CN113885278A - 一种光源系统与投影系统 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种光源系统与投影系统，该光源系统包括：发光组件与匀光器件，发光组件用于产生出射光束，其中，出射光束包括中间光束以及位于中间光束周围的边缘光束；匀光器件设置于出射光束的光路上，用于对出射光束进行匀光，得到照明光束；其中，边缘光束的一部分被匀光器件的内侧壁反射，生成镜像光束，且镜像光束与相应的边缘光束相互交叠。通过上述方式，本申请能够提高边缘光束的锐利程度，降低满溢。

Description

一种光源系统与投影系统
技术领域
本申请涉及投影技术领域，具体涉及一种光源系统与投影系统。
背景技术
高动态显示范围对于投影显示效果的提升比较明显，目前投影领域主流的高动态范围成像(HDR，High Dynamic Range Imaging)技术包括：基于局部调光(Local Dimming)的阵列光源方案、基于光转向(light steering)的方案以及基于双片/多片光调制器的方案；基于Local Dimming的HDR方案具有效率高、亮度高以及器件简单等优点，其被广泛应用在投影领域，但目前基于Local Dimming的HDR方案存在亮度逐渐降低的边缘部分，表现为满溢(overfill)，且overfill较大，使得光源的效率较低。
发明内容
本申请提供一种光源系统与投影系统，能够提高边缘光束的锐利程度，降低满溢。
为解决上述技术问题，本申请采用的技术方案是：提供一种光源系统，该光源系统包括：发光组件与匀光器件，发光组件用于产生出射光束，其中，出射光束包括中间光束以及位于中间光束周围的边缘光束；匀光器件设置于出射光束的光路上，用于对出射光束进行匀光，得到照明光束；其中，边缘光束的一部分被匀光器件的内侧壁反射，生成镜像光束，且镜像光束与相应的边缘光束相互交叠。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一技术方案是：提供一种投影系统，该投影系统包括上述的光源系统。
通过上述方案，本申请的有益效果是：在发光组件的出射光路上设置一匀光器件，该匀光器件能够对入射的边缘光束的一部分进行反射，形成镜像光束，该镜像光束与相应的边缘光束进行叠加，使得边缘位置的光束的锐利程度提升，由于边缘越锐利，overfill越小，因而可大幅度降低overfill；而且由于仅需对匀光器件进行设计，形成镜像光束来减弱边缘光束的锐利程度即可，对匀光器件的长度和宽度的要求比较宽泛，使得对匀光器件的制作公差的容忍程度较大，容易实现。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：
图1是本申请提供的光源系统一实施例的结构示意图；
图2为图1所示的实施例中光束的亮度示意图；
图3为图1所示的实施例中边缘光束与中间光束的示意图；
图4是本申请提供的光源系统另一实施例的结构示意图；
图5是图4所示的实施例中光源系统的立体结构示意图；
图6是本申请提供的光源系统又一实施例的结构示意图；
图7是图6所示的实施例中光源系统的具体结构示意图；
图8(a)是图7所示的实施例中光照强度的示意图；
图8(b)是现有技术中光源系统的光照强度的示意图；
图9是图6所示的实施例中光源系统的另一具体结构示意图；
图10(a)是图9所示的实施例中光照强度的示意图；
图10(b)是现有技术中光源系统的光照强度的另一示意图；
图11是本申请提供的投影系统一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
请参阅图1，图1是本申请提供的光源系统一实施例的结构示意图，光源系统包括：发光组件11与匀光器件12。
发光组件11用于产生出射光束，该出射光束包括中间光束以及位于中间光束周围的边缘光束。
进一步地，发光组件11包括多个阵列排布的发光元件111，发光元件111用于产生多个子光束，多个子光束组成出射光束；具体地，发光元件111包括激光器或光纤，例如，发光元件111可为红色激光器、绿色激光器或蓝色激光器，以分别产生红光、绿光或蓝光。
在一具体的实施例中，光源系统为基于Local Dimming的系统，使用独立可控的发光元件111，每个发光元件111负责一个区域的照明，多个发光元件111出射的子光束之间存在交叠，最终的照明光束由所有发光元件111发出的子光束拼接形成。
考虑到在实际应用中时，由于制造公差与设计偏差的原因，发光元件111的位置不可避免的存在偏离，为了克服发光元件111的偏移带来的显示缺陷，每个独立的发光元件111出射的子光束的边缘通常设计成渐变衰减而不是非常锐利，子光束之间通过互相交叠来实现照明，子光束之间的交叠区域越大，对发光元件111的位置误差的容忍程度越高，边缘越不锐利，但这一设计将导致整体的照明在边缘处也不够锐利，overfill比较大。
如图2所示，201、202和203是单个发光元件111对应的子光束，211是多个发光元件111发出的子光束叠加之后形成的总光束，表现为中间均匀，且边缘为单个发光元件111决定的渐变分布，中间均匀部分可以用作显示画面，而边缘亮度逐渐衰减的部分不能使用，表现为overfill；单个发光元件111的亮度分布和子光束之间的交叠情况决定了最终产生的照明光束的总亮度，子光束之间的交叠情况决定了Local Dimming分区调控能力、多个发光元件111的总亮度的边缘和系统对发光元件111的位置误差的容忍能力。总体来说，子光束的边缘越不锐利，发光元件111出射的子光束之间的交叠区域越大，对发光元件111的位置误差的容忍能力越大，但同时也将导致总光束211的边缘越不锐利，使得overfill变大。
由于边缘的不可用区域由单个发光元件111的光斑形貌决定，其大小也就由单个发光元件111的光斑大小和形貌决定，因此在分区数量较少的Local Dimming系统中，该效应导致的overfill较大，在极端情况下，边缘处的发光元件111出射的子光束最大约一半的区域处于不可用区域；假定Local Dimming的分区数量为m*n，则由于此效应导致的overfill约为：1-[(m-1)*(n-1)/(m*n)]，在分区数量为10*10时，overfill大小为19％，因而本实例在发光组件11的出射光路上设置一匀光器件12，以改善overfill。
匀光器件12设置于出射光束的光路上，其用于对出射光束进行匀光，得到照明光束；具体地，入射的边缘光束的一部分被匀光器件12的内侧壁反射，生成镜像光束，且镜像光束与相应的边缘光束相互交叠，匀光器件12包括方棒；例如，匀光器件12为方棒，如图3所示，311为中间光束，312为边缘光束，方棒的内侧壁可以理解为镜面，边缘光束312被方棒的内侧壁反射后可看作形成一虚拟光束313，此时虚拟光束313相当于一个额外的光源所产生的子光束，将边缘光束312被反射的一部分记作光束3121，光束3121可被方棒的内侧壁反射形成镜像光束3131，镜像光束3131是真实存在的光束，而虚拟光束313中除了镜像光束3131之外其他部分不存在，因此在方棒的出光面的边缘位置附近，照明光束是均匀的，即引入了方棒之后大多区域都是可用区域，overfill较小。
本实施例提供了一种高效率的光源设计，通过匀光器件12来改进边缘光束的光斑分布，而不影响中间区域的光斑形状，使得在发光元件111出射的子光束之间的交叠情况不变(即对发光元件111的位置公差的忍耐程度不变)的前提下，使得边缘的光斑变得锐利，大幅度减小与空间光调制器之间的overfill，提高光源系统的效率，得到高效的光源；且由于仅需对匀光器件12进行设计，使得匀光器件12能够对入射的边缘光束的一部分进行反射以形成镜像光束，来减弱边缘光束的锐利程度，光源系统中的各个器件有比较大的设计误差余量，便于实现，适用于大部分Local Dimming的光源设计。
下面的实施例以光源系统为Local Dimming系统，且匀光器件为方棒为例进行说明。
请参阅图4，图4是本申请提供的光源系统另一实施例的结构示意图，图5是图4所示的实施例中光源系统的立体结构示意图，光源系统包括：发光组件41、方棒42以及散射器件43。
发光组件41包括多个阵列排布的发光元件411，发光元件411用于产生多个子光束；具体地，发光组件41为阵列化的独立可控光源，其可以是阵列化的激光器，也可以是阵列化的光纤。
散射器件43设置于多个子光束的光路上，其用于对多个子光束进行散射；具体地，散射器件43可以是复眼阵列，也可以是散射片或者是荧光粉等具有光束形貌控制功能的器件。
进一步地，散射器件43可对发光组件41出射的光束进行光斑的调控，最后使得光斑在特定的位置上拼接，形成具有Local Dimming功能的照明光束。
原则上只要使用方棒42将边缘光束进行反射就可以改善边缘照明分布，但方棒42的长度与宽度对最终的改善效果可产生一些影响，使得改善的效果不同，因而存在最优的设计使得改善效果最好；具体地，方棒42的出光面位于多个子光束拼接形成照明光束的位置，即方棒42的最优长度对应为方棒42的出光面恰好位于发光元件411拼接形成均匀照明光束的位置，方棒42的最佳宽度应使得边缘光束与虚拟光束之间的距离与相邻两个中间光束之间的距离相同，从而使得overfill理论上最小。
进一步地，继续参阅图4，方棒42的出光面恰好为发光元件411对应的光斑拼接形成照明光束的位置，处于中间位置的发光元件411产生的子光束(比如子光束441)可直接穿过方棒42，在特定的位置形成的光束与没有方棒42时一致，而处于边缘的发光元件411对应的子光束(比如子光束442)则在方棒42的边缘处产生一次反射，边缘处较弱的光反射回来与自身光斑产生交叠，最终使得边缘的光斑变得锐利。
需要说明的是，在其他实施例中，可以根据具体应用场景，不设置散射器件43，只要子光束相互之间存在交叠，就可以使用本实施例的方案来获得更高效的光源。
本实施例利用一个方棒42可对边缘处的发光元件411产生的光斑进行修正，从而实现高效的Local Dimming光源；另外，对方棒42的制作公差的容忍程度较大，首先方棒42的长度有比较大的误差余量，只需要保证方棒42的出光面与子光束的拼接面一致即可，由于光束从散射器件43出射之后，有很长一段距离边缘光束都没有漏出，因此方棒42的长度上可以存在误差，即对方棒42的入光面没有太多要求，只要保证边缘光束不漏光即可；其次，在设计Local Dimming光源时，就需考虑到发光元件411的位置误差的容忍能力，光斑设计为边缘渐变也是为了这个目的，而这一点将使得方棒42的宽度在制作上也留有比较大的误差容忍能力；当方棒42的宽度存在误差时，将使得方棒42的边缘反射出来的镜像光束与边缘光束之间的距离出现误差，但光源本身的设计对这样的误差具有抵抗能力，因而对overfill的效果影响不大。
请参阅图6，图6是本申请提供的光源系统又一实施例的结构示意图，光源系统包括：发光组件61、方棒62、透镜阵列63以及复眼64。
透镜阵列63设置于出射光束的光路上，其用于对出射光束进行处理，并出射处理后的光束。
复眼64设置于透镜阵列63的出射光路上，其用于接收透镜阵列63出射的光束，并将透镜阵列63出射的角分布的光束变为矩形分布的光束；具体地，复眼64与方棒62紧贴设置，即复眼64的出光面与方棒62的入光面紧贴设置。
在一具体的实施例中，如图7所示，方棒62为空心，发光组件61可以为光纤阵列，独立调控的RGB激光器可通过耦合结构进入光纤阵列，最终使得发光组件61中的每根光纤都可以实现全彩色输出，并可独立调控。
发光组件61出射的光束经过透镜阵列63，透镜阵列63的焦点位于光纤的出光面处，以通过控制透镜阵列63的焦距获得不同间距的阵列光束；光束接着穿过复眼64，将透镜阵列63出射的角分布的光束变为矩形分布的光束，并且矩形分布的长宽比与多个阵列排布的发光元件611的长宽比一致；光束从复眼64出射后，经过一个空心的方棒62，方棒62的出光面为光斑拼接形成均匀照明光束的位置。
进一步地，可使用光学追迹软件进行仿真，采用4*6个照明分区，有无方棒62的仿真结果如图8所示，图8(a)为使用本实施例中的光源系统得到的仿真图，图8(b)为未使用本实施例中的光源系统得到的仿真图，图中横坐标为出射的光束与光束中心之间的距离，图中纵坐标为光照强度，5E+06为边缘区域的光照强度与中间区域的光照强度的分界值，即若某一区域对应的光照强度小于5E+06，则其为边缘区域；对比可发现本实施例的方案可以有效地提高边缘光束的锐利程度，若定义亮度小于中间区域亮度的80％的区域为边缘区域，则边缘光束的能量占比可以从17％降低到约3％。
在另一具体的实施例中，还可以使用实心的方棒62来实现高效的Local Dimming光源，如图9所示，其与图7所示的实施例相似，发光组件61可以为光纤阵列，独立调控的RGB激光器可通过耦合结构进入光纤阵列，最终使得发光组件61中的每根光纤都可以实现全彩色输出，并可独立调控。
发光组件61出射的光束经过透镜阵列63，透镜阵列63的焦点位于光纤的出光面处，以通过控制透镜阵列63的焦距获得不同间距的阵列光束；光束接着穿过复眼64，将透镜阵列63出射的角分布的光束变为矩形分布的光束，并且矩形分布的长宽比与多个阵列排布的发光元件611的长宽比一致；光束从复眼64出射后，经过一个实心的方棒62，方棒62的出光面为光斑拼接形成均匀照明光束的位置。
由于光束进入方棒62后，光束的角度将变小，因此需要更长的距离来实现子光束之间的均匀拼接，实心的方棒62可以使用在功率更高的投影系统中，并且由于方棒62的长度进一步加长，制作难度也有所下降。
进一步地，可使用光学追迹软件进行仿真，采用4*6个照明分区，有无方棒62的仿真结果如图10所示，图10(a)为使用本实施例中的光源系统得到的仿真图，图10(b)为未使用本实施例中的光源系统得到的仿真图，图中横坐标为出射的光束与光束中心之间的距离，图中纵坐标为光照强度，5E+06为边缘区域的光照强度与中间区域的光照强度的分界值；对比可发现本实施例的方案可以有效地提高边缘光束的锐利程度，若定义亮度小于中间区域亮度的80％的区域为边缘区域，则边缘光束的能量占比可以从17％降低到约4％。
本实施例提供了一种高效的Local Dimming光源设计，可以方便地引入现有的Local Dimming系统中，能够减小照明光束与空间光调制器之间的overfill，在分区较少的Local Dimming系统中能够将overfill提升得较大。
请参阅图11，图11是本申请提供的投影系统一实施例的结构示意图，投影系统110包括光源系统111与调制器112，光源系统111为上的光源系统。
调制器112设置于光源系统111的出射光路上，其用于对光源系统111出射的照明光束进行调制，调制器112可以为空间光调制器。
在现有的投影装置中，除了超高亮度的工程机与电影机外，剩下的大部分投影机，例如，商教投影机或激光电视等机器对应的激光器数量都比较有限，所能实现的分区数量也较少，在这些投影机中，使用本实施的方案不仅能够实现HDR的功能，还具有降低系统功耗以及减小光调制器112的热负载的优势。
以上仅为本申请的实施例，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种光源系统，其特征在于，包括：
发光组件，用于产生出射光束，其中，所述出射光束包括中间光束以及位于所述中间光束周围的边缘光束；
匀光器件，设置于所述出射光束的光路上，用于对所述出射光束进行匀光，得到照明光束；
其中，所述边缘光束的一部分被所述匀光器件的内侧壁反射，生成镜像光束，且所述镜像光束与相应的所述边缘光束相互交叠。
2.根据权利要求1所述的光源系统，其特征在于，
所述发光组件包括多个阵列排布的发光元件，所述发光元件用于产生多个子光束，所述多个子光束组成所述出射光束。
3.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，
所述匀光器件的出光面位于所述多个子光束拼接形成所述照明光束的位置。
4.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，
所述光源系统还包括散射器件，所述散射器件设置于所述多个子光束的光路上，用于对所述多个子光束进行散射。
5.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，
所述发光元件包括激光器或光纤，所述匀光器件包括方棒。
6.根据权利要求2所述的光源系统，其特征在于，
所述光源系统还包括透镜阵列，所述透镜阵列设置于所述出射光束的光路上，用于对所述出射光束进行处理，并出射处理后的光束。
7.根据权利要求6所述的光源系统，其特征在于，
所述光源系统还包括复眼，所述复眼设置于所述透镜阵列的出射光路上，用于接收所述透镜阵列出射的光束，并将所述透镜阵列出射的角分布的光束变为矩形分布的光束。
8.根据权利要求7所述的光源系统，其特征在于，
所述匀光器件与所述复眼紧贴设置，所述矩形分布的长宽比与所述多个阵列排布的发光元件的长宽比一致。
9.一种投影系统，其特征在于，包括权利要求1-8中任一项所述的光源系统。
10.根据权利要求9所述的投影系统，其特征在于，
所述投影系统还包括调制器，所述调制器设置于所述光源系统的出射光路上，用于对所述光源系统出射的照明光进行调制。
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