CN113480060A - 一种电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备 - Google Patents

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

本发明提供一种电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备。所述电子束辐照难降解工业废水处理方法包括以下步骤：S1：将工业废水进行澄清分离；S2：然后通入流量布水渠进行电子束辐照；S3：进行澄清处理；S4：将处理后的废水进行排放或回用。本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备具有能够快速方便的对工业废水中的微生物、细菌、病毒等污染物进行有效处理的优点。

Description

一种电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备
技术领域
本发明涉及污水处理技术领域，尤其涉及一种电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备。
背景技术
污水处理是为使污水达到排入某一水体或再次使用的水质要求对其进行净化的过程。污水处理被广泛应用于建筑、农业、交通、能源、石化、环保、城市景观、医疗、餐饮等各个领域，也越来越多地走进寻常百姓的日常生活。
传统的污水处理很难对工业废水中的微生物、细菌、病毒等一些污染物进行有效处理。
因此，有必要提供一种新的电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备解决上述技术问题。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种能够快速方便的对工业废水中的微生物、细菌、病毒等污染物进行有效处理的电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备。
为解决上述技术问题，本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理方法包括以下步骤：S1：将工业废水进行澄清分离；S2：然后通入流量布水渠进行电子束辐照；S3：进行澄清处理；S4：将处理后的废水进行排放或回用。
本发明还提供一种电子束辐照难降解工业废水处理设备，所述澄清分离池、流量分布渠、电子束辐照装置和澄清处理池。
优选的，所述电子束照射装置包括进水管，所述进水管上设有电子束发射装置，所述进水管经电子束发射装置后连接有收集槽，所述收集槽远离所述进水管的一侧连接有加药混凝槽，所述加药混凝槽上连接有出水管，所述手机槽的底部设有箱体，所述出水管的底端延伸至所述箱体内，所述箱体内设有隔板，所述隔板远离出水管的一侧设有多个三角形滑坡，每两个相邻的所述三角形滑坡之间均设有排渣管。
优选的，所述隔板远离所述出水管的一侧设有开设在所述箱体内壁上的排水孔，所述排水孔内安装有排水管。
优选的，多个所述三角形滑坡均与所述箱体的底部内壁固定连接，且多个所述三角形滑坡呈线性分布。
优选的，所述隔板上设有连通孔。
优选的，所述加药混凝槽上设有加药孔。
与相关技术相比较，本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备具有如下有益效果：
本发明提供一种电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备，通过在采用电子束辐照装置对污水进行处理，能够利用电子束辐照的具有较强的穿透能力的特性，能够有效破坏生物、细菌、病毒等污染物的细胞和病毒找那个的核酸和蛋白质以及其他成分造成损伤，从而能够有效的提高对工业污水中的微生物、细菌、病毒等污染物的处理效果，从而可有效避免微生物、细菌、病毒等污染物对环境的污染。
附图说明
图1为本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理方法的流程图；
图2为本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理设备中的电子束辐照装置的结构示意图。
图中标号：1、进水管，2、电子束发射装置，3、收集槽，4、加药混凝槽，5、出水管，6、箱体，7、隔板，8、排水管，9、三角形滑坡，10、排渣管，11、加药孔。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
请结合参阅图1和图2，其中，图1为本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理方法的流程图；图2为本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理设备中的电子束辐照装置的结构示意图。电子束辐照难降解工业废水处理方法包括以下步骤：S1：将工业废水进行澄清分离；S2：然后通入流量布水渠进行电子束辐照；S3：进行澄清处理；S4：将处理后的废水进行排放或回用。
本发明还提供一种电子束辐照难降解工业废水处理设备，所述澄清分离池、流量分布渠、电子束辐照装置和澄清处理池。
所述电子束照射装置包括进水管1，所述进水管1上设有电子束发射装置2，所述进水管1经电子束发射装置2后连接有收集槽3，所述收集槽3远离所述进水管1的一侧连接有加药混凝槽4，所述加药混凝槽4上连接有出水管5，所述手机槽3的底部设有箱体6，所述出水管5的底端延伸至所述箱体6内，所述箱体6内设有隔板7，所述隔板7远离出水管5的一侧设有多个三角形滑坡9，每两个相邻的所述三角形滑坡9之间均设有排渣管10。
所述隔板7远离所述出水管5的一侧设有开设在所述箱体6内壁上的排水孔，所述排水孔内安装有排水管8。
多个所述三角形滑坡9均与所述箱体6的底部内壁固定连接，且多个所述三角形滑坡9呈线性分布。
所述隔板7上设有连通孔。
所述加药混凝槽4上设有加药孔11。
电子束照射装置通过电子束发射装置2后通过加药混凝后通过箱体1底部内壁设置的三角形滑坡9将澄清后的水从上面排出，并通过排渣管10将沉淀后的泥渣排出。
与相关技术相比较，本发明提供的电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备具有如下有益效果：
本发明提供一种电子束辐照难降解工业废水处理方法及设备，通过在采用电子束辐照装置对污水进行处理，能够利用电子束辐照的具有较强的穿透能力的特性，能够有效破坏生物、细菌、病毒等污染物的细胞和病毒找那个的核酸和蛋白质以及其他成分造成损伤，从而能够有效的提高对工业污水中的微生物、细菌、病毒等污染物的处理效果，从而可有效避免微生物、细菌、病毒等污染物对环境的污染。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种电子束辐照难降解工业废水处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：将工业废水进行澄清分离；
S2：然后通入流量布水渠进行电子束辐照；
S3：进行澄清处理；
S4：将处理后的废水进行排放或回用。
2.一种电子束辐照难降解工业废水处理设备，其特征在于，所述澄清分离池、流量分布渠、电子束辐照装置和澄清处理池。
3.根据权利要求2所述的电子束辐照难降解工业废水处理设备，其特征在于，所述电子束照射装置包括进水管，所述进水管上设有电子束发射装置，所述进水管经电子束发射装置后连接有收集槽，所述收集槽远离所述进水管的一侧连接有加药混凝槽，所述加药混凝槽上连接有出水管，所述手机槽的底部设有箱体，所述出水管的底端延伸至所述箱体内，所述箱体内设有隔板，所述隔板远离出水管的一侧设有多个三角形滑坡，每两个相邻的所述三角形滑坡之间均设有排渣管。
4.根据权利要求3所述的电子束辐照难降解工业废水处理设备，其特征在于，所述隔板远离所述出水管的一侧设有开设在所述箱体内壁上的排水孔，所述排水孔内安装有排水管。
5.根据权利要求3所述的电子束辐照难降解工业废水处理设备，其特征在于，多个所述三角形滑坡均与所述箱体的底部内壁固定连接，且多个所述三角形滑坡呈线性分布。
6.根据权利要求3所述的电子束辐照难降解工业废水处理设备，其特征在于，所述隔板上设有连通孔。
7.根据权利要求3所述的电子束辐照难降解工业废水处理设备，其特征在于，所述加药混凝槽上设有加药孔。
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