CN113800671A - 用于水处理的设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于对冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备(1)，其中，该设备设置有用于预过滤所述系统水的至少一个过滤装置(7)、用于对所述系统水进行消毒的至少一个臭氧化装置(8)和设置在所述至少一个臭氧化装置(8)的区域中的用于恒定水量调节的至少一个调节装置(80)。

Description

用于水处理的设备

技术领域

本发明涉及一种用于对冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备。

背景技术

用于水处理的设备在现有技术中是已知的。这种设备尤其用于过滤来自机器和设施的工艺用水以及冷却水的污垢颗粒和细颗粒。为此，微生物污染物和有机固体应在两级过滤框架中从水(例如工艺用水或冷却水)中被去除。工艺用水和冷却水中的此类杂质可能是例如藻类、细菌、军团菌或假单胞菌属(Pseudonomaden)，它们在长时间使用时会在水中形成。还已知用于水处理的设备，其中设置有对水的UV处理以杀死细菌或使用杀生物剂用于该目的。

众所周知，在带有以湿式冷却方式工作的开放水循环的冷却塔、蒸发冷却设施和倒冷却设备的操作中，存在着细菌污染和细菌以生物气溶胶形式传播的风险。受污染的冷却塔可能会导致半径10公里以上距离内的军团菌感染。冷却塔或蒸发冷却设施的基本原理是将热量从加热了的冷却水中传递到较冷的环境气体中。由于气体的低热容量，在冷却塔或蒸发冷却设施中会有大量的气体移动，在所谓的自然通风冷却塔内通常通过所谓的烟囱效应。水的蒸发可以显着提高冷却塔或蒸发冷却设施的效率，但会导致蒸汽羽流的形成。它会引起蒸发冷却，其有效地传递热量。但是，存在微生物定植的风险，而微生物通常要通过杀生物剂来对抗。

为了解决该问题，使用所谓的干式冷却塔代替湿式冷却，这是已知的。然而干式冷却不如湿式冷却有效。在相同冷却能力的情况下，在干式冷却时，要么需要更多的电能来运行，要么冷却塔或蒸发冷却设施需要更多的内部空间容积。作为另一种可能性，为了限制冷却塔或蒸发冷却设施细菌污染，使用金属矿物催化剂是已知的，其至少抑制或减缓生物膜的生长，从而降低了冷却塔或蒸发冷却设施被细菌污染的风险。使用杀生物剂来对抗细菌，也是已知的。但是，如果其进入废水中，则在此会导致问题，特别是在净化设施中。

因此，所有为了避免军团菌在冷却塔或蒸发冷却设施的系统水中生长并最小化来自它们的含有军团菌的气溶胶排放从而避免对冷却塔附近的人和动物的健康风险的已知措施，都有另外的缺点。

发明内容

因此，本发明的任务是提供一种用于对冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备，该设备避免了使用杀生物剂，并且还能够保护系统水免受细菌污染。

该任务将通过技术方案1的一种用于对冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备来实现，其设置有用于预过滤系统水的至少一个过滤装置，用于对系统水进行消毒的至少一个臭氧化装置和设置在所述至少一个臭氧化装置的区域中的用于恒定水量调节的至少一个调节装置。在从属权利要求中定义了本发明的其它结构。

由此实现了用于对冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备，该设备能够在不使用杀生物剂的情况下对系统水进行很好的清洁和消毒。在下文中，为简单起见，使用了术语一个“冷却塔”或多个“冷却塔”和一个“冷却塔设施”或多个“冷却塔设施”，其中冷却塔或冷却塔设施意味着蒸发冷却设施。通过设置至少一个过滤装置，系统水被预过滤并且因此免于污垢颗粒。通过至少一个臭氧化装置对系统水进行杀菌，从而能够使系统水避免军团菌污染。通过至少一个臭氧化装置来处理系统水，由此使系统水无菌，尤其是达到饮用水水平，例如达到的值<100KBE，即少于100个菌落形成单位，它是表达可培养或可数微生物数量的单位，其中菌落形成单位可以由单个微生物以及多种微生物的聚集体或粘附在颗粒上的一种或多种微生物构成。因此，KBE是一种单位，借此可以表达水的纯度，此处为系统水。

通过不使用杀生物剂的情况下使系统水无菌的可能性，也就是说，可以在不使用杀生物剂的情况下运行设备，还意味着可以有利地满足这方面的环境要求。

通过至少一个调节装置使得有可能在至少一个臭氧化装置的区域内或其内部提供恒定水量的系统水。通过这种在臭氧化装置中保持系统水的流量或水量恒定的可能性，使得能够实现一如既往并且最佳的消毒效果。经过至少一个臭氧化装置的流量可以相应地例如设定为在8至10m³/h之间的值，尤其是8m³/h。借助至少一个用于对系统水进行预过滤的过滤装置，例如，尺寸最大为3至5μm的颗粒可以被至少一个过滤装置捕获并防止向臭氧化装置的方向进一步流动，因而从系统水中去除。

为了清除至少一个过滤装置上的被捕获的污垢颗粒，有利地设置了至少一个倒冲洗装置。已经证明，经由该至少一个倒冲洗装置所提供自动倒冲洗是特别有利的。为了将至少一个过滤装置从正常或标称操作切换到倒冲洗操作，可以有利地设置至少一个可以经压缩气体运行或经压缩气体运行的切换装置，通过它实现过滤装置的运行位置的切换。在启动切换装置之后，中断向至少一个过滤装置的供应系统水，并且取而代之的是打开至少一个过滤装置的流出口，以便能够将至少一个过滤装置的倒冲洗的废水从处理系统水的装置中远离过滤装置而排出。为了在该装置的全自动操作期间，在检测到过度污染或达到要提供倒冲洗的污染程度时能够对至少一个过滤器装置进行自动倒冲洗，在至少一个过滤装置的区域中设置至少有一个压差值监测装置是有利的。其监测了至少一个过滤装置的污染程度。随着至少一个过滤装置的污染程度的增加，经过该过滤装置的流量将减小，从而产生高的压差值。反之，如果至少一个过滤装置被彻底清洁了，因而干净了，则仅产生很小的压差值。因此，如果由于压差的增加必须假定至少一个过滤装置的污染程度已经超过可预定值，则压差监测装置可以自动启动至少一个倒冲洗过程。因此，至少一个倒冲洗过程可以经由压差值监测装置或其查询被触发，从而激活至少一个倒冲洗装置，以便对至少一个过滤装置进行倒冲洗。

通过用于对来自冷却塔设施的系统水进行水处理的设备，一方面能够从系统水中去除污垢颗粒，另一方面可以消除细菌。水的氧化还原电势通过至少一个臭氧化装置进行调节，由此减少细菌和微生物繁殖的机会，或确保细菌和微生物迅速死亡。

优选地，提供至少一个气体供应装置，用于将气体供应到至少一个臭氧化装置中。该气体供应量可以有利地通过至少一个设置装置，尤其是节气门元件来设置或调节。臭氧化装置包括至少一个用于放射UV辐射的装置，例如UV灯，其中在臭氧化装置中，在UV辐射的作用下由所供应的气体中分离出臭氧。这使得可以通过UV辐射将臭氧由供应的环境气体中分离出来，并将其计量地添加(zudosieren)到流经臭氧化装置的水中。UV辐射发出的波长与臭氧产生的波长不同，过量的臭氧可以通过UV辐射再次被消除，因此可以提供本质上安全的臭氧化作用。因此，过量的臭氧残留在设备中，特别是至少一个臭氧化装置中，并导致装置操作安全的风险，这可以被避免。

还可以有利地设置至少一种用于测量和/或调节水的氧化还原电势的装置。水的氧化还原电势借助臭氧化过程中的臭氧含量来调节，其中，至少一台用于测量水的氧化还原电势的装置布置在至少一台臭氧化装置的下游，以记录水的氧化还原电势的实际值。在记录了氧化还原电势的实际值之后，同时用氧化还原电势的可预定目标值，可以将臭氧含量调节到该目标值。一个有利地提供的控制和/或调节装置可以以如下方式控制臭氧化装置，即，当氧化还原电势的实际值低于可预定的目标值，即氧化还原电势太低时，臭氧化装置通过提升臭氧化装置中产生的臭氧来提高氧化还原电势。反之，当存在的氧化还原电势的实际值超过氧化还原电势的可预定目标值，则可以降低臭氧化装置中臭氧的产生。在水中的氧化性物质和还原性物质之间达到平衡时，氧化还原电势在中等范围以上。在这个区域中，水具有良好的水质。反之如果平衡被破坏，一方面，则水的氧化还原电势可以处于很高的实际值，其中，水处于无菌且侵蚀性的情况，因为存在臭氧形式的强氧化剂，其能够侵蚀生物材料并引起腐蚀。如果朝另一个方向破坏平衡，则仅存在中等至较差的水质，且相应地与上述良好水质的情况相比，氧化还原电势较低。因此，差的水质的特征在于水的氧化还原电位非常低，以及在水中主导的腐烂过程或大量微生物产生，如军团菌。然而，通过使用至少一个臭氧化装置调节氧化还原电势，可以防止这种情况，并将水质提高到所需的质量。因此，不再需要在冷却塔设施的用于系统水的水处理的设备中使用杀生物剂或其他化学试剂进行杀菌。

至少一个压差值监测装置还可以有利地与至少一个调节装置联接，以在至少一个臭氧化装置的区域中进行如下的恒定的水量调节，使调节装置依据所确定的压差值来调节水量。由于随着至少一个过滤装置的污染程度的增加，经过至少一个过滤装置的流量会下降，因此，如果确定了经过至少一个过滤装置的流量的这种下降，则用于调节臭氧化装置的区域内恒定水量的至少一个调节装置将加大系统水向臭氧化装置的流入，以使至少一个臭氧化装置内的所期待目标水量尽可能保持恒定，从而能够确保对系统水进行连续并彻底的消毒。这在臭氧化装置中的水量恒定的情况下是可能的，因为UV辐射的放射量与水量最佳匹配，该UV辐射将臭氧从环境气体中分离且臭氧被计量地添加到流经臭氧化装置的水中。因此，无论是由于至少一个过滤装置的高污染而在此存在高压差值，还是在更干净的过滤装置上仅存在较低值，都可以通过至少一个臭氧化装置使水流量保持恒定。

用于在至少一个臭氧化装置的区域中进行恒定水量调节的至少一个调节装置例如可以包括文丘里喷嘴和与之并联连接的二通阀(例如二通调节球阀)的组合。为了使在文丘里喷嘴处吸入的气体量保持恒定，二通阀确保经过至少一个臭氧化装置的水的流量始终保持相同，即保持恒定，而不考虑至少一个过滤装置的洁净程度。文丘里喷嘴和二通阀的并联连接在通过用于处理系统水的装置的系统水的流动路径中的至少一个臭氧化装置的上游。通过文丘里喷嘴和二通阀的组合产生人为的压差值，以便将系统水的期望水量调节恒定保持在期望值，例如8m³/h。不管至少一个过滤装置的污染程度如何，这都将其保持恒定。因此，在臭氧化装置中待处理的水量可以恒定地保持在可预定的目标值。这可以例如通过流量测量装置永久地进行检查。通过调整二通阀，可以调整过滤装置的污染程度，从而调整由此产生的压差值并调整通过至少一个过滤装置的流量。

还证明了设置至少一个自吸泵装置是有利的，该自吸泵装置用于朝至少一个过滤装置的方向抽吸系统水。这使得仅填充一次系统水成为可能，之后系统水将永久存在于过滤装置的区域中。这也使得例如操作用于对来自地下水池上的冷却塔设施的系统水进行水处理的至少一个过滤装置或设备成为可能。还有利地设置了到至少一个系统水储容器或冷却水储容器或冷却水储容箱的几乎无压力的回路。将来自至少一个过滤装置的倒冲洗的废水输送至例如高达5m的高度差，而无需另外的提升设施，这也是可能的。

进一步有利地，可以设置至少一个用于在至少两个系统水储容器之间切换的装置，从而可以借助用于水处理的设备对带有来自冷却塔设施的两个单元或来自两个或多个冷却塔设施的系统水或冷却水的两个储容器或储容箱进行处理，也就是清除污垢颗粒并消毒。借助于至少一个切换装置，可以将来自用于水处理的设备的或至相应的系统水储容器中的入流和回流进行切换。

此外，可以设置至少一个电导率测量装置，用于确定水的电导率，并且沿着通过该设备的系统水的流动方向被布置在至少一个臭氧化装置的下游。通过测量水的电导率，可以确定水的所谓增稠(eindicken)，从而确定水的盐度的增加。如果水的电导率的测量得知该电导率值偏离可预定的或预定的目标值，则可以在例如所设置的显示装置上显示例如故障信号或故障信息。

此外，可以设有温度测量装置以确定系统水温。如果由所确定系统水温得知其高于可预定的或预定的目标值，则可以在例如所设置的显示装置上显示例如故障消息和/或可以关闭至少一个自吸泵装置，当超过目标温度的实际温度超过该目标值的时间长于可预定的时间。这样，可以避免损坏用于水处理的设备的各个部件。

还可以沿流动方向在至少一个臭氧化装置的后面设置至少一个用于测量系统水的pH值的装置。例如，至少一个用于测量氧化还原电势的装置和至少一个用于测量pH值的装置可以沿流动方向设置在臭氧化装置的下游。

附图说明

图1是根据本发明的用于对冷却塔设施的系统水进行水处理的设备的结构原理图。

具体实施方式

在图1中，描绘了用于对冷却塔设施的系统水进行水处理的设备1的实施变型。其具有从两个系统水储容器2、3出来的两个进水口10、11。两个系统水储容器2、3可以容纳例如来自至少两个不同的冷却塔设施的系统水或冷却水或来自冷却塔设施的各个部分的系统水或冷却水。通过在此示出为三通阀的切换装置4可以在两个系统水储容器2、3之间进行切换，其中也可以设置另一种类型的切换装置4。因此，系统水可以选择性地从储容器2或储容器3供入设备1中。通过切换装置4可用于确保来自至与两个储水箱2、3连接的冷却塔设施的回路的系统水不会彼此混合。例如，经由定时开关来操作切换装置4，从而以依赖时间的或时间受控的方式交替地设置来自从系统水储容器2或系统水储容器3的系统水的进水口，这是可能的。

由关于流动方向的箭头P1表示来自系统储水器2经入水口10系统水的流入，由关于流动方向的箭头P2表示来自系统储水器3经入水口11系统水的流入。

沿流入方向(见箭头P1和P2)在切换装置4后面设置了一个由管道12连接的自吸泵5。泵的无润滑运转可以通过流量传感器或流量测量装置6进行监控。流量测量装置6沿流动方向布置在自吸泵5的后面，并且与后者通过管道13连接。流量测量装置6还用于确定是否期望的或足够的水体积流量到达过了滤装置7。过滤装置7经由管道14和管道15与流量测量装置6连接，并且用于对系统水进行预过滤以去除污垢颗粒。例如，将系统水预过滤至3至5μm的粒径。为此，过滤装置7例如可以构造为AFM过滤器并且例如使用颗粒材料进行过滤。

系统水流入过滤装置7，并且其回流通过两个经压缩气体运行的切换装置70、71进行。两者通过管道73、74连接到压缩气体管道72，其中，压缩气体的流动方向用箭头P3表示。压力可通过设置装置75设置。过滤装置7的操作位置可以通过两个经压缩气体运行的切换装置70、71从标称操作或正常操作切换到倒冲洗操作。使用反洗操作来清洁过滤装置并去除在每个过滤程序之后沉积在过滤装置7中的污垢颗粒。相应地，沿流动方向在经压缩气体运行的切换装置70的后面设置有倒冲洗管道76，该倒冲洗管道从设备1引出至废水的出水口77。从设备1出来的流动方向在那里由箭头P4指示。

在标称操作中，来自两个储水箱2、3之一的系统水经由管道12、13、14、15流入过滤装置7内，再通过管道16、17、18从其流出并到达调节装置80，该调节装置80用于调节至臭氧化装置8的系统水的供应量。调节装置包含文丘里喷嘴81和二通阀82(例如二通调节球阀)的并联连接。臭氧化装置8还具有气体供应装置83，用于将气体供应到臭氧化装置8内。管道19从臭氧化装置8引回两个储存容器2、3的方向。沿着管道19布置有电导率测量装置90，用于确定流经此处或流过管道19的系统水的电导率。此外，沿着管道19还设置有设备91和设备92，通过该设备91可以测量流过管道19的系统水的氧化还原电位，而设备92用于测量流过管道19的系统水的pH值。将支流管道20设置为与氧化还原电位测量装置91和pH值测量装置92平行地，其中，体积流量分为两个分支，即布置有两个测量设备91、92的两个测量点的分支，和支流管道20的分支。两个分支彼此岔开并再次汇合所在的支流点或支路点在经过管道19时，沿流动方向位于氧化还原电势测量装置91的前面，且沿流动方向位于pH值测量装置92后面。

通过在此为三通阀形式的另一个切换装置40，经清洁和消毒的系统水可以经由连接至两个系统水储容器2、3的回流口21和回流口22返回至两个系统水储容器2、3。在图1中，系统水朝着两个储水箱2、3的流动方向用两个箭头P5和P6表示。

装置1还包括两个取样点，即在管道14中的第一取样点95和管道19中的第二取样点96，第一取样点95沿流动方向在过滤装置7和臭氧化装置8前面作为系统水或设施水的参考，第二个取样点96沿流动方向在过滤装置7和臭氧化装置8后面作为参考，用于测试从设备1再次流出的系统水的无菌性，并确定该设备是否正常运行。

在过滤装置7中将污垢颗粒从系统水中去除，同时系统水沿流动方向在过滤装置7后面通过臭氧化装置8来消毒，从而使其无菌。经由两个压力监测装置93、94监测过滤装置的压差值，其中压力监测装置93直接布置在过滤装置7上，而压力监测装置94沿流动方向布置在过滤装置7后面的管道18中。当两个压力监测装置93、94之间出现的压差值超过预定的压差值时，自动触发通过倒冲洗进水口管道76的过滤装置7的倒冲洗。对此，两个经压缩气体运行的切换装置70、71通过管道73、74受压缩气体运行而进行转换，从而使系统水不会沿管道18的方向从过滤装置7中流出，并且也不会通过管道16和17从过滤装置7流出，而是经由倒冲洗管道76将来自过滤装置7的倒冲洗水或废水排出。如果两个压力监测装置93、94之间的压差值低，则意味着过滤装置7是干净的，即没有被灰尘颗粒堵塞，而两个压力监测装置93、94之间的高压差值意味着需要过滤装置7的倒冲洗以对其进行清洁。一方面，当确定压力监测装置93、94之间的压力差超过可预定的最大值时，便可以进行倒冲洗；另一方面，即使没有超过预定最大压力差值，也可以根据预定的时间间隔，设定或触发自动倒冲洗。此外，例如也可以设置手动触发过滤装置7的倒冲洗。也可以记录相应的倒冲洗过程的次数，以便例如得出关于过滤装置7的过滤材料和/或通常存在于设备上或存储在储备容器2、3中的系统水的污染程度的结论。

在过滤装置7的倒冲洗过程中，优选关闭自吸泵5，以便中断系统水朝过滤装置7的方向的输送。同样关闭臭氧化装置8或其UV-灯。在两个经压缩气体运行的切换装置70、71切换至倒冲洗管道76的方向之后，由此关闭了过滤装置7沿管道16或17方向的排出口，并因此防止系统水溢出到管道18中，可以在泵5打开后将用于倒冲洗过滤装置7的系统水再输送到过滤装置7。在再次操作两个经压缩气体运行的切换装置70、71时，为了在倒冲洗过程结束时将他们再次切换，并使过滤装置7回到标称操作，从而使朝管道16、17、18方向的出口重新打开，可以再次关闭泵5。在倒冲洗过程结束之后，可以再次打开泵5和臭氧化装置8。为了进行倒冲洗，可以通过过滤装置3输送例如相比正常操作或标称操作明显更大的水量。在标称操作中，水量可以是例如8m³/h，而在例如冲洗操作中可以是10m³/h。

为了对臭氧化装置8中的系统水进行臭氧化，通过文丘里喷嘴81将气体经由气体供应装置83被吸入到臭氧化装置8中，其中，分量可以通过气体供应装置83中的节气门装置84进行设置。为了使在文丘里喷嘴81处吸入的气体量保持恒定，在此呈二通调节球阀形式的二通阀82和文丘里喷嘴81并联连接。二通阀确保通过臭氧化装置8的流量保持恒定，而不论过滤装置7是否完全干净，即两个监测装置93、94之间存在低压差值，或者过滤装置7处于需要进行倒冲洗过程之前不久的低压状态，因此，很明显被弄脏了，也就是在两个压力监测装置93、94之间存在高压差值。如已经提到的，在臭氧化装置8中要消毒的期望水量可以被设置且通过流量测量装置6来监测。当设备1或设施启动时，二通阀82可以首先完全打开，然后接近可设置的或设置的值，该值根据期望的水量来设置。随着过滤装置7的污染程度的增加，通过过滤装置7的流量减小，并且有利地将二通阀82开起来，并因此进一步打开。在过滤装置7的倒冲洗过程之后，经过其的流量再次增加，从而可以再次关闭二通阀82。在倒冲洗过程中，二通阀82有利地保持在先前设置的点或位置，也就是说，既不打开也不关闭。

如已经提到的，在臭氧化装置8中设置有用于放射UV辐射的装置，例如一个或多个UV灯。供应到臭氧化装置8中的气体借助UV辐射被照射，从而使臭氧从气体中分离出来。该臭氧被计量地添加到流经臭氧化装置8的系统水中。通过添加到系统水中的臭氧量来设置系统水的氧化还原电位。当达到预定的氧化还原电位目标值时，水中的氧化物质和还原物质之间就会达到平衡。为了能够确定是否已经向水中添加了足够量的臭氧，并因此确定了由于水中的氧化性物质和还原性物质之间的平衡而引起的良好水质，将在臭氧化装置8中处理过的系统水经过管道19从臭氧化装置8沿着管线19朝氧化还原电势测量装置91的方向输送。在该还原电势测量装置91中可以测量系统水的氧化还原电位。如果由氧化还原电势的测量表明其包含的值太高或太低，即偏离了可预定的目标值，则可以在流过氧化还原装置8的系统水中增加或减少臭氧化装置8内臭氧的供应，以由此调节水的氧化还原电位，从而调节水质。因此，通过臭氧化装置8的优化设置将氧化还原电势保持在特定的或预定的范围内，例如在200和450mV之间的可设置值，特别是300mV的目标值。

臭氧化装置8中产生的任何过量的臭氧可以例如通过UV辐射再次被消除，该UV辐射的波长不同于用于分离臭氧所用的UV辐射。这也可以直接在臭氧化装置8内进行。这引起所谓的本质安全的臭氧化，因为该设备中不会残留过量的臭氧，而是会过量的臭氧又直接消除。

可以通过pH值测量装置92测量系统水的pH值。也可以省略pH值测量装置92和电导率测量装置90。此外，可以可选地设置至少一个温度测量装置97，以便能够在超过系统水的可预定的最高温度时尤其是关闭泵5，从而能够保护设备1以及尤其是臭氧化装置8的过滤装置7。温度测量装置97和电导率测量装置90也可以设计成例如测量感应器的形式。

除了上面描述的以及在附图中示出的用于对来自冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备的实施变型之外，还可以形成许多其他形式，特别是上述特征的任意组合，并且分别至少具有设置了一个用于对系统水进行预过滤的过滤装置、至少一个用于对系统水进行消毒的臭氧化装置以及至少一个用于调节流经至少一个臭氧化装置并在其中进行处理的系统水的水量恒定的调节装置。

符号列表

1 设备

2 系统水储容器

3 系统水储容器

4 切换装置/三通阀

5 自吸泵

6 流量测量装置

7 过滤装置

8 臭氧化装置

10 进水口

11 进水口

12 管道

13 管道

14 管道

15 管道

16 管道

17 管道

18 管道

19 管道

20 支流管道

21 回流口

22 回流口

40 切换装置/三通阀

70 经压缩气体运行的切换装置

71 经压缩气体运行的切换装置

72 压缩气体管道

73 管道

74 管道

75 设置装置

76 倒冲洗管道

77 废水的出水口

80 调节装置

81 文丘里喷嘴

82 二通阀/二通调节球阀

83 气体供应装置

84 节气门元件

90 电导率测量装置

91 氧化还原电位测量装置

92 pH 值测量装置

93 压力监测装置

94 压力监测装置

95 取样点

96 取样点

97 温度测量装置

P1 箭头

P2 箭头

P3 箭头

P4 箭头

P5 箭头

P6 箭头

Claims (11)

1.一种用于对冷却塔设施或蒸发冷却设施的系统水进行水处理的设备(1)，其特征在于，

设置有用于预过滤所述系统水的至少一个过滤装置(7)、用于对所述系统水进行消毒的至少一个臭氧化装置(8)和设置在所述至少一个臭氧化装置(8)的区域中的用于恒定水量调节的至少一个调节装置(80)。

2.根据权利要求1所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个气体供应装置(83)，用于将气体供应到至少一个臭氧化装置(8)中，其中，所述气体供应量可以通过设置装置，尤其是节气门元件(84)来设置。

3.根据权利要求1或2所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个倒冲洗装置(70、71、76)，用于对所述过滤装置(7)进行倒冲洗。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个自吸泵装置(5)，用于朝所述至少一个过滤装置(7)的方向抽吸所述系统水。

5.根据权利要求3或4所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个可经压缩气体运行或经压缩气体运行的切换装置(70、71)，用于将所述过滤装置(7)的操作设置从标称操作切换为倒冲洗操作。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个用于测量和/或调节水的氧化还原电势的装置(91)。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的设备(1)，其特征在于，

在所述至少一个过滤装置(7)的区域中设置有至少一个压力差监测装置(93、94)，用于监测所述至少一个过滤装置(7)的污染程度。

8.根据权利要求7所述的设备(1)，其特征在于，

所述至少一个压力差监测装置(93、94)与所述至少一个调节装置(80)联接，以在所述至少一个臭氧化装置(8)的区域内进行如下的所述恒定的水量调节，即所述臭氧化装置(8)根据确定的压力差调节水量。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个用于确定水的电导率的电导率测量装置(90)，且布置在所述至少一个臭氧化装置(8)下游。

10.根据权利要求1～9中任一项所述的设备(1)，其特征在于，

设置有至少一个用于在至少两个系统水储容器(2、3)之间进行切换的装置(4、40)。

11.根据权利要求1～10中任一项所述的设备(1)，其特征在于，

沿流动方向在所述至少一个臭氧化装置(8)的后面设置有至少一个用于测量系统水的pH值的装置(92)。

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