CN113647197A - 加热装置 - Google Patents

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CN113647197A
CN113647197A CN201980094880.4A CN201980094880A CN113647197A CN 113647197 A CN113647197 A CN 113647197A CN 201980094880 A CN201980094880 A CN 201980094880A CN 113647197 A CN113647197 A CN 113647197A
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Abstract

针对在加热室(11)的顶面(11b)侧的平面上以基准线(10)为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件(21a～21d)，绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。

Description

加热装置
技术领域
本发明涉及利用电磁波对加热对象物进行加热的加热装置。
背景技术
在利用电磁波对加热对象物进行加热的加热装置中，具有能够在短时间内对加热对象物进行加热这样的优点，但也具有在加热对象物中产生加热不均这样的缺点。例如，在加热装置中，加热室内是电封闭的空间，因此，由于电磁波的性质，产生照射到加热室内的微波(2.45GHz)的驻波，在加热对象物中产生加热不均。
作为要解决该问题的现有技术，例如具有专利文献1所记载的加热装置。在该加热装置中，检测在加热对象物中需要的加热量的强度分布，根据检测到的强度分布来控制微波的输出。由此，抑制了加热对象物的加热不均的产生。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2018-060598号公报
发明内容
发明要解决的问题
专利文献1所记载的加热装置虽然使加热室内的加热强度分布变化，但没有解决由在加热室内产生的微波的驻波引起的加热不均。因此，依然存在由加热室内的微波的驻波引起的加热不均这样的问题。
本发明用于解决上述问题，其目的在于，得到一种能够抑制加热对象物的加热不均的产生的加热装置。
用于解决问题的手段
本发明的加热装置具备：加热室，其收纳加热对象物；电力产生部，其产生微波电力；电力分配部，其将由电力产生部产生的微波电力分配为多个；以及多个微波辐射元件对，它们配置在与设定在加热室内的基准线正交的1个或多个平面上，多个微波辐射元件对中的各个微波辐射元件对由隔着基准线与平面的交点而对置的2个微波辐射元件构成，电力分配部绕以基准线为中心的顺时针或逆时针，对构成多个微波辐射元件对的多个微波辐射元件依次设定360°除以多个微波辐射元件的数量得到的角度的相位差而分配微波电力。
发明的效果
根据本发明，具备多个微波辐射元件对，该多个微波辐射元件对配置在与设定在加热室内的基准线正交的平面上，该多个微波辐射元件对中的各个微波辐射元件对由隔着基准线与平面的交点而对置的2个微波辐射元件构成，绕以基准线为中心的顺时针或逆时针，对构成这些对的多个微波辐射元件依次设定360°除以多个微波辐射元件的数量得到的角度的相位差而分配微波电力。例如，在具有2个微波辐射元件对的情况下，绕以基准线为中心的顺时针或逆时针，对构成这些对的4个微波辐射元件依次设定90°的相位差而分配微波电力。由此，得到加热室内的电场随时间进行回旋的电场模式。通过使电场模式进行回旋，针对加热对象物实现了宽范围的加热分布，因此，能够抑制加热对象物的加热不均的产生。
附图说明
图1是示出实施方式1的加热装置的概要结构的概要图。
图2是示出图1的加热装置的结构的立体图。
图3是示出图1的加热装置的结构的俯视图。
图4是示出图1的加热装置的结构的侧视图。
图5是示出实施方式1的加热装置的变形例1的结构的立体图。
图6是示出图5的加热装置的结构的侧视图。
图7是示出实施方式1的加热装置的变形例2的结构的立体图。
图8是示出图7的加热装置的结构的俯视图。
图9是示出图7的加热装置的结构的侧视图。
图10是示出实施方式1的加热装置的变形例3的结构的立体图。
图11是示出图10的加热装置的结构的侧视图。
图12是示出实施方式1的加热装置的变形例4的结构的立体图。
图13是示出图12的加热装置的结构的侧视图。
图14是示出图12的加热装置的结构的仰视图。
图15是示出实施方式1的加热装置的变形例5的结构的立体图。
图16是示出图15的加热装置的结构的俯视图。
图17是示出图15的加热装置的结构的侧视图。
图18是示出实施方式2的加热装置的结构的立体图。
图19是示出图18的加热装置的结构的俯视图。
图20是示出实施方式3的加热装置的结构的立体图。
图21是示出图20的加热装置的结构的俯视图。
图22是示出实施方式4的加热装置的结构的立体图。
图23是示出图22的加热装置的结构的俯视图。
图24是示出实施方式4的加热装置的变形例1的结构的立体图。
图25是示出实施方式4的加热装置的变形例2的结构的立体图。
图26是示出图25的加热装置的结构的侧视图。
图27是示出实施方式4的加热装置的变形例3的结构的立体图。
图28是示出图27的加热装置的结构的侧视图。
图29是示出实施方式1至实施方式4中的微波辐射元件的概要结构的概要图。
具体实施方式
实施方式1.
图1是示出实施方式1的加热装置1的概要结构的概要图，为了视觉确认位于加热室11的内部的微波辐射元件21a～21d及加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载。加热装置1具备加热室11、多个微波辐射元件21、电力产生装置41及电力分配电路42。在加热室11中收纳有加热对象物31。加热室11的例如设置有加热室门的壁面以外的壁面由金属的屏蔽板构成。此外，在加热室门设置有电磁波的屏蔽构造。由此，加热室11形成将微波封入内部的电封闭的空间。
电力产生装置41是产生微波电力的电力产生部。例如，电力产生装置41是通过被供给设定为微波(2.45GHz)的频率的电压信号并进行振荡而产生微波电力的振荡部。电力分配电路42是将由电力产生装置41产生的微波电力分配为多个的电力分配部，以不同的相位(供电相位)向多个微波辐射元件21分别分配微波电力。
在加热装置1中，多个微波辐射元件21成为2个为1组的对，在加热室11中设置有多个对。即，在对的数量N为2以上的自然数的情况下，加热装置1具备2N个微波辐射元件21。微波辐射元件21将由电力分配电路42分配的微波电力辐射(供电)到加热室11内。
图2是示出加热装置1的结构的立体图。图3是示出加热装置1的结构的俯视图。图4是示出加热装置1的结构的侧视图。在图2至图4中，为了视觉确认位于加热室11的内部的微波辐射元件21a～21d及加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，图2至图4所示的加热装置1在加热室11的内部具备4个微波辐射元件(N＝2)。
如图2所示，加热室11为具有底面11a、顶面11b及侧面11c的长方体形状，在一个侧面11c设置有加热室门11d。如上所述，设置有加热室门11d的侧面11c以外成为电磁波的屏蔽板，并且，加热室门11d具有电磁波的屏蔽构造，因此，通过侧面11c和加热室门11d将微波封入加热室11内。在加热室11中，除了底面11a和顶面11b之外，将加热室门11d所在的侧面11c称为前表面，将与该前表面对置的侧面11c称为背面，将位于前表面的左侧的侧面11c称为左侧面11c，将位于前表面的右侧的侧面11c称为右侧面11c。
在加热室11内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图2至图4所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
微波辐射元件21a～21d配置在加热室11的顶面11b侧。微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(顶面11b侧的平面)。连结线12a及连结线12b是通过基准线10与该平面正交的交点10a的线段。
另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a对置地配置。例如，如图2及图3所示，微波辐射元件21a～21d隔着交点10a配置在顶面11b的对角侧。
在加热装置1中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10a等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°除以微波辐射元件的总数即2N而得到的角度(360°/2N)的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000051
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000052
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000053
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000054
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA00032838596900000511
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000055
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000056
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000057
此外，通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000058
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定了相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000059
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000510
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000061
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
如以上那样，在实施方式1的加热装置1中，针对在长方体形状的加热室11的顶面11b侧的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以电力产生装置41所产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋适合于宽范围地对加热对象物31进行加热，抑制了加热对象物31的加热不均的产生。
图5是示出实施方式1的加热装置的变形例1的结构的立体图，示出作为变形例1的加热装置1A。此外，图6是示出加热装置1A的结构的侧视图。在图5及图6中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1A在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
与加热装置1同样，在加热室11内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图5及图6所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
微波辐射元件21a～21d配置在加热室11的底面11a侧。在加热装置1A中，与加热装置1同样，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(底面11a侧的平面)。连结线12a及连结线12b是通过基准线10与该平面正交的交点10a的线段。
另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a对置地配置。例如，如图5所示，微波辐射元件21a～21d隔着交点10a配置在底面11a的对角侧。
此外，在加热装置1A中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10a等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1A具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000071
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000072
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000073
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000074
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000075
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000076
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000077
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000078
此外，在加热装置1A中，也通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000079
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000710
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000711
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000712
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1A中，针对在加热室11的底面11a侧的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
图7是示出实施方式1的加热装置的变形例2的结构的立体图，示出作为变形例2的加热装置1B。此外，图8是示出加热装置1B的结构的俯视图，图9是示出加热装置1B的结构的侧视图。在图7至图9中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1B在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
在加热装置1B中，在加热室11内设定有基准线10A。基准线10A是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图7至图9所示的基准线10A是与底面11a水平的直线，例如，是背面侧的侧面11c的法线方向的直线。
如图7至图9所示，微波辐射元件21a～21d配置在加热室11的侧面11c侧(背面侧)。在加热装置1B中，与加热装置1同样，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10A正交的同一平面(背面侧的平面)。连结线12a及连结线12b是通过基准线10A与该平面正交的交点10Aa的线段。
另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10Aa对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10Aa对置地配置。例如，如图7及图9所示，微波辐射元件21a～21d隔着交点10Aa配置在侧面11c的对角侧。
在加热装置1B中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10Aa等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10A为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10A为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1B具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000091
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10A为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000092
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000093
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000094
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10A为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000095
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000096
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000097
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000098
此外，在加热装置1B中，也通过绕以基准线10A为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000099
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000910
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000911
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900000912
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1B中，针对在加热室11的侧面11c侧(背面侧)的平面上以基准线10A为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
图10是示出实施方式1的加热装置的变形例3的结构的立体图，示出作为变形例3的加热装置1C。此外，图11是示出加热装置1C的结构的侧视图。在图10及图11中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。加热装置1C在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
在加热装置1C中，在加热室11内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图10及图11所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
如图10及图11所示，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c配置在加热室11的顶面11b侧，微波辐射元件21b及微波辐射元件21d配置在底面11a侧。在加热装置1C中，与加热装置1同样，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对分别配置在与基准线10正交的互不相同的平面(底面11a侧的平面和顶面11b侧的平面)。连结线12a是通过基准线10与顶面11b侧的平面正交的交点10a-1的线段，连结线12b是通过基准线10与底面11a侧的平面正交的交点10a-2的线段。另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a-1对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a-2对置地配置。例如，如图10所示，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a-1配置在顶面11b的对角侧，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a-2配置在底面11a的对角侧。
此外，在加热装置1C中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c分别配置在距交点10a-1等距离的位置，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d分别配置在距交点10a-2等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1C具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000111
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000112
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000113
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000114
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000115
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000116
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000117
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000118
在加热装置1C中，也通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000119
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定了相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001110
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001111
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001112
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1C中，针对在加热室11的底面11a侧和顶面11b侧的2个平面上以基准线10为中心分别而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针，以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
另外，图10及图11示出了微波辐射元件对配置在加热室11内的底面11a侧的平面和顶面11b侧的平面的变形例3，但变形例3不限于该结构。例如，加热装置1C也可以构成为，微波辐射元件对配置在左侧面11c侧的平面和右侧面11c侧的平面。
图12是示出实施方式1的加热装置的变形例4的结构的立体图，示出作为变形例4的加热装置1D。此外，图13是示出加热装置1D的结构的侧视图，图14是示出加热装置1D的结构的俯视图。在图12至图14中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1D在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
在加热装置1D中，在加热室11内设定有基准线10A。基准线10A是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图12至图14所示的基准线10A是与底面11a水平的直线，例如，是位于背面侧的侧面11c的法线方向的直线。
如图12及图14所示，微波辐射元件21a～21d配置在加热室11内的设置有加热室门11d的侧面11c(前表面)与对置于该侧面11c(前表面)的侧面11c(背面)之间。在加热装置1D中，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10A正交的同一平面(前表面与背面之间的平面)。连结线12a及连结线12b是通过基准线10A与该平面正交的交点10Aa的线段。
另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c隔着交点10Ab对置地配置，在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b及微波辐射元件21d隔着交点10Ab对置地配置。例如，如图13所示，在第1微波辐射元件对中，隔着交点10Ab将微波辐射元件21a配置在顶面11b侧，将微波辐射元件21c配置在底面11a侧。在第2微波辐射元件对中，隔着交点10Ab，将微波辐射元件21b配置在左侧面11c，将微波辐射元件21d配置在右侧面11c。
此外，在加热装置1D中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10Ab等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对与第2微波辐射元件对成为以基准线10A为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10A为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1D具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000131
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10A为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000132
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000133
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000134
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10A为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000135
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000136
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000137
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000138
在加热装置1D中，也通过绕以基准线10A为中心的顺时针或逆时针，以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000139
且绕以基准线10A为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001310
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001312
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001311
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1D中，针对在加热室11的前表面与背面之间的平面上以基准线10A为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
图15是示出实施方式1的加热装置的变形例5的结构的立体图，示出作为变形例5的加热装置1E。此外，图16是示出加热装置1E的结构的俯视图，图17是示出加热装置1E的结构的侧视图。在图15至图17中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1E在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
在加热装置1E中，在加热室11内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图15至图17所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。在加热装置1E中，在加热室11的前表面未设置加热室门11d，而将加热室门11d设置于顶面11b。
如图15及图17所示，微波辐射元件21a～21d配置在加热室11的底面11a与顶面11b之间。在加热装置1E中，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(底面11a与顶面11b之间的平面)。该平面例如是通过底面11a至顶面11b的高度的中间位置的平面。
连结线12a及连结线12b是通过基准线10与该平面正交的交点10b的线段。另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c隔着交点10b对置地配置，在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b及微波辐射元件21d隔着交点10b对置地配置。例如，如图16所示，在第1微波辐射元件对中，隔着交点10b将微波辐射元件21a配置在背面的侧面11c，将微波辐射元件21c配置在前表面的侧面11c。此外，在第2微波辐射元件对中，隔着交点10b将微波辐射元件21b配置在左侧面11c，将微波辐射元件21d配置在右侧面11c。
此外，在加热装置1E中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10b等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对与第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的位置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1E具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000151
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000152
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000153
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000154
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000155
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000156
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000157
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000158
在加热装置1E中，也通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000159
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001510
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001511
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900001512
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1E中，针对在加热室11的底面11a与顶面11b之间的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针，以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
实施方式2.
图18是示出实施方式2的加热装置1F的结构的立体图。此外，图19是示出加热装置1F的结构的俯视图。在图18及图19中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21f和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。加热装置1F在加热室11内具备6个微波辐射元件(N＝3)。
加热室11为具有底面11a、顶面11b及侧面11c的长方体形状，在一个侧面11c设置有加热室门11d。设置有加热室门11d的侧面以外成为电磁波的屏蔽板，在加热室门11d设置有电磁波的屏蔽构造，因此，微波被封入加热室11的内部。在加热室11中，除了底面11a和顶面11b之外，将加热室门11d所在的侧面11c称为前表面，将与该前表面对置的侧面11c称为背面，将位于前表面的左侧的侧面11c称为左侧面11c，将位于前表面的右侧的侧面11c称为右侧面11c。
在加热室11内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图18及图19所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
微波辐射元件21a～21f配置在加热室11的顶面11b侧。微波辐射元件21a及微波辐射元件21d构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21e构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。此外，微波辐射元件21c及微波辐射元件21f构成第3微波辐射元件对，相互通过连结线12c对应起来。
第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对及第3微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(顶面11b侧的平面)。连结线12a、连结线12b及连结线12c是通过基准线10与该平面正交的交点10c的线段。另外，连结线12a、连结线12b及连结线12c是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21d隔着交点10c对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21e隔着交点10c对置地配置。在第3微波辐射元件对中，微波辐射元件21c与微波辐射元件21f隔着交点10c对置地配置。
在加热装置1F中，微波辐射元件21a～21f分别配置在距交点10c等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对及第3微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21f分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝3，即加热装置1F具有第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对及第3微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以60°的相位差向微波辐射元件21a～21f分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000171
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差60°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000172
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000173
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000174
向微波辐射元件21e分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000175
向微波辐射元件21f分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000176
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差60°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000177
的情况下，向微波辐射元件21f分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000178
向微波辐射元件21e分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000179
向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900001710
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900001711
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900001712
此外，通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21f分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000181
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差60°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000182
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000183
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000184
向微波辐射元件21e分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000185
向微波辐射元件21f分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000186
此时，第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对及第3微波辐射元件对各自中的微波辐射元件间的相位差为180°。
如以上那样，在实施方式2的加热装置1F中，针对在加热室11的顶面11b侧的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21f，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
另外，在实施方式2中，使用图18及图19，示出了将微波辐射元件21a～21f配置于加热室11的顶面11b侧的结构，但不限于此。例如，在实施方式2的加热装置中，也包括将实施方式1所示的变形例1～5的加热装置分别具备的微波辐射元件21a～21d置换成微波辐射元件21a～21f的结构。
实施方式3.
图20是示出实施方式3的加热装置1G的结构的立体图。此外，图21是示出加热装置1G的结构的俯视图。在图20及图21中，为了视觉确认位于加热室11内的微波辐射元件21a～21h和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1G在加热室11内具备8个微波辐射元件(N＝4)。
如图20所示，加热室11为具有底面11a、顶面11b及侧面11c的长方体形状，在一个侧面11c设置有加热室门11d。设置有加热室门11d的侧面以外成为电磁波的屏蔽板，在加热室门11d设置有电磁波的屏蔽构造，因此，微波被封入加热室11内。在加热室11中，除了底面11a和顶面11b之外，将加热室门11d所在的侧面11c称为前表面，将与该前表面对置的侧面11c称为背面，将位于前表面的左侧的侧面11c称为左侧面11c，将位于前表面的右侧的侧面11c称为右侧面11c。
在加热室11内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11内的各种位置，能够以各种线形状设定。图20及图21所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
微波辐射元件21a～21h配置在加热室11的顶面11b侧。微波辐射元件21a及微波辐射元件21e构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21f构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线b对应起来。微波辐射元件21c及微波辐射元件21g构成第3微波辐射元件对，相互通过连结线c对应起来。微波辐射元件21d及微波辐射元件21h构成第4微波辐射元件对，相互通过连结线d对应起来。
第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对、第3微波辐射元件对及第4微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(顶面11b侧的平面)。连结线12a、连结线12b、连结线12c及连结线12d是通过基准线10与该平面正交的交点10c的线段。另外，连结线12a、连结线12b、连结线12c及连结线12d是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21e隔着交点10c对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21f隔着交点10c对置地配置。在第3微波辐射元件对中，微波辐射元件21c与微波辐射元件21g隔着交点10c对置地配置。在第4微波辐射元件对中，微波辐射元件21d与微波辐射元件21h隔着交点10c对置地配置。
在加热装置1G中，微波辐射元件21a～21h分别配置在距交点10c等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对、第3微波辐射元件对及第4微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21h分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝4，即加热装置1F具有第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对、第3微波辐射元件对及第4微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以45°的相位差向微波辐射元件21a～21f分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000201
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差45°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000202
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000203
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000204
向微波辐射元件21e分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000205
向微波辐射元件21f分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000206
向微波辐射元件21g分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000207
向微波辐射元件21h分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000208
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差45°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000209
的情况下，向微波辐射元件21h分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002010
向微波辐射元件21g分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002011
向微波辐射元件21f分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002012
向微波辐射元件21e分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002013
向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002014
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002015
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA00032838596900002016
此外，通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21h分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA00032838596900002017
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差45°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002018
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002019
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002020
向微波辐射元件21e分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002021
向微波辐射元件21f分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002022
向微波辐射元件21g分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002023
向微波辐射元件21h分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002024
此时，第1微波辐射元件对、第2微波辐射元件对、第3微波辐射元件对及第4微波辐射元件对各自中的微波辐射元件间的相位差为180°。
如以上那样，在实施方式3的加热装置1G中，针对在加热室11的顶面11b侧的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21h，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
另外，在实施方式3中，使用图20及图21，示出将微波辐射元件21a～21h配置于加热室11的顶面11b侧的结构，但不限于此。例如，在实施方式3的加热装置中，也包括将实施方式1所示的变形例1～5的加热装置分别具备的微波辐射元件21a～21d置换成微波辐射元件21a～21h的结构。
实施方式4.
图22是示出实施方式4的加热装置1H的结构的立体图。此外，图23是示出加热装置1H的结构的俯视图。在图22和图23中，为了视觉确认位于加热室11A内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11A的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1H在加热室11A内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
如图22所示，加热室11A为具有底面11a、顶面11b及侧面11c的圆筒形状，在侧面11c的一部分设置有加热室门11d。设置有加热室门11d的部分以外由金属材料构成，在加热室门11d设置有电磁波的屏蔽构造，因此，微波被封入加热室11A内。
在加热室11A内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11A内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11A内的各种位置，能够以各种线形状设定。图22所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
微波辐射元件21a～21d配置在加热室11A的顶面11b侧。微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(顶面11b侧的平面)。连结线12a及连结线12b是通过基准线10与该平面正交的交点10a的线段。
另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟设定的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a对置地配置。
在加热装置1H中，微波辐射元件21a～21d分别配置在相互距交点10a等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1H具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42向微波辐射元件21a～21d以90°的相位差分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000221
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000222
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000223
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000224
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000225
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000226
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000227
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000228
此外，通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000229
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定了相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000231
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000232
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000233
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
如以上那样，在实施方式4的加热装置1H中，针对在圆筒形状的加热室11A的顶面11b侧的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11A内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11A内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
图24是示出实施方式4的加热装置的变形例1的结构的立体图，示出作为变形例1的加热装置1I。在图24中，为了视觉确认位于加热室11A内的微波辐射元件21a～21d和加热对象物31，透过加热室11的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1I在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
与加热装置1同样，在加热室11A内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11A内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11A内的各种位置，能够以各种线形状设定。图24所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
微波辐射元件21a～21d配置在加热室11A的底面11a侧。在加热装置1A中，与加热装置1同样，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(底面11a侧的平面)。连结线12a及连结线12b是通过基准线10与该平面正交的交点10a的线段。
另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a对置地配置。
此外，在加热装置1I中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10a等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1I具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000241
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000242
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000243
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000244
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000245
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000246
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000247
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000248
此外，在加热装置1I中，也通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000249
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002410
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002411
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002412
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1I中，针对在加热室11A的底面11a侧的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11A内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11A内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，因此抑制了加热不均的产生。
图25是示出实施方式4的加热装置的变形例2的结构的立体图，示出作为变形例2的加热装置1J。此外，图26是示出加热装置1J的结构的侧视图。在图25及图26中，为了视觉确认位于加热室11A内的微波辐射元件21a～21d及加热对象物31，透过加热室11A的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1J在加热室11内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
与加热装置1H及加热装置1I同样，在加热室11A内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11A内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11A内的各种位置，能够以各种线形状设定。图25及图26所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
如图25及图26所示，微波辐射元件21a～21d配置在加热室11A的底面11a与顶面11b之间。在加热装置1J中，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对配置在与基准线10正交的同一平面(底面11a与顶面11b之间的平面)。该平面例如是通过底面11a至顶面11b的高度的中间位置的平面。
连结线12a及连结线12b是通过基准线10与该平面正交的交点10b的线段。另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c隔着交点10b对置地配置，在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b及微波辐射元件21d隔着交点10b对置地配置。
此外，在加热装置1J中，微波辐射元件21a～21d分别配置在距交点10b等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对与第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的位置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1J具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000261
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000262
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000263
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000264
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000265
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000266
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000267
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000268
在加热装置1J中，也通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000269
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002610
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002611
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002612
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1J，针对在加热室11A的底面11a与顶面11b之间的平面上以基准线10为中心而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
图27是示出实施方式4的加热装置的变形例3的结构的立体图，示出作为变形例3的加热装置1K。此外，图28是示出加热装置1K的结构的侧视图。在图27及图28中，为了视觉确认位于加热室11A内的微波辐射元件21a～21d及加热对象物31，透过加热室11A的壁面进行记载，并且省略了电力产生装置41及电力分配电路42的记载。此外，加热装置1K在加热室11A内具备4个微波辐射元件(N＝2)。
在加热装置1K中，在加热室11A内设定有基准线10。基准线10是成为决定配置在加热室11A内的微波辐射元件对的位置的基准的虚拟线，能够设定在加热室11A内的各种位置，能够以各种线形状设定。图27及图28所示的基准线10是通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线。
如图27及图28所示，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c配置在加热室11A的顶面11b侧，微波辐射元件21b及微波辐射元件21d配置在底面11a侧。在加热装置1K中，与加热装置1同样，微波辐射元件21a及微波辐射元件21c构成第1微波辐射元件对，相互通过连结线12a对应起来。微波辐射元件21b及微波辐射元件21d构成第2微波辐射元件对，相互通过连结线12b对应起来。
第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对分别配置在与基准线10正交的互不相同的平面(底面11a侧的平面和顶面11b侧的平面)。连结线12a是通过基准线10与顶面11b侧的平面正交的交点10a-1的线段，连结线12b是通过基准线10与底面11a侧的平面正交的交点10a-2的线段。另外，连结线12a及连结线12b是为了确定记载在附图中的各个微波辐射元件对而虚拟记载的线，并不是实际存在的线。
在第1微波辐射元件对中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c隔着交点10a-1对置地配置。在第2微波辐射元件对中，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d隔着交点10a-2对置地配置。
此外，在加热装置1K中，微波辐射元件21a与微波辐射元件21c分别配置在距交点10a-1等距离的位置，微波辐射元件21b与微波辐射元件21d分别配置在距交点10a-2等距离的位置。在该情况下，第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对成为以基准线10为中心的旋转对称的配置。
电力分配电路42绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针，向微波辐射元件21a～21d分配由电力产生装置41产生的微波电力。此时，电力分配电路42以360°/2N的相位差分配微波电力。由于N＝2，即加热装置1C具有第1微波辐射元件对及第2微波辐射元件对，因此，电力分配电路42以90°的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000281
的情况下，电力分配电路42绕以基准线10为中心的逆时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。此时，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000282
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000283
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA0003283859690000284
同样，电力分配电路42也可以绕以基准线10为中心的顺时针，对微波电力的供电相位依次设定相位差90°而分配微波电力。例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000285
的情况下，向微波辐射元件21d分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000286
向微波辐射元件21c分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000287
向微波辐射元件21b分配的供电相位被设定为
Figure BDA0003283859690000288
在加热装置1K中，也通过绕以基准线10为中心的顺时针或逆时针以360°/2N的相位差向微波辐射元件21a～21d分配微波电力，从而以彼此180°的相位差向构成各个微波辐射元件对的2个微波辐射元件分配微波电力。
例如，在向微波辐射元件21a分配的微波电力的供电相位为
Figure BDA0003283859690000289
且绕以基准线10为中心的逆时针而对微波电力的供电相位依次设定了相位差90°的情况下，向微波辐射元件21b分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002810
向微波辐射元件21c分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002811
向微波辐射元件21d分配的供电相位为
Figure BDA00032838596900002812
此时，第1微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°，第2微波辐射元件对中的微波辐射元件间的相位差为180°。
在加热装置1K中，针对在加热室11A的底面11a侧与顶面11b侧的2个平面上以基准线10为中心分别而旋转对称地配置的微波辐射元件21a～21d，电力分配电路42绕顺时针或绕逆时针以360°/2N的相位差推进供电相位而分配微波电力。由此，加热室11A内的合成电场以由电力产生装置41产生的微波的频率进行回旋。加热室11A内的微波的回旋是适合于宽范围地对加热对象物31进行加热的电场模式，抑制了加热不均的产生。
在实施方式4中示出了作为通过底面11a中的加热对象物31的配置空间的中心的铅垂线的基准线10，但实施方式4的加热装置能够将连结圆筒形状的加热室11A的侧面彼此的直线作为基准线。该基准线例如是与底面11a或顶面11b的直径相当的线段、或者与底面11a或顶面11b的直径平行的线段。
另外，目前为止示出了将微波辐射元件21a～21d配置于加热室11A的结构，但不限于此。例如，在实施方式4的加热装置中，也包括将微波辐射元件21a～21d置换成实施方式2所示的微波辐射元件21a～21f的结构，也包括将微波辐射元件21a～21d置换成实施方式3所示的微波辐射元件21a～21h的结构。此外，在实施方式4的加热装置的变形例3具备3个以上的微波辐射元件对的情况下，在基准线10所正交的3个以上的平面分别配置微波辐射元件对。
这里，针对实施方式1至实施方式4所示的微波辐射元件21的详细结构进行说明。
图29是示出实施方式1至实施方式4中的微波辐射元件21的概要结构的概要图。如图29所示，微波辐射元件21具备微波辐射元件图案22、供电引脚23及短路引脚24。通过供电引脚23向微波辐射元件图案22供给由电力分配电路42分配的微波电力。由于由加热室11或加热室11A形成电封闭的空间，因此，微波辐射元件图案22及供电引脚23未与加热室11或加热室11A接触。
另一方面，在微波辐射元件图案22连接有短路引脚24。在短路引脚24连接有加热室11或加热室11A作为地线，因此，结果是，微波辐射元件21成为与加热室11或加热室11A短路的元件。这样，通过使微波辐射元件21与加热室11或加热室11A短路，从而能够使由接受高电力的微波辐射元件产生的热发散到作为壳体的加热室11或加热室11A。
目前为止的说明示出了微波辐射元件的数量为2N(N为2以上的自然数)的情况，但即便是除此以外的元件数量，也能够应用于实施方式1至实施方式4所示的结构。
另外，本发明不限于上述实施方式，在本发明的范围内，能够进行各个实施方式的自由组合或者各个实施方式的任意的结构要素的变形、或者在各个实施方式中能够省略任意的结构要素。
产业利用性
本发明的加热装置能够抑制加热对象物的加热不均的产生，因此，能够利用于辐射微波进行加热的各种加热装置。
标号说明
1、1A～1K加热装置，10、10A基准线，10Aa、10Ab、10a、10a-1、10a-2、10b、10c交点，11、11A加热室，11a底面，11b顶面，11c侧面，11d加热室门，12a～12d连结线，21、21a～21h微波辐射元件，22微波辐射元件图案，23供电引脚，24短路引脚，31加热对象物，41电力产生装置，42电力分配电路。

Claims (8)

1.一种加热装置，其特征在于，
所述加热装置具备：
加热室，其收纳加热对象物；
电力产生部，其产生微波电力；
电力分配部，其将由所述电力产生部产生的微波电力分配为多个；以及
多个微波辐射元件对，它们配置在与设定在所述加热室内的基准线正交的1个或多个平面上，所述多个微波辐射元件对中的各个微波辐射元件对由隔着所述基准线与所述平面的交点而对置的2个微波辐射元件构成，
所述电力分配部绕以所述基准线为中心的顺时针或逆时针，对构成多个所述微波辐射元件对的多个所述微波辐射元件依次设定360°除以多个所述微波辐射元件的数量得到的角度的相位差而分配微波电力。
2.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
分别构成多个所述微波辐射元件对的2个所述微波辐射元件配置在距所述交点等距离的位置。
3.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
多个所述微波辐射元件对配置在同一所述平面上。
4.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
多个所述微波辐射元件对以所述基准线为中心而旋转对称地配置。
5.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
所述电力分配部以180°的相位差，向分别构成多个所述微波辐射元件对的2个所述微波辐射元件分配微波电力。
6.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
所述加热室为中空的长方体形状。
7.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
所述加热室为圆筒形状。
8.根据权利要求1所述的加热装置，其特征在于，
所述微波辐射元件与所述加热室短路。
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