CN113363406A - 一种适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构 - Google Patents

一种适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构 Download PDF

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吕迅
朱平
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Abstract

本发明提供一种应用于Micro OLED技术领域的适用于Micro OLED的旋涂方法，本发明还涉及一种Micro OLED结构，所述的适用于Micro OLED的旋涂方法的步骤是：在过渡基板(4)上制备亲水材料层(3)，亲水材料层(3)选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凹陷位置(5)；在过渡基板(4)上制备疏水材料层(7)，疏水材料层(7)选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凸起位置(8)，本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构，搭配使用有机液滴的亲疏水性，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，达到改善旋涂不均问题。

Description

一种适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构
技术领域
本发明属于Micro OLED技术领域，更具体地说，是涉及一种适用于Micro OLED的旋涂方法，本发明还涉及一种Micro OLED结构。
背景技术
在半导体、面板显示及其他微纳加工领域，有机层的制备通常采用涂布的方式。对于方形或者大尺寸涂布，通常会采用夹缝涂布的方式，该方式通常制备的有机胶厚度较厚；对于圆形或小尺寸涂布，通常会采用旋涂的方式，该方式可以实现较薄有机胶厚度的制备。除此之外，仍然有喷墨打印及喷涂的方式制备有机胶。在微显示Micro OLED领域，由于基板形状为圆形，直径大小为200mm、300mm等，而且对有机层膜厚要求精确，厚度较薄，因此，不可避免地需要使用旋涂的工艺。在旋涂过程中，若底部基板表面平整，则可以获得较好的膜厚均一性；但若底层凹凸不平，不可避免地会出现不均匀的现象，严重的会影响产品性能。虽然通过工艺的改变，如阶梯式调整转速，步进式改变滴胶位置可以一定程度上缓解，但仍然不能彻底解决。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是：提供一种步骤简单，能够通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，从而达到改善旋涂不均的结果的Micro OLED的旋涂方法。
要解决以上所述的技术问题，本发明采取的技术方案为：
本发明为一种适用于Micro OLED的旋涂方法，所述的适用于Micro OLED的旋涂方法的步骤是：
S1.在平整的过渡基板上制备亲水材料层，制备亲水材料层时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；
S2.将制备好的过渡基板和亲水材料层与表面凹凸的基板对位，其中掩模版Ⅰ置于亲水材料层与基板之间，通过激光转印方式将亲水材料层转移到基板的凹陷位置；
S3.在平整的过渡基板上制备疏水材料层，制备疏水材料层时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；
S4.将制备好的过渡基板和亲水材料层与表面凹凸的基板对位，其中掩模版Ⅱ置于亲水材料层与基板之间，通过激光转印方式将亲水材料层转移到基板的凸起位置。
所述的适用于Micro OLED的旋涂方法适用于有机胶为亲水性时。
所述的亲水材料层的材料优选聚甲基丙烯酸甲酯。
所述的亲水材料层的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为20nm。
所述的疏水材料层的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为10nm。
所述的疏水材料层优选氟化聚乙烯。
当有机胶为疏水性质时，将S1、S3步骤对调，即：
在平整的过渡基板上制备疏水材料层，制备疏水材料层时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；将制备好的过渡基板和亲水材料层与表面凹凸的基板对位，其中掩模版Ⅱ置于亲水材料层与基板之间，通过激光转印方式将亲水材料层转移到基板的凹陷位置；
然后在在平整的过渡基板上制备亲水材料层，制备亲水材料层时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；将制备好的过渡基板和亲水材料层与表面凹凸的基板对位，其中掩模版Ⅰ置于亲水材料层与基板之间，通过激光转印方式将亲水材料层转移到基板的凸起位置。
本发明还涉及一种结构简单，能够通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，从而达到改善旋涂不均的结果的Micro OLED结构。
所述的Micro OLED包括基板、亲水材料层、过渡基板、凹陷位置、疏水材料层、凸起位置。
所述的有机胶为疏水性质时，亲水材料层位于基板上的凹陷位置内，疏水材料层位于基板上的凸起位置内。
所述的有机胶为疏水性质时，疏水材料层位于基板上的凹陷位置内，亲水材料层位于基板上的凸起位置内。
采用本发明的技术方案，能得到以下的有益效果：
本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构，以亲水性有机胶为例，表面凹凸的基板的凹槽的侧壁与底部均为清水结构，当有机胶进入基本上的凹槽后，有机胶未充满时，由于表面张力的作用，液滴更容易限制在凹槽内部，当有机胶充满凹槽后，在溢出的临界点上，由于顶部有疏水结构，同样地有机胶受到表面张力作用，会有往凹槽靠近的趋势。当在旋涂的过程中，有机胶就可以填充满凹槽内部，改善涂布不均现象，从而提高涂布效果，提高产品质量。本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及MicroOLED结构，方法步骤简单，产品结构简单，通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，达到改善旋涂不均问题。
附图说明
下面对本说明书各附图所表达的内容及图中的标记作出简要的说明：
图1为本发明所述的针对亲水有机胶的Micro OLED结构的制备的结构示意图；
图2为本发明所述的针对疏水有机胶的Micro OLED结构的制备的结构示意图；
图3为本发明所述的针对亲水有机胶设置的Micro OLED结构的结构示意图；
图4为本发明所述的针对疏水有机胶设置的Micro OLED结构的结构示意图；
附图中标记为：1、基板；2、掩模版Ⅰ；3、亲水材料层；4、过渡基板；5、凹陷位置；6、掩模版Ⅱ；7、疏水材料层；8、凸起位置。
具体实施方式
下面对照附图，通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明：
如附图1、附图2所示，本发明为一种适用于Micro OLED的旋涂方法，所述的适用于Micro OLED的旋涂方法的步骤是：
S1.在平整的过渡基板4上制备亲水材料层3，制备亲水材料层3时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层3的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；S2.将制备好的过渡基板4和亲水材料层3与表面凹凸的基板1对位，其中掩模版Ⅰ2置于亲水材料层3与基板1之间，通过激光转印方式将亲水材料层2转移到基板1的凹陷位置5；S3.在平整的过渡基板4上制备疏水材料层7，制备疏水材料层7时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层7材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；S4.将制备好的过渡基板4和亲水材料层7与表面凹凸的基板1对位，其中掩模版Ⅱ6置于亲水材料层3与基板1之间，通过激光转印方式将亲水材料层2转移到基板1的凸起位置8。所述的适用于MicroOLED的旋涂方法适用于有机胶为亲水性时。上述步骤，以亲水性有机胶为例，表面凹凸的基板1的凹槽的侧壁与底部均为清水结构，当有机胶进入基本上的凹槽后，有机胶未充满时，由于表面张力的作用，液滴更容易限制在凹槽内部，当有机胶充满凹槽后，在溢出的临界点上，由于顶部有疏水结构，同样地有机胶受到表面张力作用，会有往凹槽靠近的趋势。当在旋涂的过程中，有机胶就可以填充满凹槽内部，改善涂布不均现象，从而提高涂布效果，提高产品质量。本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构，方法步骤简单，产品结构简单，能够通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，从而达到改善旋涂不均问题。
有机胶为亲水性质时，适用于Micro OLED的旋涂方法制备的Micro OLED结构的所述的亲水材料层3的材料优选聚甲基丙烯酸甲酯。亲水材料层3的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为20nm。所述的疏水材料层7的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为10nm。疏水材料层7优选氟化聚乙烯。上述选择，使得产品的性能达到最优状态。
当有机胶为疏水性质时，将S1、S3步骤对调，即：在平整的过渡基板4上制备疏水材料层7，制备疏水材料层7时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层7材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；将制备好的过渡基板4和亲水材料层7与表面凹凸的基板1对位，其中掩模版Ⅱ6置于亲水材料层3与基板1之间，通过激光转印方式将亲水材料层2转移到基板1的凹陷位置5；然后在在平整的过渡基板4上制备亲水材料层3，制备亲水材料层3时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层3的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；将制备好的过渡基板4和亲水材料层3与表面凹凸的基板1对位，其中掩模版Ⅰ2置于亲水材料层3与基板1之间，通过激光转印方式将亲水材料层2转移到基板1的凸起位置8。本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构，以疏水性有机胶为例，表面凹凸的基板的凹槽的侧壁与底部均为清水结构，当有机胶进入基本上的凹槽后，有机胶未充满时，由于表面张力的作用，液滴更容易限制在凹槽内部，当有机胶充满凹槽后，在溢出的临界点上，由于顶部有疏水结构，同样地有机胶受到表面张力作用，会有往凹槽靠近的趋势。当在旋涂的过程中，有机胶就可以填充满凹槽内部，改善涂布不均现象，从而提高涂布效果，提高产品质量。本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构，通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，达到改善旋涂不均问题。
有机胶为疏水性质时，适用于Micro OLED的旋涂方法制备的Micro OLED结构的亲水材料层3的材料优选聚甲基丙烯酸甲酯。亲水材料层3的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为20nm。所述的疏水材料层7的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为10nm。所述的疏水材料层7优选氟化聚乙烯。上述选择，使得产品的性能达到最优状态。
本发明还涉及一种结构简单，能够通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，从而达到改善旋涂不均的结果的Micro OLED结构。所述的Micro OLED包括基板1、亲水材料层3、过渡基板4、凹陷位置5、疏水材料层7、凸起位置8。
如附图3所示，适用于Micro OLED的旋涂方法制备的Micro OLED结构的有机胶为亲水性质时，亲水材料层3位于基板1上的凹陷位置5内，疏水材料层7位于基板1上的凸起位置8内。上述结构，为亲水性有机胶，基板的凹槽的侧壁与底部均为清水结构，当有机胶进入凹槽，未充满时，由于表面张力的作用，液滴更容易限制在凹槽内部，当有机胶充满凹槽，在溢出的临界点上，由于顶部有疏水结构，同样地有机胶受到表面张力作用会有往凹槽靠近的趋势。当在旋涂的过程中，有机胶就可以填充满凹槽内部，从而改善涂布不均的现象。
如附图4所示，适用于Micro OLED的旋涂方法制备的Micro OLED结构的有机胶为疏水性质时，疏水材料层7位于基板1上的凹陷位置5内，亲水材料层3位于基板1上的凸起位置8内。上述结构，为疏水性有机胶，基板的凹槽的侧壁与底部均为清水结构，当有机胶进入凹槽，未充满时，由于表面张力的作用，液滴更容易限制在凹槽内部，当有机胶充满凹槽，在溢出的临界点上，由于顶部有疏水结构，同样地有机胶受到表面张力作用会有往凹槽靠近的趋势。当在旋涂的过程中，有机胶就可以填充满凹槽内部，从而改善涂布不均的现象。
本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及Micro OLED结构，以亲水性有机胶为例，表面凹凸的基板的凹槽的侧壁与底部均为清水结构，当有机胶进入基本上的凹槽后，有机胶未充满时，由于表面张力的作用，液滴更容易限制在凹槽内部，当有机胶充满凹槽后，在溢出的临界点上，由于顶部有疏水结构，同样地有机胶受到表面张力作用，会有往凹槽靠近的趋势。当在旋涂的过程中，有机胶就可以填充满凹槽内部，改善涂布不均现象，从而提高涂布效果，提高产品质量。本发明所述的适用于Micro OLED的旋涂方法及MicroOLED结构，方法步骤简单，产品结构简单，通过在基板的凹凸不同部位，搭配使用有机液滴的亲疏水性，使用激光转印的方法，分别设置不同的亲疏水结构，改变凹凸部位对有机液滴的保有能力，达到改善旋涂不均问题。
上面结合附图对本发明进行了示例性的描述，显然本发明具体的实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其他场合的，均在本发明的保护范围内。

Claims (10)

1.一种适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的适用于Micro OLED的旋涂方法的步骤是：
S1.在平整的过渡基板(4)上制备亲水材料层(3)，制备亲水材料层(3)时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层(3)的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；
S2.将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(3)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅰ(2)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凹陷位置(5)；
S3.在平整的过渡基板(4)上制备疏水材料层(7)，制备疏水材料层(7)时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层(7)材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；
S4.将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(7)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅱ(6)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凸起位置(8)。
2.根据权利要求1所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的适用于Micro OLED的旋涂方法适用于有机胶为亲水性时。
3.根据权利要求2所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的亲水材料层(3)的材料优选聚甲基丙烯酸甲酯。
4.根据权利要求3所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的亲水材料层(3)的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为20nm。
5.根据权利要求2所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的疏水材料层(7)的厚度可选10nm-1000nm，其中优选为10nm。
6.根据权利要求5所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：所述的疏水材料层(7)优选氟化聚乙烯。
7.根据权利要求1所述的适用于Micro OLED的旋涂方法，其特征在于：当有机胶为疏水性质时，将S1、S 3步骤对调，即：
在平整的过渡基板(4)上制备疏水材料层(7)，制备疏水材料层(7)时的方式选择旋涂、刮涂、喷墨打印，疏水材料层(7)材料选用氟化聚乙烯，聚烯烃，聚碳酸酯中的一种；将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(7)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅱ(6)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凹陷位置(5)；
然后在在平整的过渡基板(4)上制备亲水材料层(3)，制备亲水材料层(3)时的方式选择旋涂或刮涂或喷墨打印，亲水材料层(3)的材料选用环氧乙烷、聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯中的一种；将制备好的过渡基板(4)和亲水材料层(3)与表面凹凸的基板(1)对位，其中掩模版Ⅰ(2)置于亲水材料层(3)与基板(1)之间，通过激光转印方式将亲水材料层(2)转移到基板(1)的凸起位置(8)。
8.一种Micro OLED结构，其特征在于：所述的Micro OLED包括基板(1)、亲水材料层(3)、过渡基板(4)、凹陷位置(5)、疏水材料层(7)、凸起位置(8)。
9.根据权利要求8所述的Micro OLED结构，其特征在于：所述的有机胶为疏水性质时，亲水材料层(3)位于基板(1)上的凹陷位置(5)内，疏水材料层(7)位于基板(1)上的凸起位置(8)内。
10.根据权利要求8所述的Micro OLED结构，其特征在于：所述的有机胶为疏水性质时，疏水材料层(7)位于基板(1)上的凹陷位置(5)内，亲水材料层(3)位于基板(1)上的凸起位置(8)内。
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