CN113867052B - 显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置,显示面板中的每个待配向基板包括M个曝光区,方法包括:基于M个曝光区中的N个曝光区的预设目标配向力方向,确定N个曝光区的预设目标配向力方向对应的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向;基于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向,分别对待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向。由于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向用于合成预设目标配向力方向,这样,曝光区可以等效为按照预设目标配向力方向进行曝光配向,从而可以对曝光区按照实际需要的曝光方向,进行合成曝光配向,进而实现对垂直于基板的前进方向的曝光。
Description
技术领域
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置。
背景技术
液晶显示面板的通常是由一彩膜(Color Filter,CF)基板、一薄膜晶体管(ThinFilm Transistor,TFT)基板以及一配置于两基板间的液晶层所构成,其工作原理是通过在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶层的液晶分子的旋转,将背光模组的光线折射出来产生画面。
目前,显示面板的多畴显示,对改善液晶面板的色偏,扩大视角有较好的效果,但是,对于多畴显示的显示面板在进行曝光时,曝光线的光线方向与基板在配向设备中的前进方向平行,只能对每个畴对应的曝光区按照基板在配向设备中的前进方向进行曝光,而无法对每个畴对应的曝光区按照垂直于基板的前进方向进行曝光,即使将曝光线的光线方向设置为与基板在配向设备中的前进方向垂直,也无法有效的产生预倾角,因此,现有的配向工艺无法实现对垂直于基板的前进方向的曝光。
发明内容
本发明的主要目的是提供一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置,以解决现有技术中无法实现对垂直于基板的前进方向的曝光的问题。
针对上述问题,本发明提供了一种显示面板的光配向方法,所述显示面板中的每个待配向基板包括M个曝光区,所述方法包括:
基于N个曝光区的预设目标配向力方向,确定所述N个曝光区的预设目标配向力方向对应的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向;其中,所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向用于合成所述目标曝光方向;所述N小于或等于所述M;
基于所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向,分别对所述待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法中,所述待配向基板包括薄膜晶体管基板和与所述薄膜晶体管基板对盒设置的彩膜基板。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法中,所述待配向基板包括薄膜晶体管基板。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法中,所述待配向基板包括彩膜基板。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法,还包括:
若所述N小于所述M,基于L个曝光区的预设目标配向力方向,分别对L个曝光区的配向膜进行曝光配向;
其中,所述L为所述M与所述N的差值。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法中,所述第一分量曝光方向与所述第二分量曝光方向相互垂直,且所述第一分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角小于90°,所述第二分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角小于90°。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法中,所述第一分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角为45°,所述第二分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角为45°。
进一步地,上述所述的显示面板的光配向方法中,所述预设目标配向力方向平行于所述待配向基板在配向设备中的前进方向;或者,所述预设目标配向力方向垂直于所述待配向基板在配向设备中的前进方向。
本发明还提供了一种显示面板,所述显示面板中的每个待配向基板的配向膜采用如上任一项所述的显示面板的光配向方法进行配向。
本发明还提供了一种显示装置,包括如上所述的显示面板。
与现有技术相比,上述方案中的一个或多个实施例可以具有如下优点或有益效果:
本发明的显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置,基于N个曝光区的预设目标配向力方向,确定用于合成预设目标配向力方向的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向后,基于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向,分别对待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向。由于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向用于合成预设目标配向力方向,这样,曝光区可以等效为按照预设目标配向力方向进行曝光配向,从而可以对曝光区按照实际需要的曝光方向,进行合成曝光配向,进而实现对垂直于基板的前进方向的曝光。
本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且部分地调节说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本发明的实施例共同用于解释本发明,并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1a为相关技术的“目”字型光配向曝光方式中对TFT基板和CF基板进行曝光配向的一种状态示意图;
图1b为相关技术的“目”字型光配向曝光方式中对TFT基板和CF基板进行曝光配向的另一种状态示意图;
图2为本发明的显示面板的光配向方法实施例的流程图;
图3a为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图;
图3b为图3a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图3c为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图;
图3d为图3c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图3e为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第三种状态示意图;
图3f为图3d对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图3g为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第四种状态示意图;
图3h为图3g对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图4a为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板以及CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图;
图4b为图4a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图4c为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板以及CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图;
图4d为图4c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图5a为本发明利用WGP对TFT基板进行曝光配向的第一种状态示意图;
图5b为图5a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图5c为本发明利用WGP对TFT基板进行曝光配向的第二种状态示意图;
图5d为图5c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图5e为本发明利用WGP对CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图;
图5f为图5e对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图5g为本发明利用WGP对CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图;
图5h为图5g对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图6a为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板进行曝光配向的第一种状态示意图;
图6b为图6a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图6c为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板进行曝光配向的第二种状态示意图;
图6d为图6c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图7a为本发明利用WGP与PBS组合的方式对CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图;
图7b为图7a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图7c为本发明利用WGP与PBS组合的方式对CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图;
图7d为图7c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图8为相关技术中UV2A配向曝光方式对TFT基板和CF基板进行曝光配向的一种状态示意图;
图9a为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第五种状态示意图;
图9b为图9a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图;
图9c为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第六种状态示意图
图9d为图9c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图。
具体实施方式
以下将结合附图及实施例来详细说明本发明的实施方式,借此对本发明如何应用技术手段来解决技术问题,并达成技术效果的实现过程能充分理解并据以实施。需要说明的是,只要不构成冲突,本发明中的各个实施例以及各实施例中的各个特征可以相互结合,所形成的技术方案均在本发明的保护范围之内。
图1a为相关技术的“目”字型光配向曝光方式中对TFT基板和CF基板进行曝光配向的一种状态示意图,如图1a所示,可以将TFT基板10和CF基板20分别划分为4个曝光区,并利用平板分离偏光片(Polarization Beam Splitter,PBS)对TFT基板10的第一个曝光区和第三个曝光区对应的配向膜进行2次曝光配向,对CF基板20的第二个曝光区和第四个曝光区对应的配向膜进行2次曝光配向,并将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30。其中,贴合后的显示面板30中液晶分子如图中的圆锥形,圆圈为液晶分子头,三角为液晶分子尾,其产生的暗线如粗实线。
需要说明的是,TFT基板10与CF基板20贴合后,由于CF基板20上水平方向的配向力的方向会进行反转,也就是说,在曝光配向时,CF基板在曝光时按照水平向左和水平向右曝光,但是与TFT基板贴合后,CF基板侧的配向力方向会发生改变,如图1a中的虚线箭头。
图1b为相关技术的“目”字型光配向曝光方式中对TFT基板和CF基板进行曝光配向的另一种状态示意图,如图1b所示,其与图1a相比仅在于选取的每个基板进行配向的曝光区不同,在此不再赘述。
针对图1a和图1b而言,基板在配向设备中的前进方向为水平方向,无法对TFT基板和CF基板进行竖向曝光,因此,为了解决上述技术问题,本发明提供了以下技术方案。
实施例一
图2为本发明的显示面板的光配向方法实施例的流程图,其中,该显示面板中的每个待配向基板包括M个曝光区。如图2所示,本实施例的显示面板的光配向方法具体可以包括如下步骤:
步骤200、基于N个曝光区的预设目标配向力方向,确定所述N个曝光区的预设目标配向力方向对应的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向;
在一个具体实现过程中,可以根据实际需求设置N个曝光区的曝光方向作为N个曝光区的预设目标配向力方向。根据两个作用力合成一个作用力的原理,将N个曝光区的预设目标配向力方向分解成对应的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向。其中,所述第一分量曝光方向与所述第二分量曝光方向相互垂直,且所述第一分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角小于90°,所述第二分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角小于90°。本实施例中,所述第一分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角可以为45°,所述第二分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角可以为45°。其中,所述N小于或等于所述M。
在一个具体实现过程中,所述预设目标配向力方向平行于所述待配向基板在配向设备中的前进方向;或者,所述预设目标配向力方向垂直于所述待配向基板在配向设备中的前进方向。
步骤201、基于所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向,分别对所述待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向。
在一个具体实现过程中,可以基于线栅型偏光片(Wire Grid,WGP)对TFT基板和CF基板进行配向的原理,利用与第一分量曝光方向相同的WGP对待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向,以及,利用与第二分量曝光方向相同的WGP对待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向,这样,相当于对每个曝光区进行两次曝光,第一分量曝光方向与第二分量曝光方向即可合成产生预设目标配向力方向,这样,在待配向基板前进时,既可以对待配向基板按照前进方向进行曝光,又可以对待配向基板按照与前进方向垂直的方向进行曝光。
本发明的显示面板的光配向方法,基于N个曝光区的预设目标配向力方向,确定用于合成预设目标配向力方向的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向后,基于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向,分别对待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向。由于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向用于合成预设目标配向力方向,这样,曝光区可以等效为按照预设目标配向力方向进行曝光配向,从而可以对曝光区按照实际需要的曝光方向,进行合成曝光配向,进而实现对垂直于基板的前进方向的曝光。
在一个具体实现过程中,针对“目”字型光配向曝光方式对显示面板中的待配向基板进行曝光配向时,可以参照如下示例:
在一个具体实现过程中,该待配向基板可以包括TFT基板和与TFT基板对盒设置的CF基板。其中,可以只利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向,也可以采用WGP与PBS组合的方式对TFT基板以及CF基板进行曝光配向。采用WGP与PBS组合的方式对TFT基板以及CF基板进行曝光配向时,相当于N小于M,此时,可以基于L个曝光区的预设目标配向力方向,分别对L个曝光区的配向膜进行曝光配向;其中,L为M与N的差值。
示例一:
图3a为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图,图3b为图3a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图3a所示,可以TFT基板10的第一个曝光区的预设目标配向力方向为图3a中合成后的显示面板30所指示的向上的方向,可以对其对应的配向膜进行2次曝光配向,最终可以合成一个在图3a中显示面板30所指示的向上的配向力,TFT基板10的第三个曝光区的预设目标配向力方向为图3a中显示面板30所指示的向下的方向,可以对其对应的配向膜进行2次曝光配向,最终可以合成一个3a中显示面板30所指示的向下的配向力。CF基板20的第二个曝光区的预设目标配向力方向为3a中显示面板30所指示的向下的方向,可以对其对应的配向膜进行2次曝光配向,最终可以合成一个3a中显示面板30所指示的向下的的配向力,CF基板20的第四个曝光区的预设目标配向力方向为图3a中显示面板30所指示的向上的方向,可以对其对应的配向膜进行2次曝光配向,最终可以合成一个图3a中显示面板30所指示的向上的的配向力,并将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30,总共对TFT基板10曝光4次,对CF基板20曝光4次。
贴合后的显示面板30中实线箭头为TFT基板10合成配力方向示意(后续示例均以实线箭头为TFT基板10合成配力方向示意为例),虚线箭头为CF基板20合成配力方向示意(后续示例均以虚线箭头为CF基板20合成配力方向示意为例)。如图3b所示,该显示面板30中液晶分子初始状态如3b(1),液晶分子旋转方向如3b(2),液晶分子中间状态如3b(3),显示面板30产生的暗线如3b(4)粗实线。其中,实线圆锥为TFT基板10侧液晶分子转向示意(后续示例均以实线圆锥为TFT基板10侧液晶分子转向示意为例),虚线圆锥为CF基板20侧液晶分子转向示意(后续示例均以虚线圆锥为CF基板20侧液晶分子转向示意为例),圆圈为液晶分子头,三角为液晶分子尾。
示例二:
图3c为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图,图3d为图3c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图3c-3d所示,该方案其与图3a-3b相比仅在于选取的每个基板进行配向的曝光区不同,在此不再赘述。
示例三:
图3e为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第三种状态示意图,图3f为图3d对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图3e-3f所示,可以对TFT基板10的第一个曝光区至第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,总共对TFT基板10曝光8次,每个曝光区的预设目标配向力方向可以参照3e中TFT基板10所示的箭头方向。对CF基板20的第一个曝光区至第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,总共对CF基板20曝光8次,每个曝光区的预设目标配向力方向可以参照3e中CF基板20所示的箭头方向。将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30。该显示面板30中液晶分子初始状态如3f(1),液晶分子在TFT侧旋转方向如3f(2),液晶分子在TFT侧旋转方向如3f(3),显示面板30产生的暗线如3g(5)粗实线。
示例四:
图3g为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第四种状态示意图,图3h为图3g对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图3g-3h所示,该方案与图3e-3f的区别在于每个曝光区的预设曝光方向不同,在此不再赘述。
需要说明的是,本实施例还可以进行其他排列组合,在此不再一一举例说明。
在一具体实现过程中,图3e和图3g所对应的方案中,由于对每个基板的每个曝光区均进行了曝光配向,使得液晶分子的响应速度更快、稳定性更好。
示例五:
图4a为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板以及CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图,图4b为图4a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图4a-4b所示,可以利用PBS对TFT基板10的第一个曝光区和第三个曝光区对应的配向膜分别进行1次曝光配向,利用WGB对TFT基板10的第二个曝光区和第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,得到合成曝光方向的TFT基板10,总共对TFT基板10曝光6次。可以利用PBS对CF基板20的第而个曝光区和第四个曝光区对应的配向膜分别进行1次曝光配向,利用WGB对CF基板20的第一个曝光区和第三个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,得到合成曝光方向的CF基板20,总共对CF基板20曝光6次。将合成曝光方向的TFT基板10与合成曝光方向的CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30。
如图4b所示,该显示面板30中液晶分子初始状态如4b(1),液晶分子在TFT侧旋转方向如4b(2),液晶分子在TFT侧旋转方向如4b(3),液晶分子中间状态如4b(4),显示面板30产生的暗线如4b(5)粗实线。
示例六
图4c为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板以及CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图,图4d为图4c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图4c-4d所示,该方案与图4a-4b的区别在于每个曝光区的预设曝光方向不同,在此不再赘述。
需要说明的是,本实施例还可以进行其他排列组合,在此不再一一举例说明。
在一具体实现过程中,图4a和图4c所对应的方案中,由于对每个基板的每个曝光区均进行了曝光配向,使得液晶分子的响应速度更快、稳定性更好。且利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板10和CF基板20进行曝光配向,相对于图3e和图3g的方案而言,能够有效降低曝光次数。
在一具体实现过程中,待配向基板还可以包括TFT基板10或CF基板20。其中,可以只利用WGP对TFT基板10或CF基板20进行曝光配向,也可以采用WGP与PBS组合的方式对TFT基板10或CF基板20进行曝光配向。采用WGP与PBS组合的方式对TFT基板10或CF基板20进行曝光配向时,相当于N小于M,此时,可以基于L个曝光区的预设目标配向力方向,分别对L个曝光区的配向膜进行曝光配向;其中,L为M与所述N的差值。
示例七
图5a为本发明利用WGP对TFT基板进行曝光配向的第一种状态示意图,图5b为图5a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图如图5a-5b所示,可以对TFT基板10的第一个曝光区至第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,并将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30,其中,总共对TFT基板10曝光8。该显示面板30中液晶分子初始状态如5b(1),液晶分子旋转方向如5b(2),液晶分子中间状态如5b(3),显示面板30产生的暗线如5b(4)粗实线。
示例八
图5c为本发明利用WGP对TFT基板进行曝光配向的第二种状态示意图,图5d为图5c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图。如图5c-5d所示,该方案与图5a-5b的区别在于每个曝光区的预设曝光方向不同,在此不再赘述。
示例九
图5e为本发明利用WGP对CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图,图5f为图5e对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图如图5e-5f所示,可以对CF基板20的第一个曝光区至第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,并将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30,其中,总共对CF基板20曝光8。该显示面板30中液晶分子初始状态如5f(1),液晶分子旋转方向如5f(2),液晶分子中间状态如5f(3),显示面板30产生的暗线如5f(4)粗实线。
示例十
图5g为本发明利用WGP对CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图,图5h为图5g对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图5g-5h所示,该方案与图5e-5f的区别在于每个曝光区的预设曝光方向不同,在此不再赘述。
示例十一
图6a为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板进行曝光配向的第一种状态示意图,图6b为图6a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图6a-6b所示,可以利用PBS对TFT基板10的第一个曝光区和第三个曝光区对应的配向膜分别进行1次曝光配向,利用WGB对TFT基板10的第二个曝光区和第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,得到合成曝光方向的TFT基板10,并将合成曝光方向的TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30。其中,总共对TFT基板10曝光6次。
如图6b所示,该显示面板30中液晶分子初始状态如6b(1),液晶分子在TFT侧旋转方向如6b(2),液晶分子的旋转方向如6b(3),显示面板30产生的暗线如6b(4)粗实线。
示例十二
图6c为本发明利用WGP与PBS组合的方式对TFT基板进行曝光配向的第二种状态示意图,图6d为图6c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图6c-6d所示,该方案与图6a-6b的区别在于每个曝光区的预设曝光方向不同,在此不再赘述。
示例十三
图7a为本发明利用WGP与PBS组合的方式对CF基板进行曝光配向的第一种状态示意图,图7b为图7a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图7a-7b所示,可以利用PBS对CF基板20的第一个曝光区和第三个曝光区对应的配向膜分别进行1次曝光配向,利用WGB对CF基板20的第二个曝光区和第四个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,得到合成曝光方向的TFT基板10,并将合成曝光方向的CF基板20与TFT基板10贴合,得到贴合后的显示面板30。其中,总共对CF基板20曝光6次。
如图7b所示,该显示面板30中液晶分子初始状态如7b(1),液晶分子在TFT侧旋转方向如7b(2),液晶分子的旋转方向如7b(3),显示面板30产生的暗线如7b(4)粗实线。
示例十四
图7c为本发明利用WGP与PBS组合的方式对CF基板进行曝光配向的第二种状态示意图,图7d为图7c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图7c-7d所示,该方案与图7a-7b的区别在于每个曝光区的预设曝光方向不同,在此不再赘述。
图8为相关技术中UV2A配向曝光方式对TFT基板和CF基板进行曝光配向的一种状态示意图。如图8所示,TFT基板10被分为沿像素短边排列的两个曝光区,CF基板20被分为沿像素长边排列的两个曝光区,分别对TFT基板10和CF基板20进行两次曝光,并贴合后,得到贴合后的显示面板30,其产生的暗线如粗实线。在该方案中,该像素尺寸为Size=a*1/3a,无遮挡状态下,UV2A配向曝光方式中暗线长度计算为:1/6*a+1/6*a+1/3*a+2*a=8/3*a。
在一个具体实现过程中,针对图8对显示面板30中的待配向基板进行曝光配向的方案,可以采用本发明的技术方案进行配向,具体可以参照如下示例:
示例十五
图9a为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第五种状态示意图,图9b为图9a对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图9a-9b所示,可以对TFT基板10的第一个曝光区和第二个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,总共对TFT基板10曝光2次。对CF基板20的第一个曝光区和第二个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,总共对CF基板20曝光2次。将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30。该显示面板30中液晶分子在TFT基板10策的旋转方向如9b(1),液晶分子在CF基板20策的旋转方向如9b(2),显示面板30产生的暗线如9b(3)粗实线。显示面板30产生的暗线成“王”字型,暗线长度为1/3*a+1/3*a+1/3*a+a=2a,这种方案相对于图8所示的方案,暗线占比为现有量产工艺的75%,缩减25%暗线,有效提升透过率,优化光学特性。
示例十六
图9c为本发明利用WGP对TFT基板和CF基板进行曝光配向的第六种状态示意图,图9d为图9c对应的贴合后的显示面板产生暗线的过程图,如图9a-9b所示,可以对TFT基板10的第一个曝光区和第二个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,总共对TFT基板10曝光2次。对CF基板20的第一个曝光区和第二个曝光区对应的配向膜分别进行2次曝光配向,总共对CF基板20曝光2次。将TFT基板10与CF基板20贴合,得到贴合后的显示面板30。该显示面板30中液晶分子在TFT基板10策的旋转方向如9d(1),液晶分子在CF基板20策的旋转方向如9d(2),显示面板30产生的暗线如9d(3)粗实线。显示面板30产生的暗线成“十”字型,暗线长度为1/3*a++a=2a,这种方案相对于图8所示的方案,暗线占比为现有量产工艺的50%,缩减50%暗线,有效提升透过率,优化光学特性。
实施例二
为解决现有技术中存在的上述技术问题,本发明实施例提供了一种显示面板,显示面板中的每个待配向基板的配向膜采用上述实施例的显示面板的光配向方法进行配向。
本发明实施例还一种显示装置,包括上述实施例的显示面板。
可以理解的是,上述各实施例中相同或相似部分可以相互参考,在一些实施例中未详细说明的内容可以参见其他实施例中相同或相似的内容。
需要说明的是,在本发明的描述中,术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。此外,在本发明的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是指至少两个。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
虽然本发明所公开的实施方式如上,但所述的内容只是为了便于理解本发明而采用的实施方式,并非用以限定本发明。任何本发明所属技术领域内的技术人员,在不脱离本发明所公开的精神和范围的前提下,可以在实施的形式上及细节上作任何的修改与变化,但本发明的保护范围,仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。
Claims (7)
1.一种显示面板的光配向方法,其特征在于,所述显示面板中的每个待配向基板包括M个曝光区,所述方法包括:
基于N个曝光区的预设目标配向力方向,确定所述N个曝光区的预设目标配向力方向对应的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向;其中,所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向用于合成所述目标曝光方向;所述N小于或等于所述M;
基于所述第一分量曝光方向和所述第二分量曝光方向,分别对所述待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向;
所述第一分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角为45°,所述第二分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角为45°;
所述预设目标配向力方向平行于所述待配向基板在配向设备中的前进方向;或者,所述预设目标配向力方向垂直于所述待配向基板在配向设备中的前进方向;
若所述N小于所述M,基于L个曝光区的预设目标配向力方向,分别对L个曝光区的配向膜进行曝光配向;
其中,所述L为所述M与所述N的差值。
2.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法,其特征在于,所述待配向基板包括薄膜晶体管基板和与所述薄膜晶体管基板对盒设置的彩膜基板。
3.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法,其特征在于,所述待配向基板包括薄膜晶体管基板。
4.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法,其特征在于,所述待配向基板包括彩膜基板。
5.根据权利要求1所述的显示面板的光配向方法,其特征在于,所述第一分量曝光方向与所述第二分量曝光方向相互垂直,且所述第一分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角小于90°,所述第二分量曝光方向与对应的预设目标配向力方向之间的夹角小于90°。
6.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板中的每个待配向基板的配向膜采用如权利要求1-5中任一项所述的显示面板的光配向方法进行配向。
7.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求6所述的显示面板。
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