CN113433715A - 光电双调制的三维显示方法、显示元件和三维显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种光电双调制的三维显示方法、显示元件和三维显示装置，基于电场与光场双调制的三维显示方法，用于显示元件的三维显示，显示元件具有多个显示层，三维显示方法包括：至少提取需要显示的三维图像的形状信息；根据形状信息生成显示元件的每个显示层的扫描方案；提取需要显示的三维图像的颜色信息。由此，有助于在显示元件上扫描生成目标图案，而且通过对每个显示层独立地施加反向电压与不施加电压，以实现对每个显示层的是否显示的独立控制，便于实现逐层寻址扫描，此外，电场调制速度快、显示元件具有易于制作大体积以及易于制作高分辨纵深等特点，解决了其他显示器显示画幅小、刷新频率慢、亮度低、观看角度范围小等问题。

Description

光电双调制的三维显示方法、显示元件和三维显示装置

技术领域

本发明涉及三维显示领域，尤其是涉及一种光电双调制的三维显示方法、显示元件和三维显示装置。

背景技术

在相关技术中，三维显示一般分为真全息三维显示和体积式三维显示，真全息三维显示显示的画幅较小，且在使用的过程中刷新帧频较低。

体积式三维显示分为旋转扫描式和固态体积式，旋转扫描式的问题在于亮度低、不适合在需要大屏幕的应用场合。固态体积式如基于上转换材料的三维显示和基于液晶层叠的三维显示技术，基于上转换材料的三维显示也存在亮度低、图像显示对比度不高的问题；基于液晶层层叠的三维显示技术观看角度单一，一般只能直面观看且其纵深方向的分辨率不高。

因此，亟需一种显示画幅大、刷新频率高、显示亮度高的光学显示元件。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种光电双调制的三维显示方法、显示元件和三维显示装置。

根据本发明第一方面实施例的光电双调制的三维显示方法，用于显示元件的三维显示，所述显示元件具有多个显示层，所述三维显示方法包括：至少提取需要显示的三维图像的形状信息；根据所述形状信息生成显示元件的每个显示层的扫描方案；所述扫描方案包括：对每个显示层的光场调制和电场调制。对电场的调制包括：对显示元件的各个显示层的电场开闭依序控制，对每个显示层的电场控制包括以下两种：施加反向电压、不施加电压，反向电压的大小可调节，每个显示层在不施加电压时能够光致发光，在被施加高于预设数值的反向电压时能够不发光。对光场的调制包括：每个显示层的变焦、控制光束的扫描轨迹、调节光束的截面大小。按照扫描方案控制光场和电场，依序对被施加反向电压的显示层进行寻址扫描。

由此，在三维显示方法中施加光场和电场，光场可以通过控制光束的传递路径或者扫描的轨迹，调节单个光束射出的面积和方向，有助于在显示元件上扫描生成目标图案，而且通过对每个显示层独立地施加反向电压与不施加电压，以实现对每个显示层的是否显示的独立控制，便于实现逐层寻址扫描，此外电场调制速度快、显示元件具有易于制作大体积以及易于制作高分辨纵深等特点，解决了其他显示器显示画幅小、刷新频率慢、亮度低、观看角度范围小等问题。

在一些实施例中，生成扫描方案的步骤还包括：根据要显示的三维图像的形状信息进行切片，得到对应的各个显示层需要显示的图案信息，根据各个显示层需要显示的图案信息指定每个显示层的扫描方案。

在一些实施例中，所述的光电双调制的三维显示方法还包括提取需要显示的三维图像的颜色信息。

在一些实施例中，根据对显示元件的各个显示层的扫描顺序，将每三个相邻的显示层划分为一个颜色调节组，每组内的三个显示层的量子被照射时分别发出红光、绿光、蓝光，每个颜色调解组的三个显示层叠加后显示目标颜色。

根据本发明第二方面实施例的光电调制的显示元件包括：多个显示层，多个显示层在厚度方向依次层叠设置。每个所述显示层包括：透明基板、电极、量子点，所述电极于所述量子点的两侧，以为所述量子点施加电场，在所述电极不施加电压时所述量子点能够光致发光，在所述电极被施加高于预设数值的反向电压时所述量子点不发光。

在一些实施例中，所述电极包括两个半导体，量子点位于两个半导体之间，所述量子点与两个所述半导体形成PN结。

在一些实施例中，其中一个半导体为P型的ITO或其他P型透明半导体材料，另一个半导体为N型的ITO或其他N型透明半导体材料。

在一些实施例中，所述显示层为多层结构，所述电极包括两个平行设置的ITO层，所述量子点夹在两个ITO层之间，且形成为量子点层，所述透明基板位于其中一个ITO层的一侧。

在一些实施例中，两个半导体还设有用于与外部电路的连接的极耳，且两个所述极耳错位分布。

在一些实施例中，不加电场与加电场时所述量子点的光致发光强度比值为开关比，所述量子点的开关比大于20。

在一些实施例中，每三个相邻的显示层划分为一个颜色调节组，每组内的三个显示层的量子点层被照射时分别发出红光、绿光、蓝光。

根据本发明第三方面实施例的三维显示装置，其特征在于，包括在光轴方向上依次排布的：光发射器、光处理元件、扫描系统、变焦件、上述实施例中任一项所述的显示元件以及控制系统。所述光发射器用于发出能够激发量子点发光的光线；所述光处理元件用于对光线进行处理；所述扫描系统用于对光线进行垂直于光轴平面的扫描；所述变焦件用于对光线在光轴方向的聚焦位置进行调节，所述控制系统与所述显示元件的电极电连接，以控制所述对所述量子点的施加电场。

在一些实施例中，所述光处理元件包括光学快门和光束整形器，所述光学快门用于控制所述光发射器的开闭，所述光束整形器用于对光线进行缩束或扩束。

在一些实施例中，所述的三维显示装置还包括反射镜，所述反射镜用于对光发射器所发出的光线的传播方向进行调整，所述反射镜设于所述光束整形器与所述扫描系统之间。

综上，本发明实施例的三维显示方法、三维显示装置均具有以下优点：

1)实现可360°观看图像；

2)高对比度，通过对不同显示层面施加电场调控，得到高对比度图像；

3)实现全彩大画幅三维显示；

4)纵向分辨率高。

本发明的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本发明实施例的光电双调制的三维显示方法示意图。

图2是根据本发明实施例的三维显示装置的工作原理示意图。

图3是根据本发明一种实施例的光电双调制的显示元件的示意图。

图4是根据本发明另一种实施例的光电双调制的显示元件的示意图。

图5是根据本发明实施例的光电双调制的显示元件的显示层的结构示意图。

图6是根据本发明实施例的光电双调制的显示元件的显示层的立体拆分示意图。

附图标记：

三维显示装置100；

光发射器10；光线11；

光处理元件20；光学快门21；光束整形器22；

扫描系统30；变焦件40；

显示元件50；显示层51；透明基板511；第一IT0层512；第二IT0层513；极耳512a；量子点514；

反射镜60；电场控制器70；控制系统80；

第一方向A。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，参考附图描述的实施例是示例性的，下面详细描述本发明的实施例。

下面参考图1-图6描述根据本发明实施例的光电双调制的三维显示方法、显示元件50和三维显示装置100。

根据本发明第一方面实施例的光电双调制的三维显示方法，用于显示元件50的三维显示，显示元件50具有多个显示层51，三维显示方法包括：

S1、至少提取需要显示的三维图像的形状信息。

S2、根据形状信息生成显示元件50的每个显示层51的扫描方案。

扫描方案包括：对每个显示层51的光场调制和电场调制。对电场的调制包括：对显示元件50的各个显示层51的电场开闭依序控制，对每个显示层51的电场控制包括以下两种：施加反向电压、不施加电压，反向电压的大小可调节，每个显示层51在不施加电压时能够光致发光，在被施加高于预设数值的反向电压时能够不发光。对光场的调制包括：每个显示层51的变焦、控制光线11的扫描轨迹、调节光线11的截面大小。

也就是说，如图1所示，在需要将三维图像显示在显示元件50上时，需要先获取三维图像，然后对识别的图像信息进行切分，能分别显示在每个独立的显示层51中。在显示的过程中，可以控制电场的方向、大小以及是否施加反向电压，独立控制每个显示层51显示的内容。

举例而言，在一个具体实施例中，显示层51可以是具有量子点514的固体显示结构，包括但不限于板状，显示层51的显示是利用量子点514的性能实现的，即利用在电场的作用下，当施加正向电压、反应电压、不施加电压时，量子点514的光致发光的效率会改变的特性。具体而言，在不施加电场时，量子点514具有较高的光致发光量子效率，在施加正向电压时能够电发光，在施加反向电压时，当有光线照射到量子点514上时量子点会发光。这样，当光线11照射显示元件时，被扫描的显示层51不施加电压从而能够在光场作用下显示目标图像。

每个显示层51是否显示图像能够被独立控制，在某一个显示层51显示目标图像时，其他显示层51被施加反向电压，其他显示层的量子点514不发光，在光线照射过来时，光线穿过位于当前发光显示层51与光源之间的显示层51，照射到未被施加电场的显示层51上，从而使该显示层51能够根据扫描方案显示目标图像。

换言之，为了避免光线11在经过显示层51时，对其他显示层51的亮度和清晰度存在干扰，可以向不需要点亮的显示层51中通入反向电压形成一定的电场进行调节，以使量子点吸收的光子能够以非辐射驰豫的方式散发出去，使量子点的发光效率降低或者接近于零，进而降低光致发光带来的影响。

辐射驰豫分子从能量较高的激发态通过弛豫过程回到基态并发射光子的衰变过程。辐射弛豫包括二种过程：荧光和磷光，当一个分子从其最低单线激发(S1)自发地发射光子回到基态(S0)，即S1→S0，此辐射弛豫称荧光，它常发生在激发后的10-8s～10-9s；若一个分子从最低三重态(T1)自发的发射光子回到基态，即T1→S0，此辐射弛豫过程称磷光，磷光的波长比荧光的要长。

S3、按照扫描方案控制光场和电场，依序对被施加反向电压的显示层51进行寻址扫描。

在光轴方向的变焦，可以使光线11能够投向任意显示层51，显示图像时，每个显示层51中需要显示的图像的形状和位置具有较大的差异，每个显示层51都可以独立扫描，制定不同的扫描方案，不同的扫描方案可以根据需要显示的图像调节光线11投射的角度，以能够在对应的显示层51显示对应的图像信息。根据预设的扫描方案，设置依次与其对应的显示层51需要显示的图像信息，依次扫描点亮对应的显示层51，图像是依次点亮后的显示层51拼接出的完整图像。

在相关的技术中，通过控制多个液晶面板的亮暗，实现需要的图像信息，本申请利用量子点514在不施加电压时能够光致发光、施加反向电压时几乎不发光这一性能，实现在显示元件50上显示图像。这是因为通过光电双调制的三维显示，具有较高的图像帧率和三维成像纵向分辨率，单层电场调制量子点屏的调至时间可以小于10us。

具体地，由于液晶面板的刷新速度慢，限制了液晶面板的三维显示深度方向的分辨率。例如，液晶面板刷新速度1ms，按人眼视觉暂留效应25Hz计算，液晶面板最多层叠40层，若想层叠更多就必须牺牲帧频。单层电场调制的量子点屏调制时间小于10μs，以调制时间10μs，人眼视觉暂留效应25Hz计算，可以层叠4000层，以使三维成像的分辨率和色域更高。其次，液晶面板在安装时需要边框对其进行限定，液晶面板的背面和侧面均无法观看，而基于光电双调制的三维显示的显示区域更广，可从多个角度进行观看。

由此，在三维显示方法中施加光场和电场，光场可以通过控制光束的传递路径或者扫描的轨迹，调节单个光束射出的面积和方向，有助于在显示元件50上扫描生成目标图案，而且通过对每个显示层51独立地施加反向电压与不施加电压，以实现对每个显示层51的是否显示的独立控制，便于实现逐层寻址扫描，此外电场调制速度快、显示元件50具有易于制作大体积以及易于制作高分辨纵深等特点，解决了其他显示器显示画幅小、刷新频率慢、亮度低、观看角度范围小等问题。

可选地，生成扫描方案的步骤还包括：根据要显示的三维图像的形状信息进行切片，得到对应的各个显示层51需要显示的图案信息，根据各个显示层51需要显示的图案信息指定每个显示层51的扫描方案。

在识别到三维显示的图像时，会对显示的图像进行分析并进行相应的切片，切分成多个图像信息，每个图像信息对应一个显示层51，由于每个显示层51都具有自己的电极，可以通入反向电压改变不同显示层51的亮度。每个显示层51需要显示的图案可以单独形成一个扫描方案，寻址扫描的间隔时间较短，依次叠加形成完整的图像，由于视觉暂留现象的存在，人眼观看图像不会感受到时间差。

由此，将要显示的三维图像信息切分成多个琐碎的切片，通过逐个扫描的方式分别显示在多个显示层51中，以能够呈现完整的图像信息，可以增加显示的速度和图像对比度，提升观看的体验。

在一些实施例中，光电双调制的三维显示方法还包括：提取需要显示的三维图像的颜色信息。三维图像的颜色信息和形状信息可以一起被获取后切片，显示在与之对应的显示层51中。

由此，提取与之对应的颜色信息并附着在显示的图像中，可以使显示的图像更为生动、还原度更高，增加显示的图像的辨识度，通过颜色的渲染增加对比度，以使能够呈现更加精致的画质。

具体地，根据对显示元件50的各个显示层51的扫描顺序，将每三个相邻的显示层51划分为一个颜色调节组，每组内的三个显示层51的量子点被照射时分别发出红光、绿光、蓝光，每个颜色调解组的三个显示层51叠加后显示目标颜色。

如图3和图5所示，同一个颜色调节组内的每个显示层51都是一个独立的量子点单元，量子点单元可以是红光发射量子点单元，绿光发射量子点单元，蓝光发射量子点单元，且三个相邻的不同颜色的量子点单元周期性排列，每三个不同颜色的量子点单元形成一个颜色调节组，多个颜色调节组之间可以使用透明胶水粘接。

由此，将三个可以显示不同颜色的显示层51间隔排布，在光致发光和施加的反向电压的作用下，可以显示不同颜色的图案和亮度，红、绿、蓝作为现在科学技术的三原色，可以叠加显示出显示图像需要的颜色，有助于显示元件50显示不同的色彩，以使显示的图像更加五彩斑斓，显示的更加全面、且对图像描述的更加准确。

根据本发明第二方面实施例的光电调制的显示元件50包括：多个显示层51，多个显示层51在厚度方向依次层叠设置。每个显示层51包括：透明基板511、电极、量子点514，电极于量子点514的两侧，以为量子点514施加电场，在电极不施加电压时量子点514能够光致发光，在电极被施加高于预设数值的反向电压时量子点514不发光。

如图3和图5所示，显示层51在其厚度方向(第一方向A)上依次排布，在单个显示层51中，透明基板511的一侧设有电极，电极远离透明基板511的一侧设有量子点514，量子点514远离透明基板511的一侧设有电极。相邻两个显示层51中，其中一个显示层51的透明基板511远离量子点514的一侧与另一个显示层51的远离透明基板511一侧的电极接触，形成叠加的显示元件50。显示元件50可以是量子点复合体块材料，即用作三维成像的显示区域，透明基板511的材质可以是玻璃。

由此，多个显示层51层叠设置，便于切分多个切片的图像能够与多个显示层51对应，降低点亮显示元件50的时间，通过在显示层51中施加反向电压能够控制量子点514是否发光，控制原理简单、控制元素单一，以使显示元件50具有较高的稳定性。

进一步地，电极包括两个半导体，量子点514位于两个半导体之间，量子点514与两个半导体形成PN结。即指采用不同的掺杂工艺，通过扩散作用，将P型半导体与N型半导体制作在同一块半导体基片上，在它们的交界面就形成空间电荷区称为PN结，其具有单向导电性。

由此，量子点514与半导体形成PN结集成为一个半导体，可以增加显示元件50的单向导电性，提高显示元件50的导电能力。

可选地，如图4和图5所示，显示层51为多层结构，电极包括两个平行设置的ITO(氧化铟锡：Indium Tin Oxide)层，量子点514夹在两个ITO层之间，且形成为量子点层，透明基板511位于其中一个ITO层的一侧。在量子点层的两侧分别镀有氧化铟锡，氧化铟锡是一种混合物，呈现出透明茶色薄膜或黄偏灰色块状，由90％In₂O₃和10％SnO₂混合而成，氧化铟锡具有导电性能，可以作为电极。

这样，当两个ITO层与外界电连接时，其中一个ITO层作为阴极，另一个ITO层作为阳极，在两个ITO层之间形成了电场。

两个ITO层还可以设有极耳512a，用于与外部电路的连接，以对位于两个ITO层之间的量子点514施加大小和方向可调的电场，控制显示层51的是否点亮。位于透明基板511和量子点514中间的为第一ITO层512，与第一ITO层512关于量子点514对称分布的为第二ITO层513。

可选地，如图6所示，两个半导体还设有用于与外部电路的连接的极耳512a，且两个极耳512a错位分布。两个ITO层对应的极耳512a在第一方向A上可以错位分布。

由此，在两个半导体上设置错位连接的极耳512a，便于半导体与外部电路的连接，降低由于两个极耳之间距离过近对产生的电场的影响

如图5和图6所示为单个显示层51的结构，量子点514两侧所镀ITO层的载流子(指可以自由移动的带有电荷的物质微粒)不完全相同，其中一个为n型的ITO层或者其他N型透明半导体材料，另一个为p型的ITO层或者其他P型透明半导体材料，于是在单个显示层51的透明基板511上可以形成“ITO—量子点层—ITO”的PN结结构。

在PN结施加一定反向电场后光致发光量子效率降低，甚至可以接近为零，量子点514吸收的光子几乎都以非辐射弛豫的方式散发出去，撤去电场后，量子点514的发光效率又可以恢复到初始状态，施加电压的范围为-0.5V～-20V。

量子点514的这种特性我们称之为量子点514在电场调制的开关效应，在保持激发光参数不变的情况下，不加电场与加电场时量子点514的光致发光强度比值为开关比，在本发明实施例中，优选开关比大于20。

由此，在单个显示层51中，透明基板511的一侧镀有氧化铟锡作为电极，是由于氧化铟锡中的氧化铟具有高透过率，氧化锡具有高的导电能力，所以镀有氧化铟锡的透明基板511形成了具有高透过率的导电玻璃，便于显示元件50呈现清晰的图像，同时便于施加电场控制显示层51的亮暗、增加对比度，以能够提高显示层51的纵向分辨率。

在一些实施例中，每三个相邻的显示层51划分为一个颜色调节组，每组内的三个显示层51的量子点514被照射时分别发出红光、绿光、蓝光。

由此，每个颜色调节组中的三个显示层51在光线11照射下呈现出红、绿、蓝三种原色，以便于能够通过光场和电场的调节实现色彩的多样性，能够呈现出较大画幅的全彩三维显示，使得到高对比度的图像，增加用户的观看体验。

具体地，显示元件50为三维显示成像区域，其材料结构为多层透明玻璃基板量子点发光材料，显示层51与显示层51之间使用透明胶水粘接，每层具有的量子点514的两面都制作有电极，电极的作用可以对量子点514施加可调控大小和方向的电场。

根据本发明第三方面实施例的三维显示装置100包括在光轴方向上依次排布的：光发射器10、光处理元件20、扫描系统30、变焦件40、上述实施例中任一项的显示元件50以及控制系统80。光发射器10用于发出能够激发量子点发光的光线11；光处理元件20用于对光线11进行处理；扫描系统30用于对光线11进行垂直于光轴平面的扫描；变焦件40用于对光线11在光轴方向的聚焦位置进行调节；控制系统80与显示元件50的电极电连接，以控制对量子点514施加电场。

如图2所示，控制系统80可以控制三维显示装置100中的多个元件，光发射器10将光线11投向光处理元件20，经过光处理元件20的处理，光线11可以投向扫描系统30，扫描系统30可以在垂直光轴的延伸方向(第一方向A)对光线11进行偏转，以使能够投向变焦件40，最终投向显示元件50且在电场控制器70的调节下，在显示元件50上显示需要的图像。

其中，光发射器10的波长小于410nm，功率在0.1mw-500mw之间可调，这里为了能够更好的激发光致发光量子点514，可以优先选用355nm、375nm、405nm波长的光发射器10；扫描系统30可以选用微机电扫描系统30、数字微反射镜60系统和数字光处理系统等；变焦件40则优先选用变焦范围在50mm-200mm，变焦响应时间小于30ms的变焦件40，且变焦件40可以包括平场聚焦透镜和变焦透镜。

平场聚焦透镜对于单色光成像，像面为一平面，而且整个像面上像质一致，且像差小，无渐晕存在。对于一定的入射光线11偏转速度对应着一定的扫描速度，因此可用等角速度的入射光实现线性扫描。其入射光线11的偏转位置一般置于物空间前面焦点处，像方主光线11与光轴平行，可在很大程度上实现轴上、轴外像质一致，并提高照明均匀性。变焦透镜在光线11的传播路径中，可以改变在第一方向A的焦点。通过平场聚焦透镜和变焦透镜的组合增加光线11投向显示元件50的清晰度和准确度，降低呈现的图像出现倾斜或者偏转的可能性。

由此，通过在第一方向A上依次排布的光发射器10、光处理元件20、扫描系统30和变焦件40等对图像信息的获取以及对光线11的传播路径、光线11的粗细进行调整，以使获取的光线11能够投向不同的显示层51，最终在显示元件50上显示完整的图像，增加显示画幅的大小，可以提高图像的对比度和亮度，实现多个角度的观看。

如图2所示，光处理元件20包括光学快门21和光束整形器22，光学快门21用于控制光发射器10的开闭，光束整形器22用于对光线进行缩束或扩束。

具体地，光学快门21的通光孔径大于光发射器10的光斑大小，光发射器10可以是激光发射器，光学快门21的最大响应频率大于5MHz。光束整形器22具有进光孔和出光孔，且进光孔的出光孔的孔径可调，在需要对光线11整形扩束时，出光孔可以是进光孔的1至6倍；在需要对光线11整形缩束时，进光孔可以是出光孔的1至6倍；在不需要对光线11进行调节时，光束整形器22的进光孔和出光孔的孔径大小可以相同。此外，光处理元件20的出光孔最大直径控制在10mm，且对光发射器10激发的光线11透过率大于90％。

由此，光学快门21可以控制光发射器10的开闭，光束整形器22可以调节射出的光线11的大小，以使能够将需要获取的图像通过光线11调节投向对应的显示屏，提高三维显示装置100的透光率、增加画质，以使三维显示装置100能够满足不同光线11的投射需求。

可选地，三维显示装置100还包括反射镜60，反射镜60用于对光发射器10所发出的光线11的传播方向进行调整，反射镜60设于光束整形器22与扫描系统30之间。

这是由于扫描系统30需要和光处理元件20之间保持一定的角度，便于对光线11进行调节，所以为了光线11能够投向扫描系统30，可以在光线11传播至扫描系统30的过程中增加一个反射镜60，用来将光线11准确投向扫描系统30，反射镜60可以是介质膜反射镜。

由此，在光束整形器22和扫描系统30之间设置反射镜60，反射镜60改变光线11传递的路径，便于光束整形器22投射出的光线11能够投向扫描系统30，以使扫描系统30能够接受光线11并且将光线11投射出至变焦件40，最终在显示元件50上显示完整的图像信息。

综上，本发明实施例的三维显示方法、三维显示装置100均具有以下优点：

1)实现可360°观看图像；

2)高对比度，通过对不同显示层51面施加电场调控，得到高对比度图像；

3)实现全彩大画幅三维显示；

4)纵向分辨率高。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明的描述中，“第一特征”、“第二特征”可以包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。在本发明的描述中，第一特征在第二特征“之上”或“之下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。在本发明的描述中，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (14)

1.一种光电双调制的三维显示方法，其特征在于，用于显示元件的三维显示，所述显示元件具有多个显示层，所述三维显示方法包括：

至少提取需要显示的三维图像的形状信息；

根据所述形状信息生成显示元件的每个显示层的扫描方案，所述扫描方案包括：对每个显示层的光场调制和电场调制；

对电场的调制包括：对显示元件的各个显示层的电场开闭依序控制，对每个显示层的电场控制包括以下两种：施加反向电压、不施加电压，反向电压的大小可调节，每个显示层在不施加电压时能够光致发光，在被施加高于预设数值的反向电压时能够不发光；

对光场的调制包括：每个显示层的变焦、控制光束的扫描轨迹、调节光束的截面大小；

按照扫描方案控制光场和电场，依序对被施加反向电压的显示层进行寻址扫描。

2.根据权利要求1所述的光电双调制的三维显示方法，其特征在于，

生成扫描方案的步骤还包括：根据要显示的三维图像的形状信息进行切片，得到对应的各个显示层需要显示的图案信息，根据各个显示层需要显示的图案信息制定每个显示层的扫描方案。

3.根据权利要求1-2中任一项所述的光电双调制的三维显示方法，其特征在于，还包括提取需要显示的三维图像的颜色信息。

4.根据权利要求3所述的光电双调制的三维显示方法，其特征在于，根据对显示元件的各个显示层的扫描顺序，将每三个相邻的显示层划分为一个颜色调节组，每组内的三个显示层的量子被照射时分别发出红光、绿光、蓝光，每个颜色调解组的三个显示层叠加后显示目标颜色。

5.一种光电双调制的显示元件，其特征在于，包括：多个显示层，多个显示层在厚度方向依次层叠设置，每个所述显示层包括：

透明基板、电极、量子点，所述电极于所述量子点的两侧，以为所述量子点施加电场，在所述电极不施加电压时所述量子点能够光致发光，在所述电极被施加高于预设数值的反向电压时所述量子点不发光。

6.根据权利要求5所述的光电双调制的显示元件，其特征在于，所述电极包括两个半导体，量子点位于两个半导体之间，所述量子点与两个所述半导体形成PN结。

7.根据权利要求6所述的光电双调制的显示元件，其特征在于，其中一个半导体为P型的ITO或其他P型透明半导体材料，另一个半导体为N型的ITO或其他N型透明半导体材料。

8.根据权利要求7所述的光电双调制的显示元件，其特征在于，所述显示层为多层结构，所述电极包括两个平行设置的ITO层，所述量子点夹在两个ITO层之间，且形成为量子点层，所述透明基板位于其中一个ITO层的一侧。

9.根据权利要求6所述的光电双调制的显示元件，其特征在于，两个半导体还设有用于与外部电路的连接的极耳，且两个所述极耳错位分布。

10.根据权利要求5-9中任一项所述的光电双调制的显示元件，其特征在于，不加电场与加电场时所述量子点的光致发光强度比值为开关比，所述量子点的开关比大于20。

11.根据权利要求5-9中任一项所述的光电双调制的显示元件，其特征在于，每三个相邻的显示层划分为一个颜色调节组，每组内的三个显示层的量子点层被照射时分别发出红光、绿光、蓝光。

12.一种三维显示装置，其特征在于，包括在光轴方向上依次排布的：

光发射器，所述光发射器用于发出能够激发量子点发光的光线；

光处理元件，所述光处理元件用于对光线进行处理；

扫描系统，所述扫描系统用于对光线进行垂直于光轴平面的扫描；

变焦件，所述变焦件用于对光线在光轴方向的聚焦位置进行调节；

如权利要求5-11中任一项所述的显示元件；以及

控制系统，所述控制系统与所述显示元件的电极电连接，以控制所述对所述量子点的施加电场。

13.根据权利要求12所述的三维显示装置，其特征在于，所述光处理元件包括光学快门和光束整形器，所述光学快门用于控制所述光发射器的开闭，所述光束整形器用于对光线进行缩束或扩束。

14.根据权利要求13所述的三维显示装置，其特征在于，还包括反射镜，所述反射镜用于对光发射器所发出的光线的传播方向进行调整，所述反射镜设于所述光束整形器与所述扫描系统之间。

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