CN113437119A - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种显示面板及其制作方法、显示装置。显示面板包括像素定义层,像素定义层包括第一挡墙与第二挡墙;第一挡墙限定出多个子像素开口,第二挡墙设置于第一挡墙上并限定出多个像素打印区,且每一像素打印区内设有至少一子像素开口;其中,第二挡墙包括设置于第一挡墙上的第一子挡墙以及第二子挡墙,且第一子挡墙的高度小于第二子挡墙的高度。本发明提高了像素打印区内的容纳量,降低了相邻像素打印区之间出现混色现象的概率,改善了由于第二挡墙的图形缺失导致墨滴溢至相邻像素打印区的缺陷,提高了显示面板的良品率和可靠性。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)的成膜方式主要有蒸镀制程和溶液制程。蒸镀制程在小尺寸应用较为成熟,目前该技术已经应用于量产中。而溶液制程OLED成膜方式主要有喷墨打印、喷嘴涂覆、旋涂、丝网印刷等,其中打印技术由于其材料利用率较高、可以实现大尺寸化,被认为是大尺寸OLED实现量产的重要方式。
喷墨打印工艺需要预先在基板上制作像素界定层(Bank),以限定墨滴准确的流入指定的子像素区,从而保证墨滴不会溢出像素外造成像素间的混色。
但是,目前在制作Bank时,通常由于制程的波动导致Bank结构出现缺失而失去了阻挡作用,使得相邻的子像素区内的墨滴发生混合,进而容易发生混色和膜厚不均的现象,导致产品良品率下降。
发明内容
本发明实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置,能够降低在制程中,墨滴溢至相邻开口区的概率,防止了相邻开口区出现混色的现象,提高了显示面板的良品率。
本发明实施例提供一种显示面板,所述显示面板包括像素定义层,所述像素定义层包括多个子像素开口、限定多个所述子像素开口的第一挡墙以及设置于所述第一挡墙上的第二挡墙;
所述第二挡墙限定出多个像素打印区,且每一所述像素打印区内设有至少一所述子像素开口;
其中,所述第二挡墙包括设置于所述第一挡墙上的第一子挡墙以及第二子挡墙,且所述第一子挡墙的高度小于所述第二子挡墙的高度。
在本发明的一种实施例中,所述第一子挡墙与所述第二子挡墙一体成型设置。
在本发明的一种实施例中,多个所述像素打印区沿第一方向排布,各所述像素打印区内设有沿第二方向排布的多个所述子像素开口,且所述第一方向与所述第二方向相垂直,其中,所述第一挡墙围绕多个所述子像素开口设置,所述第二挡墙至少位于相邻的两个所述像素打印区之间。
在本发明的一种实施例中,所述第二挡墙围绕所述像素打印区设置。
在本发明的一种实施例中,多个所述像素打印区沿第三方向以及第四方向呈阵列排布,各所述像素打印区内设有一所述子像素开口,且所述第三方向与所述第四方向相垂直,其中,所述第一挡墙与所述第二挡墙皆围绕多个所述像素打印区设置。
在本发明的一种实施例中,所述第二挡墙还包括设置于所述第一挡墙上的第三子挡墙,且所述第三子挡墙的高度小于所述第二子挡墙的高度,所述第二子挡墙位于所述第一子挡墙与所述第三子挡墙之间。
在本发明的一种实施例中,所述第一子挡墙、所述第二子挡墙以及所述第三子挡墙一体成型设置。
在本发明的一种实施例中,所述显示面板还包括设置于所述像素定义层上的有机发光层,所述有机发光层至少位于多个所述像素打印区内,其中,所述有机发光层的厚度大于所述第一挡墙的高度,且小于所述第二子挡墙与所述第一挡墙的高度之和。
根据本发明的上述目的,提供一种显示面板的制作方法,其包括以下步骤:
形成第一挡墙,且所述第一挡墙限定出多个子像素开口;以及
在所述第一挡墙上形成第一子挡墙与第二子挡墙,以形成第二挡墙,且所述第二挡墙限定出多个像素打印区,每一所述像素打印区内设有至少一所述子像素开口,其中,所述第一子挡墙的高度小于所述第二子挡墙的高度。
根据本发明的上述目的,提供一种显示装置,所述显示装置包括所述显示面板,或由所述显示面板的制作方法制得的显示面板。
本发明的有益效果:本发明通过设置高度不同的第一子挡墙以及第二子挡墙于第一挡墙上,进而提高了像素打印区内的容纳量,降低了相邻像素打印区之间出现混色现象的概率,且第一挡墙上还设置有第一子挡墙与第二子挡墙的双层结构,进而可以改善由于第二挡墙的图形缺失导致墨滴溢至相邻像素打印区的缺陷,提高了显示面板的良品率和可靠性。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
图1为本发明实施例提供的显示面板的一种结构示意图;
图2为本发明实施例提供的显示面板的一种平面结构示意图;
图3为本发明实施例提供的显示面板的另一种平面结构示意图;
图4为本发明实施例提供的显示面板的另一种结构示意图;
图5为本发明实施例提供的显示面板的制作方法流程图;
图6至图8为本发明实施例提供的显示面板的制程结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本发明。此外,本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母,这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外,本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本发明实施例提供一种显示面板,请参照图1以及图2,显示面板包括像素定义层10,像素定义层10包括多个子像素开口101以及限定多个子像素开口101的第一挡墙11。
像素定义层10还包括设置于第一挡墙11上的第二挡墙12,且第二挡墙12限定出多个像素打印区102,其中,每一像素打印区102内设有至少一子像素开口101。
第二挡墙12包括设置于第一挡墙11上的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,且第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度。
在实施应用过程中,本发明实施例通过在第一挡墙11上设置高度不同的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,进而可以提高像素打印区102内的容纳量,降低了相邻像素打印区102之间出现混色现象的概率,且第一挡墙11上设置有第一子挡墙121与第二子挡墙122的双层结构,进而可以改善由于第二挡墙12的图形缺失导致墨滴溢至相邻像素打印区102的缺陷,提高了显示面板的良品率和可靠性。
具体地,请继续参照图1以及图2,显示面板包括基板20、设置于基板20上的薄膜晶体管阵列层、设置于薄膜晶体管阵列层上的平坦层40、设置于平坦层40上的阳极50以及设置于平坦层40上的像素定义层10。
薄膜晶体管阵列层包括设置于基板20上的第一绝缘层31、设置于第一绝缘层31上的第二绝缘层32以及设置于第二绝缘层32上的第三绝缘层33。可选的,第一绝缘层31、第二绝缘层32以及第三绝缘层33的材料皆可选自氮化硅材料、氧化硅材料或氮化硅与氧化硅的复合材料。
薄膜晶体管阵列层还包括包覆于第一绝缘层31、第二绝缘层32以及第三绝缘层33内的遮光层34以及薄膜晶体管器件35,其中,遮光层34设置于基板20上并被第一绝缘层31覆盖,薄膜晶体管器件35包括设置于第一绝缘层31上并被第二绝缘层32覆盖的有源层、设置于有源层上的栅绝缘层、设置于栅绝缘层上的栅极、设置于第二绝缘层32上并通过穿过第二绝缘层32的过孔与有源层两侧搭接的源极和漏极,第三绝缘层33覆盖源极与漏极。且薄膜晶体管阵列层还包括连接部36以及穿过第二绝缘层32与第一绝缘层31的接触孔,其中,连接部36的一端与源极连接,另一端穿过接触孔与遮光层34连接。
需要说明的是,有源层在基板20上的正投影位于遮光层34在基板20上的正投影之内,以防止光线由遮光层34一侧照射至有源层上,避免了有源层因光线的照射而影响电性。
平坦层40设置于第三绝缘层33上,且阳极50设置于平坦层40上,阳极50通过穿过平坦层40以及第三绝缘层33的过孔与源极电性连接。在本发明实施例中,显示面板还包括导通保护层37,且导通保护层37设置于源极上,导通保护层37的上表面设置有一凹槽,且阳极50填充于凹槽内并通过导通保护层37与源极搭接。
可选的,导通保护层37的材料包括Mo与Ti中的至少一者,且导通保护层37可以防止源极在制程中发生氧化的现象,提高了显示面板的良品率。
需要说明的是,显示面板包括形成于平坦层40上的多个阳极50,且本发明实施例提供的图示中仅示出其中一个阳极50对应的结构进行说明。
像素定义层10设置于平坦层40上,像素定义层10包括设置于平坦层40上的第一挡墙11以及设置于第一挡墙11上的第二挡墙12。且第一挡墙11围绕阳极50设置并露出阳极50的上表面,以对多个阳极50之间起到绝缘的作用。
其中,第一挡墙11限定出多个子像素开口101,且每个子像素开口101对应露出一个阳极50的上表面,第二挡墙12限定出多个像素打印区102,每个像素打印区102内设有至少一子像素开口101,且像素打印区102用于在制程中容纳墨滴,以在阳极50上形成有机发光层60,且有机发光层60的厚度大于所述第一挡墙11的高度,且小于第二子挡墙122与第一挡墙11的高度之和。
其中,第二挡墙12包括设置于第一挡墙11上的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,且第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度,进而可以在像素打印区102的外围形成多层保护,以降低像素打印区102内墨滴溢出的风险,降低了因制程的波动导致第二挡墙12的图形缺失而引起墨滴溢出的概率。
优选的,第一子挡墙121与第二子挡墙122为一体成型设置,进而可以缩减工艺制程,节省工艺成本。
可选的,第一子挡墙121的宽度等于第二子挡墙122的宽度。
进一步地,第二挡墙12在基板20上的正投影位于第一挡墙11在基板20上的正投影的覆盖范围以内,进而第二挡墙12在起到防止墨滴溢出的作用的同时,还不会影响像素打印区102内有机发光层60的发光。
具体地,第二挡墙12的侧壁相对于第一挡墙11的侧壁内缩,或第二挡墙12的侧壁与第一挡墙11的侧壁平齐,以满足第二挡墙12在基板20上的正投影位于第一挡墙11在基板20上的正投影的覆盖范围以内。
在本发明的一种实施例中,请继续参照图1以及图2,显示面板包括多个像素打印区102以及多个子像素开口101,多个像素打印区102沿第一方向X排布,且每个像素打印区102内设有多个子像素开口101,位于同一个像素打印区102内的多个子像素开口101沿第二方向Y排布,第一方向X与第二方向Y相垂直。
其中,有机发光层60形成于每个像素打印区102内,即连续地覆盖同一个像素打印区102内的多个子像素开口101,以形成多行相间隔的显示像素结构。
在本实施例中,第二挡墙12至少设置于相邻的两个像素打印区102之间,且第二挡墙12包括设置于第一挡墙11上的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度,通过将第二挡墙12设置为两个高度不同的子挡墙,形成双层保护,以防止相邻的两个像素打印区102之间出现墨滴混合的现象。
优选的,第二挡墙12围绕像素打印区102设置,以提高对每个像素打印区102内墨滴的限制作用,有效地降低了像素打印区102内墨滴溢出的风险,降低了因制程的波动导致第二挡墙12的图形缺失而引起墨滴溢出的概率。
需要说明的是,若第二挡墙12仅设置于相邻的两个像素打印区102之间,且在每一像素打印区102未设置第二挡墙12的外围设置第三挡墙,且第三挡墙设置于第一挡墙11上,并与第二挡墙12共同围绕各像素打印区102。可选的,第三挡墙与第二挡墙12一体成型设置,且第三挡墙的高度可等于第一子挡墙121的高度,在此不作限定。
在本发明的另一种实施例中,请参照图1以及图3,显示面板包括多个像素打印区102以及多个子像素开口101,且多个像素打印区102沿第三方向Z以及第四方向W呈阵列排布,多个子像素开口101沿第三方向Z以及第四方向W呈阵列排布,第三方向Z与第四方向W相垂直。
即在本实施例中,每一个像素打印区102内设有一个子像素开口101,即多个像素打印区102与多个子像素开口101一一对应设置。
进一步地,在本实施例中,第一挡墙11与第二挡墙12皆围绕各子像素开口101设置,同时,第一挡墙11与第二挡墙12皆围绕各像素打印区102设置。
在本实施例中,第二挡墙12包括设置于第一挡墙11上的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度,通过将第二挡墙12设置为两个高度不同的子挡墙,形成双层保护,以防止相邻的两个像素打印区102之间出现墨滴混合的现象。
在本发明的另一种实施例中,请参照图4,第二挡墙12包括设置于第一挡墙11上的第一子挡墙121、第二子挡墙122以及第三子挡墙123,其中,第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度,第三子挡墙123的高度小于第二子挡墙122的高度。
优选的,第一子挡墙121的高度等于第三子挡墙123的高度,进而在制备第一子挡墙121与第三子挡墙123时,可使用相同的工艺条件进行制备,以节省工艺工序。
在本实施例中,第二子挡墙122位于第一子挡墙121与第三子挡墙123之间,进而在制程中,对于位于第二挡墙12两侧的两个像素打印区102,第二挡墙12皆可形成由低到高的双层保护结构,以防止相邻的两个像素打印区102之间出现墨滴混合的现象。
可选的,第一子挡墙121、第二子挡墙122以及第三子挡墙123的宽度相等,且第一子挡墙121、第二子挡墙122以及第三子挡墙123在同一制程中形成,以缩减工艺工序,节省工艺成本。
承上,本发明实施例通过在第一挡墙11上至少设置具有高度不同的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,以在像素打印区102的外围形成双层的保护结构,进而可以改善由于第二挡墙12的图形缺失导致墨滴溢至相邻像素打印区102的缺陷,提高了显示面板的良品率和可靠性。
另外,本发明实施例还提供一种上述实施例中所述的显示面板的制作方法,请参照图1、图2、图5、图6、图7以及图8所示。
显示面板的制作方法包括以下步骤:
S10、形成第一挡墙11,且第一挡墙11限定出多个子像素开口101。
提供基板20,并在基板20上形成薄膜晶体管阵列层以及平坦层40。
其中,薄膜晶体管阵列层包括形成于基板20上的第一绝缘层31、形成于第一绝缘层31上的第二绝缘层32以及设置于第二绝缘层32上的第三绝缘层33。可选的,第一绝缘层31、第二绝缘层32以及第三绝缘层33的材料皆可选自氮化硅材料、氧化硅材料或氮化硅与氧化硅的复合材料。
薄膜晶体管阵列层还包括包覆于第一绝缘层31、第二绝缘层32以及第三绝缘层33内的遮光层34以及薄膜晶体管器件35,其中,遮光层34形成于基板20上并被第一绝缘层31覆盖,薄膜晶体管器件35包括形成于第一绝缘层31上并被第二绝缘层32覆盖的有源层、形成于有源层上的栅绝缘层、形成于栅绝缘层上的栅极、形成于第二绝缘层32上并通过穿过第二绝缘层32的过孔与有源层两侧搭接的源极和漏极,且源极还通过穿过第一绝缘层31与第二绝缘层32的过孔与遮光层34搭接,以实现信号的传输。第三绝缘层33覆盖源极与漏极。
在第三绝缘层33上形成平坦层40,并在平坦层40上阳极50,在平坦层40中形成过孔。在本发明实施例中,在第三绝缘层33中形成贯穿第三绝缘层33的槽体,在槽体中形成导通保护层37,且导通保护层37形成于源极上,导通保护层37贴合槽体的内壁设置,以在导通保护层37中间形成一凹槽,凹槽的槽口与过孔相连通,且阳极50穿过过孔填充于凹槽内并与导通保护层37搭接,即阳极50通过导通保护层37与源极搭接,以实现电信号的传输。
可选的,导通保护层37的材料包括Mo与Ti中的至少一者,导通保护层37可以防止源极在制程中发生氧化的现象,提高了显示面板的良品率。
需要说明的是,显示面板包括形成于平坦层40上的多个阳极50,且本发明实施例提供的图示中仅示出其中一个阳极50对应的结构图进行说明。
在平坦层40上涂布第一光阻材料1101,采用掩膜板对第一光阻材料1101进行图案化处理,以得到图案化的第一挡墙11。
其中,第一挡墙11围绕阳极50设置,以对多个阳极50起到绝缘的作用,同时第一挡墙11限定出多个子像素开口101,且每个子像素开口101对应露出一个阳极50的上表面。
S20、在第一挡墙11上形成第一子挡墙121与第二子挡墙122,以形成第二挡墙12,且第二挡墙12限定出多个像素打印区102,每一像素打印区102内设有至少一子像素开口101,其中,第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度。
在平坦层40上涂布第二光阻材料1201,并对第二光阻材料1201采用半透掩膜板进行图案化处理,以在第一挡墙11上形成图案化的第二挡墙12。
可选的,第二光阻材料1201与第一光阻材料1101相同,且不限于正性光阻材料或负性光阻材料。
在本发明实施例中,半透掩膜板包括透光率不同的三个区域,以在不同的三个区域内去除厚度不同的第二光阻材料1201,其中,在第一挡墙11上去除第一厚度的第二光阻材料1201以形成第一子挡墙121,在第一挡墙11上去除第二厚度的第二光阻材料1201以形成第二子挡墙122,在除第一挡墙11之外的位置去除全部第二光阻材料1201。
其中,第一厚度大于第二厚度,形成的第一子挡墙121的高度小于第二子挡墙122的高度。
且第二挡墙12限定出像素打印区102,其中,以图2所示结构为例进行说明,像素打印区102沿第一方向X进行排布,且每一像素打印区102内形成有多个子像素开口101,且多个子像素开口101沿第二方向Y排布,第一方向X与第二方向Y相垂直。
然后采用喷墨打印工艺在像素打印区102内形成有机发光层60。
本发明实施例中,通过半透掩膜板在同一制程中形成高度不同的第一子挡墙121以及第二子挡墙122,以在像素打印区102的外围形成双层的保护结构,进而在不额外增加工艺工序的基础上,还可以改善由于第二挡墙12的图形缺失导致墨滴溢至相邻像素打印区102的缺陷,提高了显示面板的良品率和可靠性。
此外,本发明实施例还提供一种显示装置,所述显示装置包括上述实施例中所述的显示面板,或由上述实施例中所述的显示面板的制作方法制得的显示面板。
显示装置包括智能手环、智能手表、虚拟现实(Virtual Reality,VR)等可穿戴设备;显示装置还包括移动电话机、电子书、电子报纸、电视机、个人便携电脑、可折叠以及可卷曲OLED等柔性显示及照明设备。
在上述实施例中,对各个实施例的描述都各有侧重,某个实施例中没有详述的部分,可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本发明实施例所提供的一种显示面板及其制作方法、显示装置进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的技术方案及其核心思想;本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例的技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括像素定义层,所述像素定义层包括多个子像素开口、限定多个所述子像素开口的第一挡墙以及设置于所述第一挡墙上的第二挡墙;
所述第二挡墙限定出多个像素打印区,且每一所述像素打印区内设有至少一所述子像素开口;
其中,所述第二挡墙包括设置于所述第一挡墙上的第一子挡墙以及第二子挡墙,且所述第一子挡墙的高度小于所述第二子挡墙的高度。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一子挡墙与所述第二子挡墙一体成型设置。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,多个所述像素打印区沿第一方向排布,各所述像素打印区内设有沿第二方向排布的多个所述子像素开口,且所述第一方向与所述第二方向相垂直,其中,所述第一挡墙围绕多个所述子像素开口设置,所述第二挡墙至少位于相邻的两个所述像素打印区之间。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第二挡墙围绕所述像素打印区设置。
5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,多个所述像素打印区沿第三方向以及第四方向呈阵列排布,各所述像素打印区内设有一所述子像素开口,且所述第三方向与所述第四方向相垂直,其中,所述第一挡墙与所述第二挡墙皆围绕多个所述像素打印区设置。
6.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二挡墙还包括设置于所述第一挡墙上的第三子挡墙,且所述第三子挡墙的高度小于所述第二子挡墙的高度,所述第二子挡墙位于所述第一子挡墙与所述第三子挡墙之间。
7.根据权利要求6所述的显示面板,其特征在于,所述第一子挡墙、所述第二子挡墙以及所述第三子挡墙一体成型设置。
8.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括设置于所述像素定义层上的有机发光层,所述有机发光层至少位于多个所述像素打印区内,其中,所述有机发光层的厚度大于所述第一挡墙的高度,且小于所述第二子挡墙与所述第一挡墙的高度之和。
9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:
形成第一挡墙,且所述第一挡墙限定出多个子像素开口;以及
在所述第一挡墙上形成第一子挡墙与第二子挡墙,以形成第二挡墙,且所述第二挡墙限定出多个像素打印区,每一所述像素打印区内设有至少一所述子像素开口,其中,所述第一子挡墙的高度小于所述第二子挡墙的高度。
10.一种显示装置,其特征在于,所述显示装置包括如权利要求1至8任一项所述的显示面板,或由权利要求9所述的显示面板的制作方法制得的显示面板。
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