CN1133965A - 回转窑供气装置 - Google Patents

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    • F27B2007/367—Introducing gas into the drum axially or through the wall transversally through the wall of the drum

Abstract

本发明涉及回转窑的供气装置，它有一个供气管5，该管被分成一些环段17，并通过一个将管围住的支架7与一个外部气源相连。

Description

回转窑供气装置
本发明涉及一种改进的回转窑供气装置，特别涉及对回转窑内待煅烧的材料供气的装置，在该回转窑中气体通过其壳体被送入。工业上常使用回转窑进行高温下的固体/气体反应，例如，矿石的氧化还原反应。为了这个目的，粉矿在回转窑中被加热到还原温度，并在这个温度下与回转窑中的含氧气体接触。其所需要的停留时间常常取决于含氧气体与待煅烧材料的接触密集程度，回转窑气氛中的氧浓度以及氧渗入到回转窑材料床中的能力起很重要的作用。特别在回转窑靠热燃烧气体直接加热时，回转窑气氛中的氧含量几乎超过10％。因此，将回转窑中反应所需的氧或其它气体直接喷入待煅烧的材料床中是较理想的。然而，在从固定源向喷嘴供气时存在这样的问题：喷嘴要与窑壳体一起相对回转窑的轴转动。
类似的德国专利申请流水号P4334795.5公开了一种供气装置，它借助一个与回转窑相连的圆环，经过一个滑动的环形通道向回转窑供气。该圆环上有一个带有进入回转窑的孔或入口的环形通道，并且被嵌入到一个静止的、围绕着该圆环的同心槽中。
该槽与外部气源相连并与圆环的环形通道一起形成一个气体供应室，这个室被同心的密封元件密封。
在这种结构中，由于周边上的密封圈而导致了很大的磨擦力。此外，也不可能控制向窑内、特别是向待煅烧材料区域的供气。
借助本发明的向回转窑供气的装置可解决上述总题，该装置包括有供气喷嘴，它穿过回转窑壳体并由基本上固定的供气管线供气，
其特征在于一个供气管最好有两个平行的侧表面，供气管同心地围绕着窑的壳体，它最好被内部过渡墙分成至少6个环段，这些环段各自靠至少一个供气管线与喷嘴相连，
其特征还在于供气管线嵌入到一个带有一外部供气装置的固定支架中，
这里，支架与管子的一个侧表面一起形成一个供气室，该室是被一个环状的、滑动的密封件密封的，在每个环段的至少一个侧面上至少有两个含进气阀的孔口，
并且，其中的一个进气孔口总是封闭在供气室中，且在管子的另一侧以一种反向支承的形式设置一滑动表面，
采用供气滑动环形通道存在的问题是在移动和固定部件之间一般不允许有较大的间隙。例如，长度为30米到50米、直径为3米到5米的大型工业回转窑由于圆周线上的精确的、旋转的对称运动呈现出从几毫米到几厘米的很大偏差。本发明的装置不仅只允许供气管线在径向方向上相对支架运动，(即垂直于回转窑轴线—平的供气管侧表面上的密封装置在径向方向上滑动)，而且特别是架子浮动地悬起来时，还允许供气装置在轴向方向的一定运动。本发明装置的优点在于滑动密封与供气管的侧表面之间的接触表面比较小。因为不需要密封装置围住窑的炉壳，所以没有由于如供气管侧表面的制造偏差和变形带来的密封问题。该装置的密封件不易损坏并且装置运行可靠。
由于分成了几个环段，特别是至少6个环段，可以限制只向窑内特别选择的区域供气，例如，只向供气室或只向被待煅烧材料覆盖的窑部份供气。在某一时间内只有至少一个孔口位于供气室内的一个管环段通气。
全部的其它环段保持在内部压力下。
因为架子只设置在供气管的一部分上，所以即使在窑运行时也可为了清洁和维修的目的而拆下它。
架子最好安装成在供气管产生任何的轴向运动时，仍能可靠地使其避免与供气管线同时旋转、摇动或与供气管碰撞。
通常用作滑动密封件的材料是聚四氟乙稀，还可选择地用玻璃纤维和/或石墨粉，例如，以一种长纤维的形式使上述材料强化。
通常的金属管可用来作供气支架。
在一个最佳的变化形式中，架子是以这样一种形式设计的，使供气管的至少两个孔口总是放在供气室内。特别是横过供气室孔口的滑动密封区域至少在宽度上与所述孔口的宽度一样，以便避免气体泄漏到周围区域中。供气管和供气管线可通过已知的普通类型的分配管连接起来。
附加的最佳实施例在从属权利要求中进行描述。
下面将结合附图对本发明进行更详细的解释：
图1是垂直于回转窑轴线的剖面图，
图2是包含供气管和支架部份的本发明装置放大的局部截面图，
图3是通过包含回转窑轴线的一平面的放大的局部截面图(对应图1中的A—B截面)，
图4是一个放大的局部截面图(对应图1中的C-D截面)。
除非另外说明，在各图中相同的标号表示相同的部件。
典型的回转窑壳体1由一个衬层2和一个金属外层3组成。待煅烧的材料床4位于回转窑内。具有一个长方形截面的气体入口管5通过支管6牢固地与回转窑的壳体1连接在一起。支架7三面围绕着供气管。支架7在其左支柱内侧有一个槽8用来放置一个环形密封装置9。密封装置9与管5的侧平表面13一起形成一种滑动密封。侧表面13上的密封装置9向下的压力可选择地借助于弹簧10和调节螺钉11进行调节。供气室12形成在侧表面13、支架5和密封装置9之间，它通过至少一条供气管线15供气。如果向供气室12充入高压气体，孔口20、20′中的止回阀16向管5内部打开。管5被墙27分成一些环段17。若干气体入口喷嘴22沿着至少一个平行于供气管5的圆周线布置。上述喷嘴22经管线18和19各自与管5的各环段17相连。在工作压力下，气体经管线18、19和喷嘴22从供气环段17流入窑的内部，特别是流入待煅烧的材料4的区域。在图2中图示了一个第二喷嘴22′，它是一系列喷嘴中的一个，这些喷嘴沿着回转窑壳体上的第二圆周线布置。通过由适当的支管延伸的管线18和19，可以将附加的喷嘴22、22′布置在回转窑的一些圆周线上。特别是管18和19上有法兰23、24、23′、24′，打开这些法兰可清除可能的阻塞。采用一种机构可便利地代替法兰24和24′，这种机构通常可使管子18、19和喷嘴22不混入任何待煅烧的材料，例如，无论什么时候回转窑的壳体都不能被要煅烧的材料封住。
在一个变化的形式中(看图2)，支架7位于弹簧21之上以适应窑旋转时因供气管5不平衡而产生的可能的侧向运动。在支架的第二支柱上，一个滑动表面形成了一个反向支承25(看图4)，这个滑动表面是由一种合适的金属(如铸铁)或非金属材料(例如PTFE)制成的，它与密封装置的尺寸一致。

Claims (3)

1.一种带有若干气喷嘴(22)的回转窑供气装置，上述喷嘴穿过回转窑壳体并靠基本固定的供气管线(18，19)供气，
其特征在于一根最好有两个平行侧表面(13，13′)的供气管线(5)同心地围绕着窑的壳体，该供气管线被内部过渡墙(27)分成一些环段(17)，最好分成6个环段(17)，它们各自至少与一个通向窑喷嘴(22)的供气管线(18/19)相连，
其特征还在于供气管线(5)嵌入一带有一个外部气源装置(15)的固定支架(7)中，
其特征还在于支架与管线(5)的一个侧表面(13)一起形成一个供气室(12)，该室靠环状的滑动密封装置(9)与其周围密封，至少两个带有入口阀(16)的孔口位于每个环段的至少一个侧面(13)上，
其特征还在于至少一个进入孔口(20或20′)总是被封闭在供气室(12)中，并且其特征还在于相对管(5)的另一侧以一种滑动表面的形式设置一个反向支承(25)。
2.根据权利要求1所述装置，其特征在于支架(7)有一些弹簧固定，以便于适应管(5)的任何震动或不平衡。
3.根据权利要求1和2所述装置，其特征在于至少两个孔口(20或20′)总是处在对应供气管(5)每个位置上的供气室(12)区域中的气体压力下。
CN96105976A 1995-04-11 1996-04-11 回转窑供气装置 Pending CN1133965A (zh)

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