CN113422286A - 具有三阳离子钙钛矿的激光器 - Google Patents

具有三阳离子钙钛矿的激光器 Download PDF

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CN113422286A CN202110632873.4A CN202110632873A CN113422286A CN 113422286 A CN113422286 A CN 113422286A CN 202110632873 A CN202110632873 A CN 202110632873A CN 113422286 A CN113422286 A CN 113422286A
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吴小冬
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Abstract

本公开提供了一种具有三阳离子钙钛矿的激光器，包括激光增益介质与谐振腔，其中激光增益介质包括受激励源激励的有源层、以及用于沉积有源层的基底层，有源层的制备方法包括：将前驱液旋涂到基底层上并且在旋涂过程中向前驱液中添加反溶剂以获得固态薄膜，对固态薄膜进行退火以获得有源层，其中，前驱液包括三阳离子钙钛矿ABX3，其中A包括甲脒阳离子、甲胺阳离子和铯阳离子，B为金属离子，X为卤素离子。在本公开中，激光器中的有源层包括三阳离子钙钛矿，三阳离子钙钛矿中的有机阳离子能够通过抑制破坏性卤素的迁移来改善有源层的稳定性。由此，能够制得稳定性好的三阳离子钙钛矿激光器组件。

Description

具有三阳离子钙钛矿的激光器
技术领域
本公开属于激光器领域，具体涉及一种具有三阳离子钙钛矿的激光器。
背景技术
激光器是一种由激光增益介质、泵浦源和谐振腔组成的强相干光源。其中，激光增益介质通常具有亚稳能级使受激辐射占主导地位，以实现光放大；谐振腔可使腔内的光子有一致的频率、相位和运行方向，从而使激光具有良好的方向性和相干性。激光器按工作介质可分为气体激光器、固体激光器、半导体激光器和染料激光器四大类。
一般情况下，半导体激光器通过分布反馈激光器在其内部建立一个布格拉光栅，靠光栅的反馈来实现纵模选择。而在分布反馈激光器中，以有机无机杂化钙钛矿作为增益介质(也可称为激光增益介质薄膜)的激光器通常具有优良的性能，不仅制备工艺简单，而且禁带宽度可调，支持从可见光到近红外光谱区域的可调谐激光，同时具有高且平衡的载流子迁移率，有望实现电泵浦激光器。如上所述，虽然有机无机杂化钙钛矿通常具有优异的激光性能，但其稳定性较差，有机无机杂化钙钛矿中的金属卤化物钙钛矿在面对潮湿，氧气，光照以及加热情况下，其稳定性通常会大大降低，从而可能影响到激光器的性能。
因此，需要一种稳定性好的钙钛矿激光器。
发明内容
本公开有鉴于上述现有技术的状况而完成，其目的在于提供一种稳定性好的具有三阳离子钙钛矿的激光器。
为此，本公开提供了一种具有三阳离子钙钛矿的激光器，所述激光器包括激光增益介质与谐振腔，其中所述激光增益介质包括受激励源激励的有源层、以及用于沉积所述有源层的基底层，所述有源层的制备方法包括：将前驱液旋涂到所述基底层上并且在旋涂过程中向所述前驱液中添加反溶剂以获得固态薄膜，对所述固态薄膜进行退火以获得所述有源层，其中，所述前驱液包括三阳离子钙钛矿ABX3，其中A包括甲脒阳离子、甲胺阳离子和铯阳离子，B为金属离子，X为卤素离子。
在本公开中，有源层在激励源的作用下产生受激辐射，并产生多种频率的发射光，基底层能够用于对预设频率的发射光进行光放大以产生激光，其中，有源层包括三阳离子钙钛矿，三阳离子钙钛矿中的有机阳离子能够通过抑制破坏性卤素的迁移来改善有源层的稳定性。由此，能够制得稳定性好的三阳离子钙钛矿激光器组件。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述反溶剂为乙酸乙酯。在这种情况下，通过使用绿色无污染的反溶剂能够加快有源层的结晶速度，形成致密且表面平整的固态薄膜。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述基底层为光栅。在这种情况下，能够对有源层中预设频率的发射光进行光放大以产生激光。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述三阳离子钙钛矿的化学式为Csx(FA0.83MA0.17)1-xPbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子。这种情况下，能够提高有源层的稳定性进而提高激光器组件的稳定性。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述三阳离子钙钛矿的化学式为Cs0.2(FA0.83MA0.17)0.8PbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述基底层的折射率低于所述有源层的折射率。由此，能够有效地限制发射光在有源层中传播。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述激励源为电源或光源。在这种情况下，能够为有源层形成粒子数反转分布和光放大提供能量。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述前驱液的制备方法为按第一预设比例准备甲基碘化铵、甲脒碘化铵、碘化铯和碘化铅，并溶于极性溶剂中，所述第一预设比例基于三阳离子钙钛矿各离子的比例计算获得。由此，能够制备前驱液。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述极性溶剂为包括N,N-二甲基甲酰胺和二甲基亚砜的混合溶剂。由此，能够溶解甲基碘化铵、甲脒碘化铵和碘化铯。
另外，在本公开所涉及的激光器中，可选地，所述将前驱液旋涂到所述基底层上并且在旋涂过程中向所述前驱液中添加反溶剂以获得固态薄膜的步骤为：在0至10s，以500-1000rpm的转速旋涂，之后在10s至30s以4000-6000rpm的转速旋涂，并在第15-25s，滴加乙酸乙酯反溶剂。由此能够制备激光器。
根据本公开，能够提供一种稳定性好的具有三阳离子钙钛矿的激光器。
附图说明
现在将仅通过参考附图的例子进一步详细地解释本公开的实施例，其中：
图1是示出了本公开的示例所涉及的固态激光增益薄膜的结构图。
图2是示出了本公开的示例所涉及的三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜的光谱半峰宽和输出能量随泵浦能量变化的关系图。
图3是示出了本公开的示例所涉及的双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜的光谱半峰宽和输出能量随泵浦能量变化的关系图。
图4是示出了本公开的示例所涉及的三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜及双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜的稳定性对比图。
图5是示出了本公开的示例所涉及的激光器的制备方法流程图。
图6是示出了本公开的示例所涉及的激光器的结构图。
图7是示出了本公开的示例所涉及的激光器在不同泵浦强度下的输出光谱图。
图8是示出了本公开的示例所涉及的激光器的光谱半峰宽、输出光强随泵浦能量变化的关系图。
图9是示出了本公开的示例所涉及的激光器在高于阈值能量的泵浦强度下的典型光谱图。
具体实施方式
下面，结合附图和具体实施方式，进一步详细地说明本公开。在附图中，相同的部件或具有相同功能的部件采用相同的符号标记，省略对其的重复说明。
需要说明的是，本公开中的术语“包括”和“具有”以及它们的任何变形，例如所包括或所具有的一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可以包括或具有没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
另外，在本公开的下面描述中涉及的小标题等并不是为了限制本公开的内容或范围，其仅仅是作为阅读的提示作用。这样的小标题既不能理解为用于分割文章的内容，也不应将小标题下的内容仅仅限制在小标题的范围内。
根据本公开，能够提供一种稳定性好的具有三阳离子钙钛矿的激光器。
在一些示例中，激光器通常包括激励源、激光增益介质和谐振腔三部分。其中，激励源通常用于为有源层形成粒子数反转分布和光放大提供能量。在一些示例中，激励源可以是电源或光源。
在一些示例中，激光增益介质可以包括有源层。有源层可以在激励源的作用下产生受激辐射，并产生多种频率的发射光。
谐振腔可以用于对预设频率的发射光进行光放大以产生激光。在一些示例中，谐振腔可以为透射光栅、反射光栅或两块平行的平面或凹球面反射镜构成。
图1是示出了本公开的示例所涉及的固态激光增益薄膜的结构图。
在一些示例中，固态激光增益薄膜1可以包括钙钛矿薄膜10和用于沉积钙钛矿薄膜10的衬底11(参见图1)。
在一些示例中，钙钛矿薄膜10可以在电场或光源的作用下受激辐射。在一些示例中，钙钛矿薄膜10在电场或光源的激发下，可以辐射产生多种频率的发射光。在一些示例中，衬底11的折射率可以比钙钛矿薄膜10低。由此能够有效的限制发射光在有源层中传播，进而降低激光阈值。具体而言，这种结构便于比较使用不同材料的钙钛矿薄膜10制备的固态激光增益薄膜1的自发放大辐射的能力，也即不同材料的钙钛矿薄膜10的固态激光增益薄膜1的自发放大辐射的阈值。
在一些示例中，衬底11可以为石英片或玻璃。
在一些示例中，钙钛矿薄膜10可以包括三阳离子钙钛矿ABX3。在一些示例中，钙钛矿薄膜10可以是锗基钙钛矿或甲脒基钙钛矿。
在一些示例中，A可以包括甲脒阳离子、甲胺阳离子和铯阳离子。在这种情况下，甲脒阳离子和铯阳离子能够提高甲胺阳离子钙钛矿的稳定性，从而提高固态激光增益薄膜的稳定性。
另外，在一些示例中，A可以包括胍离子、钠离子或铯离子。
在一些示例中，B可以为金属离子。例如B可以为锡阳离子，锰阳离子或铅阳离子。在一些示例中，X可以为卤素离子。例如在一些示例中，X可以是溴离子或碘离子中的至少一种。
在一些示例中，三阳离子钙钛矿的化学式可以为Csx(FAyMA1-y)1-xPbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子，x和y是大于等于零且小于等于1的数。例如，三阳离子钙钛矿的化学式可以为Csx(FA0.83MA0.17)1-xPbI3或Cs0.2(FA0.83MA0.17)0.8PbI3。
在一些示例中，本公开的示例所涉及的激光器中的基底层21和有源层20(以下简称为激光器)。可以通过的本公开的示例所涉及的激光器的制备方法(以下简称为“制备方法”)获得。
图5是示出了本公开的示例所涉及的激光器的制备方法。
如图5所示，在一些示例中，制备方法可以包括：准备基底层(步骤S10)；准备前驱液(步骤S20)；将前驱液旋涂到基底层上得到固态薄膜(步骤S30)；对固态薄膜进行退火(步骤S40)。
在步骤S10中，在一些示例中，基底层的材料的折射率低于三阳离子钙钛矿的材料的折射率。例如，基底层的材料可以为石英、玻璃。由此，能够有效地限制发射光在有源层中传播。
在一些示例中，基底层可以为光栅。在这种情况下，基底层能够用于对预设频率的光进行光放大以产生激光。在一些示例中，光栅可以为DFB光栅(分布反馈光栅)。在这种情况下，能够制备分布反馈激光器。在一些示例中，基底层可以是在石英或玻璃片上刻出大量平行刻痕制成。在
在一些示例中，在步骤S10中，还可以对基底进行预处理。例如可以依次用去离子水、丙酮、乙醇清洗基底两次，清洗后放入80℃的环境中进行烘干处理，烘干以后进行2min的Plasma处理。
在一些示例中，在步骤S20中，前驱液的制备方法可以包括按第一预设比例准备甲基碘化铵、甲脒碘化铵、碘化铯和碘化铅。在一些示例中，第一预设比例可以基于三阳离子钙钛矿各离子的比例计算获得。具体而言，当三阳离子钙钛矿的化学式为Csx(FAyMA1-y)1- xPbI3时，Cs(铯阳离子)、MA(甲胺阳离子)、FA(甲脒阳离子)和Pb(铅离子)的比例可以为x:(1-x)(1-y):y(1-x):1，也即甲基碘化铵、甲脒碘化铵、碘化铯和碘化铅的物质的量之比为x:(1-x)(1-y):y(1-x):1，其中，x是大于0小于1的数字，y是大于0小于1的数字。
另外，在一些示例中，制备方法可以包括按第一预设比例准备甲基碘化铵，甲脒碘化铵、碘化铯和溴化铅。
在一些示例中，前驱液的制备方法可以包括准备极性溶剂。
在一些示例中，极性溶剂可以包括N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亚砜中的至少一种。另外，在一些示例中，极性溶剂可以为乙醇、甲酰胺、乙腈、三氟乙酸、六甲基磷酰胺、甲醇、乙酸、丙酮或吡啶。
在一些示例中，极性溶剂中N,N-二甲基甲酰胺与二甲基亚砜的体积比可以为2:1至6:1。例如，N,N-二甲基甲酰胺与二甲基亚砜的体积比可以为4:1。在一些示例中，可以将甲基碘化铵、甲脒碘化铵和碘化铯依次加入极性溶剂中。在一些示例中，可以将甲基碘化铵，甲脒碘化铵和碘化铯同时加入极性溶剂中。
在一些示例中，在步骤S20中，可以将前驱液搅拌6小时以上。
在一些示例中，在步骤S20中，可以使用过滤器对前驱液进行过滤。例如，可以使用0.44μm的过滤器对前驱液进行过滤。在一些示例中，过滤器可以为有机滤头。
在一些示例中，在步骤S30中，将前驱液旋涂到基底上可以是在氮气环境下进行的。在一些示例中，可以使用旋涂仪将前驱液旋涂到基底上。
在一些示例中，在步骤S40中，可以在将前驱液旋涂到基底层上的过程中添加反溶剂。在一些示例中，反溶剂可以是乙酸乙酯。在这种情况下，通过绿色无污染的反溶剂能够加快有源层的结晶速度，形成致密且表面平整的固态薄膜。另外，在一些示例中，反溶剂可以是甲苯或氯苯。在这种情况下，反溶剂能够溶解三阳离子钙钛矿且不与三阳离子钙钛矿发生反应。
在一些示例中，固态薄膜是在旋涂过程中极性溶剂和反溶剂挥发之后形成的。
在一些示例中，在步骤S50中，退火温度可以是70℃至120℃。例如退火温度可以为70℃、80℃、90℃、100℃、110℃或120℃。
在一些示例中，在退火过程中，固态薄膜的组织改善得到有源层。
在一些示例中，有源层可以包括三阳离子钙钛矿ABX3，A包括甲脒阳离子、甲胺阳离子和铯阳离子。B为金属离子。X为卤素离子。
在一些示例中，三阳离子钙钛矿的化学式可以为Csx(FAyMA1-y)1-xPbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子。例如，三阳离子钙钛矿的化学式可以为Csx(FA0.83MA0.17)1-xPbI3或Cs0.2(FA0.83MA0.17)0.8PbI3。在这种情况下，能够提高有源层的稳定性进而提高激光器组件的稳定性。
图6是示出了本公开的示例所涉及的激光器2结构图。
在一些示例中，激光器2可以通过本公开所涉及的制备方法获得。在一些示例中，激光器2可以是分布反馈激光器(DFB激光器)。
在一些示例中，激光器2可以包括有源层20和用于沉积有源层20的光栅21。
在一些示例中，有源层20可以在激励源的作用下产生受激辐射，并发射产生多种频率的发射光。
在一些示例中，光栅21的折射率可以比有源层20低。由此能够有效的限制发射光在有源层20中传播。
在一些示例中，光栅21的材料可以为石英片或玻璃。
在一些示例中，有源层20可以是锗基钙钛矿或甲脒基钙钛矿。在一些示例中，有源层20可以包括三阳离子钙钛矿ABX3。
在一些示例中，A可以包括甲脒阳离子、甲胺阳离子和铯阳离子。在这种情况下，甲脒阳离子和铯阳离子能够提高甲胺阳离子钙钛矿的稳定性，从而提高以三阳离子钙钛矿为有源层的分布反馈激光器组件的稳定性。另外，在一些示例中，A可以包括胍离子、钠离子或铯离子。
在一些示例中，B可以为金属离子。例如B可以为锡阳离子，锰阳离子或铅阳离子。
在一些示例中，X可以为卤素离子。例如X可以为溴离子或碘离子中的至少一种。
在一些示例中，三阳离子钙钛矿的化学式可以为Csx(FAyMA1-y)1-xPbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子，x和y是大于等于零且小于等于1的数。例如，三阳离子钙钛矿的化学式可以为Csx(FA0.83MA0.17)1-xPbI3或Cs0.2(FA0.83MA0.17)0.8PbI3。在这种情况下，能够提高有源层的稳定性进而提高激光器组件的稳定性。
图7是示出了本公开的示例所涉及的激光器在不同泵浦强度下的输出光谱图。
图8是示出了本公开的示例所涉及的激光器的光谱半峰宽、输出能量随泵浦能量变化的关系图。
图9是示出了本公开的示例所涉及的激光器在高于阈值能量的泵浦强度下的典型光谱图。
为了进一步说明本公开，以下结合实施例对本公开提供的固态激光增益薄膜、激光器和激光器进行详细描述，并结合对比例对本公开实现的有益效果进行充分说明。
[实施例1]
首先，制备三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜。
准备摩尔比为0.14:0.66:0.2:1甲基碘化胺MAI、甲脒碘化胺FAI，碘化铯CsI，碘化铅PbI2，其中，碘化铅PbI2为0.25mmol；再溶于0.5mlN,N-二甲基甲酰胺(DMF)和二甲基亚砜(DMSO)(体积比为4：1)的极性溶剂中，前驱液搅拌6h以上，并使用0.44μm有机滤头过滤。
依次用去离子水、丙酮、乙醇清洗石英片各两次，而后将石英片放入80℃恒温烘箱中进行半小时以上烘干处理，烘干以后进行2min的Plasma处理；在氮气环境下，将石英片放置在旋涂仪上，将25μl前驱液均匀的旋涂到石英片上，旋涂条件为：在0至10s，以1000rpm的转速旋涂，在10s至30s以6000rpm的转速旋涂，并在第25s，滴加100μl乙酸乙酯反溶剂；旋涂结束后在100℃下退火60min，获得实施例1的三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜。
然后，在温度为21℃，湿度为41％的环境下，光泵浦脉冲宽度为5ns，波长为532nm的条件下对实施例1的三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜进行测试。结果如图2以及图4所示。
[对比例1]
首先，制备双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜。
准备摩尔比为0.2:0.8:1的甲基碘化胺MAI、甲脒碘化胺FAI，碘化铅PbI2，其中，碘化铅PbI2为0.25mmol；并溶于0.5ml DMF和DMSO(体积比v:v＝4：1)的混合溶剂中，前驱液搅拌6h以上，并使用0.44μm有机滤头过滤。
依次用去离子水、丙酮、乙醇清洗石英片各两次，而后将石英片放入80℃恒温烘箱中进行半小时以上烘干处理，烘干以后进行2min的Plasma处理；在氮气环境下，将石英片放置在旋涂仪上，滴加25μl前驱液，将前驱液均匀的旋涂到石英片上，旋涂条件为：在0至10s，以1000rpm的转速旋涂，之后在10s至30s以6000rpm的转速旋涂，并在第25s左右，滴加100μl乙酸乙酯反溶剂；旋涂结束之后在100℃下退火60min，获得对比例1的双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜。
然后，在温度为21℃，湿度为41％的环境下，光泵浦脉冲宽度为5ns，波长为532nm的条件下，对双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜进行测试。测试结果如图3以及图4所示。
[对比分析]
由图2可以看出，实施例1的三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜产生ASE现象需要的阈值为31.5μJ/cm2，由此可知，三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜可以作为一种低阈值的激光增益介质，也即本公开中描述的有源层。
由图3可以看出，对比例1的双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜产生ASE现象需要的阈值为200μJ/cm2,也可以用作激光增益介质，也即有源层。
由图6可以看出，对比例1的双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜在120μJ/cm2光泵浦下保持14小时后出现输出能量下降的现象。实施例1的三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜在光泵浦强度超过自身阈值的4倍，即120μJ/cm2的情况下保持输出光强在20h内不下降。由此可知三阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜的稳定性比双阳离子钙钛矿固态激光增益薄膜更好。
[实施例2]
首先，制备激光器。
准备摩尔比为0.14：0.66：0.2：1的甲基碘化胺MAI、甲脒碘化胺FAI，碘化铯CsI，碘化铅PbI2，其中，碘化铅PbI2为0.25mmol；再溶于0.5ml DMF和DMSO(v:v＝4：1)的混合溶剂中，前驱液搅拌6h以上，并使用0.44μm有机滤头过滤。
依次用去离子水、丙酮、乙醇清洗光栅各两次，而后将光栅放入80℃恒温烘箱中进行半小时以上烘干处理，烘干以后进行2min的Plasma处理；在氮气环境下，将光栅放置在旋涂仪上，滴加25μl前驱液，将前驱液均匀的旋涂到光栅上，旋涂条件为：在0至10s，以1000rpm的转速旋涂，之后在10s至30s以6000rpm的转速旋涂，并在第25s左右，滴加100μl乙酸乙酯反溶剂；旋涂结束之后在100℃下退火60min，获得激光器。
然后，在温度为21℃，湿度为41％的环境下，光泵浦脉冲宽度为5ns，波长为532nm的条件下，对激光器进行测试。测试结果如图7、图8和图9所示。
由图8可以看出，激光器产生激光需要的阈值为75.9μJ/cm2。
由图9可以看出，激光器的光谱半峰宽为0.873nm。
综上所述，上述激光器可以用于制作激光器并且能够保持良好的稳定性。
虽然以上结合附图和实施例对本公开进行了具体说明，但是可以理解，上述说明不以任何形式限制本公开。本领域技术人员在不偏离本公开的实质精神和范围的情况下可以根据需要对本公开进行变形和变化，这些变形和变化均落入本公开的范围内。

Claims (10)

1.一种具有三阳离子钙钛矿的激光器，其特征在于，所述激光器包括激光增益介质与谐振腔，其中所述激光增益介质包括受激励源激励的有源层、以及用于沉积所述有源层的基底层，
所述有源层的制备方法包括：
将前驱液旋涂到所述基底层上并且在旋涂过程中向所述前驱液中添加反溶剂以获得固态薄膜，
对所述固态薄膜进行退火以获得所述有源层，
其中，所述前驱液包括三阳离子钙钛矿ABX3，其中A包括甲脒阳离子、甲胺阳离子和铯阳离子，B为金属离子，X为卤素离子。
2.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述反溶剂为乙酸乙酯。
3.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述基底层为光栅。
4.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述三阳离子钙钛矿的化学式为Csx(FA0.83MA0.17)1-xPbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子。
5.根据权利要求1或4所述的激光器，其特征在于，
所述三阳离子钙钛矿的化学式为Cs0.2(FA0.83MA0.17)0.8PbI3，其中Cs为铯阳离子，MA为甲胺阳离子，FA为甲脒阳离子。
6.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述基底层的折射率低于所述有源层的折射率。
7.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述激励源为电源或光源。
8.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述前驱液的制备方法为按第一预设比例准备甲基碘化铵、甲脒碘化铵、碘化铯和碘化铅，并溶于极性溶剂中，所述第一预设比例基于三阳离子钙钛矿各离子的比例计算获得。
9.根据权利要求8所述的激光器，其特征在于，
所述极性溶剂为包括N,N-二甲基甲酰胺和二甲基亚砜的混合溶剂。
10.根据权利要求1所述的激光器，其特征在于，
所述将前驱液旋涂到所述基底层上并且在旋涂过程中向所述前驱液中添加反溶剂以获得固态薄膜的步骤为：
在0至10s，以500-1000rpm的转速旋涂，之后在10s至30s以4000-6000rpm的转速旋涂，并在第15-25s，滴加乙酸乙酯反溶剂。
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