器，以及非易失性存储器，比如一个或多个磁盘存储设备、闪存存储设备。本实施例中，存储器30至少用于存储以下计算机程序301，其中，该计算机程序被处理器31加载并执行之后，能够实现前述任一实施例公开的磁场传感器的校准方法的相关步骤。另外，存储器30所存储的资源还可以包括操作系统302和数据303等，存储方式可以是短暂存储或者永久存储。其中，操作系统302可以包括Windows、Unix、Linux等。数据303可以包括但不限于第一采样点数据和第二采样点数据等。
在一些实施例中，磁场传感器的校准装置还可包括有显示屏32、输入输出接口33、通信接口34、电源35以及通信总线36。
本领域技术人员可以理解，图5中示出的结构并不构成对磁场传感器的校准装置的限定，可以包括比图示更多或更少的组件。
本申请实施例提供的磁场传感器的校准装置，包括存储器和处理器，处理器在执行存储器存储的程序时，能够实现如下方法：确定第一磁场传感器的第一采样点和第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据；通过第一采样点数据获得第一拟合曲线，通过第二采样点数据获得第二拟合曲线；根据第一拟合曲线和第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取第一磁场传感器和第二磁场传感器的实际采样点数据，根据实际采样点数据校准目标拟合曲线。
最后，本申请还提供一种计算机可读存储介质对应的实施例。计算机可读存储介质上存储有计算机程序，计算机程序被处理器执行时实现如上述方法实施例中记载的步骤。
可以理解的是，如果上述实施例中的方法以软件功能单元的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本申请的技术方案本质上或者说对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的全部或部分可以以软件产品的形式体现出来，该计算机软件产品存储在一个存储介质中，执行本申请各个实施例所述方法的全部或部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器(Read-Only Memory，ROM)、随机存取存储器(Random Access Memory，RAM)、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的介质。
以上对本申请所提供的磁场传感器的校准方法进行了详细介绍。说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以对本申请进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本申请权利要求的保护范围内。
还需要说明的是，在本说明书中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
Claims (10)
1.一种磁场传感器的校准方法，其特征在于，包括：
获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；
根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线；
获取所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器的实际采样点数据，根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线；
以更新后的所述目标拟合曲线校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据。
2.根据权利要求1所述的磁场传感器的校准方法，其特征在于，所述获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线，包括：
确定所述第一磁场传感器的第一采样点和所述第二磁场传感器的第二采样点，并获取第一采样点数据和第二采样点数据；
根据所述第一采样点数据和所述第二采样点数据选择拟合函数类型；
结合所述拟合函数类型获得所述第一采样点数据对应的所述第一拟合曲线和所述第二采样点数据对应的所述第二拟合曲线。
3.根据权利要求1所述的磁场传感器的校准方法，其特征在于，所述根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线，包括：
确定所述第一拟合曲线对应的第一拟合函数和所述第二拟合曲线对应的第二拟合函数；
任意调整所述第一拟合函数和所述第二拟合函数中的一个拟合函数的系数，使所述第一拟合曲线与所述第二拟合曲线重合以确定所述目标拟合曲线。
4.根据权利要求1所述的磁场传感器的校准方法，其特征在于，所述根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线，包括：
判断第一实际采样点是否偏移所述目标拟合曲线；
若否，所述第一实际采样点的数据为正常数据；
若是，判断第二实际采样点是否偏移所述目标拟合曲线；
若所述第二实际采样点未偏移所述目标拟合曲线，丢弃所述第二采样点的数据；
若所述第二实际采样点偏移所述目标拟合曲线，根据所述第一实际采样点和所述第二实际采样点的数据更新所述目标拟合曲线。
5.根据权利要求1所述的磁场传感器的校准方法，其特征在于，所述获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线之前，还包括：
对所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器进行首次校准，并保存首次校准数据。
6.一种磁场传感器的校准装置，其特征在于，包括：
获取模块，用于获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；
确定模块，用于根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线；
更新模块，用于获取所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器的实际采样点数据，根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线；
校准模块，用于以更新后的所述目标拟合曲线校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据。
7.一种磁场传感器的校准装置，其特征在于，包括存储器，用于存储计算机程序；
处理器，用于执行所述计算机程序时实现如权利要求1至5任一项所述的磁场传感器的校准方法的步骤。
8.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有计算机程序，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至5任一项所述的磁场传感器的校准方法的步骤。
9.一种磁场传感器的校准系统，其特征在于，包括：微控制器，第一磁场传感器和第二磁场传感器；
所述微控制器分别与所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器连接，用于获取第一磁场传感器的第一拟合曲线和第二磁场传感器的第二拟合曲线；根据所述第一拟合曲线和所述第二拟合曲线确定目标拟合曲线；获取所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器的实际采样点数据，根据所述实际采样点数据更新所述目标拟合曲线；以更新后的所述目标拟合曲线校准所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器测得的数据。
10.根据权利要求9所述的磁场传感器的校准系统，其特征在于，所述微控制器分别与所述第一磁场传感器和所述第二磁场传感器通过SPI接口或I2C接口连接。
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