CN113345944B - 显示基板及其显示方法、显示装置 - Google Patents
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
Abstract
本发明提供一种显示基板及其制备方法、显示方法,属于超声波识别显示技术领域。本发明的一种显示基板,包括多个像素区,每个所述像素区包括:设置在基底上的显示单元、控制单元和超声波识别单元;所述超声波识别单元位于所述显示单元所在层与所述基底之间,所述控制单元位于所述显示单元所在层与基底之间;其中,所述超声波识别单元用于发射超声波,以及接收被物体反射的反射超声波,并依据所述反射超声波生成显示控制信号;所述控制单元用于响应于所述显示控制信号,控制所述显示单元进行显示。
Description
技术领域
本发明属于超声波识别显示技术领+域,具体涉及一种显示基板及其显示方法、显示装置。
背景技术
超声波指纹技术与基于电容式触摸屏的指纹技术相比具有诸多独特优势,包括能够穿透由玻璃、铝、不锈钢、蓝宝石或塑料制成的智能手机外壳进行扫描。这种独一无二的优势为Qualcomm Technologies(高通)的OEM(original equipment manufacture;原始设备制造商)客户设计新一代优雅、创新和差异化的终端提供了灵活性。
此外,用户体验的提升体现在扫描能够不受手指上可能存在的污物影响,例如汗水、护手霜或凝露等,从而提供一种更稳定、更精确的认证方法。此外,QTI基于超声波的解决方案利用声波直接穿过皮肤表层,识别出当前基于电容式触摸屏的指纹技术无法识别出的三维细节和独特指纹特征,包括指纹脊线和汗毛孔等。这样能够产生细节丰富,难于仿制的指纹表面图。
随着科学技术的不断发展,指纹识别技术己经逐渐应用到人们的日常生活中。目前,超声波式指纹识别技术是各大厂商热门的研究方向。
发明内容
本发明至少部分解决现有的超声波识别技术不能及时显示的问题,提供一种能够实时对物体进行指纹识别的显示基板。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种显示基板,包括多个像素区,每个所述像素区包括:设置在基底上的显示单元、控制单元和超声波识别单元;所述超声波识别单元位于所述显示单元所在层与所述基底之间,所述控制单元位于所述显示单元所在层与所述基板之间;其中,
所述超声波识别单元用于发射超声波,以及接收被物体反射的反射超声波,并依据所述反射超声波生成显示控制信号;
所述控制单元用于响应于所述显示控制信号,控制所述显示单元进行显示。
可选的,所述控制单元包括控制晶体管,所述控制晶体管的控制极与所述超声波识别单元的输出端连接;所述控制晶体管的第一极与第一信号线连接;所述控制晶体管的第二极与所述显示单元连接,用于向所述显示单元输出显示控制信号。
进一步可选的,所述超声波识别单元包括:沿背离基底方向依次且相对设置的第一电极和第二电极,以及设置在二者之间的压电层;
所述第二电极与所述控制单元的控制极连接。
进一步可选的,所述超声波识别单元还包括:
扇出线,用于将所述第二电极与所述控制晶体管的第二极连接;
第一绝缘层,位于所述第二电极所在层与所述扇出线所在层之间,所述第一绝缘层具有第一过孔,所述第一过孔对应所述第一电极,所述扇出线通过所述第一过孔与所述第一电极连接。
进一步可选的,所述控制单元位于所述显示单元所在层与所述超声波识别单元所在层之间;所述超声波识别单元所在层与所述控制单元所在层之间设置有第二绝缘层;
所述显示基板还包括跨接结构,所述跨接结构穿过所述第二绝缘层,将所述控制晶体管的控制极与所述扇出线电连接。
进一步可选的,所述控制晶体管包括沿背离基底方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层以及源漏电极层;所述控制晶体管在所述基底上的正投影与所述超声波识别单元在所述基底上的正投影无交叠;
所述第二绝缘层具有第二过孔,所述第二过孔将所述扇出线裸露出来;
所述栅绝缘层和所述层间绝缘层均包括第三过孔和第四过孔;所述第三过孔将所述控制晶体管的栅极裸露出来;所述第四过孔与所述第二过孔连通;
所述跨接结构通过所述第三过孔、第四过孔和所述第二过孔将所述控制晶体管的栅极和所述扇出线连接。
进一步可选的,所述跨接结构包括第一跨接结构和第二跨接结构;
所述第二跨接结构通过所述第二过孔与所述扇出线连接;
所述第四过孔将所述第二跨接结构裸露出来;所述第一跨接结构通过所述第三过孔和所述第四过孔将所述栅极和所述第二跨接结构连接。
进一步可选的,所述第一跨接结构与控制晶体管的源漏电极同层设置;
和/或,所述第二跨接结构与所述控制晶体管的栅极同层设置。
可选的,所述基底包括柔性显示基底。解决本发明技术问题所采用的另一技术方案是一种显示装置,包括上述任意一种显示基板。
解决本发明技术问题所采用的另一技术方案是一种显示基板的显示方法包括:
在超声波发射阶段:超声波识别单元发射超声波;
在识别显示阶段:超声波识别单元接收被物体反射的反射超声波,并依据所述反射超声波生成显示控制信号;控制单元响应于所述显示控制信号,控制所述显示单元进行显示。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1为本发明的实施例的一种显示基板的剖面结构示意图;
图2为本发明的实施例的一种显示基板的另一剖面结构示意图;
图3为本发明的实施例的一种显示基板中第一电极和第二电极的平面示意图;
图4为本发明的实施例的一中显示基板的制备方法中形成第一电极和第二电极的结构示意图;
图5为本发明的实施例的一中显示基板的制备方法中形成扇出线的结构示意图;
图6为本发明的实施例的一中显示基板的制备方法中形成控制单元及跨接结构的示意图。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
在本发明中,两结构“同层设置”是指二者是由同一个材料层形成的,故它们在层叠关系上处于相同层中,但并不代表它们与基底间的距离相等,也不代表它们与基底间的其它层结构完全相同。
在本发明中,“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤,其可为光刻工艺,光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步;当然,“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。
以下将参照附图更详细地描述本发明。在各个附图中,相同的元件采用类似的附图标记来表示。为了清楚起见,附图中的各个部分没有按比例绘制。此外,在图中可能未示出某些公知的部分。
在下文中描述了本发明的许多特定的细节,例如部件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术,以便更清楚地理解本发明。但正如本领域的技术人员能够理解的那样,可以不按照这些特定的细节来实现本发明。
本实施例提供一种显示基板,包括多个像素区,每个像素区包括:设置在基底01上的显示单元3、控制单元2和超声波识别单元1;超声波识别单元1位于显示单元3所在层与基底01之间,控制单元2位于显示单元3所在层与基底01之间。其中,超声波识别单元1用于发射超声波,以及接收被物体反射的反射超声波,并依据反射超声波生成显示控制信号;控制单元2用于响应于显示控制信号,控制显示单元3进行显示。
本实施例提供的显示基板中,可利用内置的超声波识别单元1对物体进行识别,并将识别信息直接传输至控制单元2,控制单元2基于识别信息控制显示单元3的显示,从而实现物体信息的即时识别、显示。具体的,显示基板在工作过程中,可分为信号发生阶段和信号识别阶段,在信号发生阶段,通过控制电路控制超声波识别单元1发出超声波信号,超声波信号到达物体表面;在信号识别阶段,通过控制电路控制超声波识别单元1接收被物体反射的超声波,并将所接收的超声波转换成电信号(也即生成显示控制信号),该电信号直接作用在控制单元2的控制极上。根据超声波识别单元1所生成的显示控制信号的不同,显示单元3可进行不同的显示。也就是说,本实施例提供的显示基板,可对物体进行超声波识别,并实时将识别结果显示出来。通过在显示基板上设置多个像素区,每个像素区对物体不同位置进行识别,即可实现对物体整体的识别显示。
在一些实施例中,控制单元2包括:控制晶体管2,控制晶体管2的控制极与超声波识别单元1的输出端连接,控制晶体管的第一极与数据线连接;控制晶体管的第二极与显示单元3连接,用于向显示单元3输出显示控制信号。参照图1和图2,控制晶体管2包括栅极22、栅绝缘层05、有源层21以及源漏电极等结构,控制晶体管2的栅极22为控制极,与超声波识别单元1的读取电极(本实施例中以第二电极12为例)连接。也就是说,控制晶体管2的栅极22电压与超声波识别单元1识别转换的电信号相关。同时,控制晶体管2的第一电极11可与第一信号线连接,第一信号线为第一电极11端提供源极电压;控制晶体管2的第二电极12(漏极)与显示单元3连接。可以理解的是,控制晶体管2的工作状态与其栅源压差有关,当控制晶体管的源极电压一定时,根据控制晶体管2的不同栅极22电压,控制晶体管2的工作状态可包括关断状态、导通状态等。其中,当控制晶体管2的工作状态包括导通状态时,其漏极输出信号大小也与栅极22电压的具体数值相关。因此,本实施例提供的显示基板中,对于反射至超声波识别单元1的不同强度的超声波信号,将其转换成对应的电信号,从而可控制晶体管2处于不同的工作状态,进而控制显示单元3进行不同的显示。
在一些实施例中,超声波识别单元1包括:沿背离基底01方向依次且相对设置的第一电极11和第二电极12,以及设置在二者之间的压电层02。参见图1至图3所示,第一电极11在基底01上的正投影与第二电极12在基底01上的正投影存在重叠区域,且该重叠区域与压电层02在基底01上的正投影也至少部分重叠。具体的,压电层02采用压电材料制作,可被电压激发产生逆压电效应。第一电极11和第二电极12二者中的一个作为发射电极,一个作为接收电极,接收电极与控制单元2的控制极连接,以将转换的电信号传输给控制单元2。本实施例中以第二电极12为接收电极为例进行说明,也即第二电极12与控制单元2的控制极连接。参照图1和图2,当向第二电极12和第一电极11输入交变电压(AC电压)时(例如,第二电极12接地,第一电极11上施加交流方波),位于第一电极11与第二电极12之间的压电层02因逆压电效应会发生形变或者带动压电层02的上方和下方的膜层一起振动,从而可产生超声波并向外发射。
需要说明的是,当第二电极12远离压电层02的一侧或者第一电极11远离压电层02的一侧设置有空腔(例如空气腔)时,该超声波识别单元1发出的超声波会得到加强,从而可更好地将超声波发射出去。
在一些实施例中,多个像素区可呈阵列排布。其中,参照图3所示,位于同一行的多个像素区中,多个超声波识别单元1的第一电极11为一体结构,位于同一列的多个像素区中的多个第二电极12为一体结构。也即,本实施例的显示基板中,可包括多个沿沿行方向延伸的第一电极11条,以及多个沿列方向延伸的第二电极12条,多个第一电极11条与多个第二电极12条的交叠位置处可用以构成超声波识别单元1。
在一些实施例中,多个超声波识别单元1的压电层02可为整层结构,设置在第一电极11所在层和第二电极12所在层之间,从而可简化制备工艺,节约成本。当然,各个超声波识别单元1的压电层02也可为独立结构,本实施例中不做限制。可选的,为了使得该超声波识别单元1对超声波具有较高的接收灵敏度,压电层02通常采用PVDF(聚偏氟乙烯)等压电常数较高的压电材料制作。
超声波识别单元1发出的超声波在遇到物体后被反射,反射回来的超声波在压电层02会转化为交变电压:此时,将第一电极11接地,第二电极12则可作为接收电极,接收压电层02产生的交变电压。由于距离、材质等因素,物体表面不同位置对于超声波的反射能力不同,导致物体不同位置反射回来的超声波的强度不同,所产生的电压信号也是不同的,可将产生的电压信号作为显示控制信号,控制显示单元3的显示,使显示单元3进行对应的显示,从而将被识别物体的特征及时显示出来。具体的,例如,本实施例提供的显示基板可用于对人体器官进行实时识别显示。显示基板上具有多个超声波识别单元1,同时向人体某一器官部位发生超声波,器官不同位置对超声波的反射能力不同,所反射的超声波能量也不同,从而根据反射的超声波所转换的电压信号也不同,此时,显示单元3在根据该电压信号进行显示时,会显示出不同的亮度,从而可以显示出对器官的识别结果。
本实施例提供的显示基板中,超声波识别单元1发出的超声波朝向靠近显示单元3的方向以及远离显示单元3的方向均可传播。在一些实施例中,可根据需要在显示基板中设置阻挡层,阻隔超声波的传播。具体的,例如,可将显示基板的两相对面分别设置为显示面和超声波识别面。其中,显示面可为显示基板中基底01靠近显示单元3的一面(图1和图2中的显示基板的上表面),超声波识别面可为显示基板中基底01远离显示单元3的一面(图1和图2中的下表面)。优选的,可在超声波识别单元1所在层与显示单元3所在层之间设置阻挡层。显示基板在工作时,可将显示基板贴附于待识别的物体上,且超声波面相对显示面更靠近待识别物体,识别结果可实时通过显示面显示出来,供用户察看。
在一些实施例中,超声波识别单元1还包括:扇出线5,用于将第二电极12与控制晶体管的第二极连接;第一绝缘层04,位于第二电极12所在层与扇出线5所在层之间,第一绝缘层04具有第一过孔,第一过孔对应第一电极11,扇出线5通过第一过孔与第一电极11连接。本实施例中,在超声波的电极所在层与控制晶体管所在层之间设置第一绝缘层04,以将电极层与控制晶体管绝缘隔开,避免对晶体管的信号造成影响。同时,通过扇出线5将第二电极12与控制晶体管连接,以将超声识别单元所转换的显示控制信号传输给控制晶体管的控制极。可选的,扇出线5所在层与第一绝缘层04之间还形成有钝化层,钝化层在对应第二电极12的位置也具有过孔,以将第一电极11裸露出来,使得扇出线5能够与第二电极12连接。
在一些实施例中,显示基板上还设置有相关的驱动控制电路结构,用以对超声波识别单元1的工作状态进行驱动及控制,以实现超声波信号的发射与接收。可选的,驱动控制电路结构可设置于超声波识别单元1所在层与基底01之间。
在一些实施例中,控制单元2位于显示单元3所在层与超声波识别单元1所在层之间。超声波识别单元1所在层与控制单元2所在层之间设置有第二绝缘层04;显示基板还包括跨接结构4,跨接结构4穿过第二绝缘层04,将控制晶体管2的控制极(也即栅极22)与扇出线5电连接。控制晶体管2的栅极22和扇出线5通过跨接结构4电连接。
可选的,控制晶体管包括沿背离基底01方向依次设置的有源层21、栅绝缘层05、栅极22、层间绝缘层07以及源漏电极层;控制晶体管在基底01上的正投影与超声波识别单元1在基底01上的正投影无交叠。第二绝缘层04具有第二过孔,控制晶体管2的栅绝缘层05和层间绝缘层06均包括第三过孔和第四过孔,第四过孔与第二过孔连通。跨接结构44通第二过孔、第三过孔和第四过孔将驱动晶体管的栅极22与扇出线5连接。如图2所示,第一绝缘层03的第一过孔将超声波识别单元1的第二电极12裸露出来,扇出线5与通过该第一过孔与第二电极12电连接。第二绝缘层04的第二过孔将扇出线5裸露出,以使跨接结构44能够通过第二过孔与扇出线5连接。第三过孔对应控制晶体管2的栅极22,跨接结构44通过第三过孔与控制晶体管2的栅极22连接。其中需要说明的是,本实施例中,控制单元2也可以设置在超声波识别单元1所在层与基底01之间,具体结构可参照上述内容做适应性修改,本实施例中不再详述。同时,本实施例中的控制晶体管具体也可为其它类型的晶体管,例如底栅型晶体管,在此不再一一列举。
可选的,在一些实施例中,跨接结构4包括第一跨接结构41和第二跨接结构42,其中,第一跨接结构41通过第二过孔与扇出线5连接,第二跨接结构42通过第三过孔和第四过孔与第二跨接结构42连接。
进一步可选的,第一跨接结构41可与驱动晶体管的栅极22同层设置,第二跨接结构42可与驱动晶体管的源漏电极同层设置。在显示基板的厚度方向上,驱动晶体管的栅极22在与超声波识别单元1的第二电极12相距较远,跨接结构4在通过过孔将二者连接时,过孔的深度较深,若仅通过一次制备工艺形成贯穿层间绝缘层06、栅绝缘层05、第二绝缘层04等层结构的跨接结构4,对制备工艺的要求较高。具体的,若过孔较小,跨接结构4容易在过孔中形成断层,导致接触不良,若过孔较大,则占用面积较大,不利于显示基板的开口率的提高。因此,本实施例中,可通过两个跨接结构4实现驱动晶体管的栅极22在与超声波识别单元1的第二电极12的连接。从而,在形成显示基板时,可先形成第一跨接结构41,再形成第二跨接结构42,第二跨接结构42通过第四过孔与第三过孔连接。
在一些实施例中,第四过孔与第二过孔在基底01上的正投影可重叠,也可以分开。其中,第一跨接结构41可根据第二过孔与第四过孔的位置进行相应设置,能够将扇出线5与第二结构连接起来即可,本实施例中对此不再详述。
可选的,显示单元3可包括OLED显示器件、Micro LED显示器件等。在一些实施例中,显示单元3可包括OLED显示器件。参见图1和图2所示,显示单元3可包括:沿背离基底01方向依次设置的阳极31、有机发光层32和阴极33。其中,多个像素区中,各显示单元3的阳极31可为独立的图案。阳极31所在层上方(背离基底01的方向)还设置有像素限定层,像素限定层对应阳极31图案的位置具有容纳部,将阳极31裸露出来,同时容纳有机发光层32。控制单元2所在层与显示单元3所在层之间可设置平坦化层07,平坦化层07中具有过孔,显示单元3的阳极31通过过孔与控制单元2的漏极连接。可以理解的是,显示单元3也可包括其它显示器件,其具体结构及与驱动单元的连接方式可参考现有技术中的相关显示技术,本实施例中不再详述。
在一些实施例中,显示基板还包括:填充结构6,其在第一绝缘层03上的投影落入第一过孔内。本实施例中,为了保证超声识别单元所转换的显示控制信号的输出效果,第一过孔的开口面积可相对设置大一点,以使扇出线5与第二过孔之间的接触面积较大,而这样会导致设置层第一绝缘层03上方的其它膜层在对应第一过孔对的位置出现凹陷。本实施例中,可通过填充结构6的设置,对第一过过孔位置处进行填充,以保证显示基板整体的平坦。
可选的,本实施例中,填充结构6可设置于显示单元3所在层与控制单元2所在层之间。控制单元2中包括多层膜层结构,本实施例中,可在控制单元2制备完成之后,在对应第一过孔在位置形成填充结构6,对显示基板进行填充,以使显示单元3于平坦平面上进行制备,从而尽量保证各像素区中显示单元3能够位于同一平面,提高显示面板的显示效果。
在一些实施例中,显示基板的基底01可包括玻璃基底,或者也可包括柔性显示基底。具体的,柔性显示基底的材料可包括PI。
第二方面,本实施例还提供一种显示基板的制备方法,可用于制备上述任意一种显示基板。
该制备方法包括:在基底01上形成显示单元3、控制单元2和超声波识别单元1;其中,超声波识别单元1用于发射超声波,以及接收被物体反射的反射超声波,并依据反射超声波生成显示控制信号;控制单元2用于响应于显示控制信号,控制显示单元3进行显示。其中,超声波识别单元1位于显示单元3所在层与基底01之间,控制单元2位于显示单元3所在层与超声波识别单元1所在层之间。
以下对本实施例提供的制备方法进行具体说明,参照图4至图6,该制备方法具体可包括以下步骤:
S11、在基底01上形成驱动控制电路,以及超声波识别单元1的第一电极11、压电层02、第二电极12。
其中,驱动电路与超声波识别单元1连接,以驱动控制超声波识别单元1进行超声波的发射、接收。
压电层02可采用PVDF(聚偏氟乙烯)等压电常数较高的压电材料制作,可被电压激发产生逆压电效应。第一电极11和第二电极12二者中的一个作为发射电极,一个作为接收电极,接收电极与控制单元2的控制极连接,以将转换的电信号传输给控制单元2。本实施例中以第二电极12为接收电极为例进行说明,也即第二电极12与控制单元2的控制极连接。参照图1和图2,当第二电极12和第一电极11输入交变电压(AC电压)时(例如,第二电极12接地,第一电极11上施加交流方波),压电层02因逆压电效应会发生形变或者带动压电层02的上方和下方的膜层一起振动,从而可产生超声波并向外发射。需要说明的是,当第二电极12远离压电层02的一侧或者第一电极11远离压电层02的一侧设置有空腔(例如空气腔)时,该超声波识别单元1发出的超声波会得到加强,从而可更好地将超声波发射出去。
本实施例中,多个超声波识别单元1可呈阵列排布,同一行的多个超声波识别单元1的第一电极11为一体结构,同一列的多个超声波识别单元1第二电极12可为一体结构。换句话说,本实施例中,可在基底01上形成多条沿行方向延伸的第一电极11条,以及多条沿列方向延伸的第二电极12条,各第一电极11条与第二电极12条(二者在基底01上的正投影)交叠位置处则为超声波识别单元1。其中,第一电极11条所在层与第二电极12条所在层之间设置有压电层02。
S12、通过构图工艺在基底01上形成第一绝缘层03以及扇出线5。其中,第一绝缘层03可包括有机绝缘材料,可通过沉积等方式形成。扇出线5的材料可包括钛/铝/钛、钼/铝/钼、钛/铜/钛或者钼/铜/钼等三层金属层结构,具体可先在基底01上形成金属膜层,然后通过刻蚀工艺形成需要的图形,以形成扇出线5。
S13、在基底01上依次形成第二绝缘层04、控制晶体管2、跨接结构4等。
本步骤中,在基底01上依次形成第二绝缘层04、控制晶体管2的有源层21、栅绝缘层05、栅极22、层间绝缘层06、源漏电极等。具体的,可在构图工艺在基底01上形成有源层21;在有源层21上通过沉积等方式形成栅绝缘层05;在栅绝缘层05上采用构图工艺同时形成栅极22;在栅极22上通过沉积等方式形成层间绝缘层06;然后,刻蚀栅绝缘层05以及层间绝缘层06以形成暴露有源层21的过孔。其中,一次构图工艺包括光刻胶的形成、曝光、显影以及刻蚀等工艺。
S14、在基底01上形成显示单元3。
以显示单元3包括OLED显示器件为例,可在形成有控制晶体管2的基底01上形成平坦化层07,再在平坦化层07上形成OLED显示器件。其中平坦化层07对应控制晶体管2的漏极位置具有过孔,OLED显示器件的第一电极11通过该过孔与驱动晶体管的漏极连接。
第三方面,本实施例提供一种显示基板的显示方法,可用于控制上述任意一种显示基板的工作。该显示方法包括:
在超声波发射阶段:超声波识别单元1发射超声波。
在识别显示阶段:超声波识别单元1接收被物体反射的反射超声波,并依据反射超声波生成显示控制信号;控制单元2响应于显示控制信号,控制显示单元3进行显示。
本实施例提供对的显示方法中,在超声波发射阶段,可通过驱动电路控制超声波识别单元1发射超声波,超声波传输至物体。具体的,可向第二电极12和第一电极11输入交变电压(AC电压)时(例如,第二电极12接地,第一电极11上施加交流方波),压电层02因逆压电效应会发生形变或者带动压电层02的上方和下方的膜层一起振动,从而可产生超声波并向外发射;在识别显示阶段,通过控制超声波识别单元1进行超声波识别,并将所转换的电信号传输至驱动单元的控制极,以控制显示单元3的显示。
其中,超声波发射阶段与显示识别阶段的时长、延迟接受时间(信号发生与信号收集间隔时间)及信号收集时间更具具体情况而定等可根据超声波识别单元1的器件类型等实际具体情况确定。具体的,在一些实施例中,当压电层02的材料包括PVDF时,信号收集阶段的频率可大60Hz以上。
第四方面,本实施例提供一种显示装置,其包括上述的显示基板。
具体的,该显示装置可为有机发光二极管(OLED)显示面板、Micro LED显示显示面板、可用于CT设备、指纹识别设置等,用于及时对物体进行识别显示。具体的,例如当显示装置为CT扫描设备时,可将该显示装置贴附于人体腹部,通过超声波对人体体内器官识别进行即时显示。
应当说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
依照本发明的实施例如上文,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (9)
1.一种显示基板,其特征在于,包括多个像素区,每个所述像素区包括:设置在基底上的显示单元、控制单元和超声波识别单元;所述超声波识别单元位于所述显示单元所在层与所述基底之间,所述控制单元位于所述显示单元所在层与所述基底之间;其中,
所述超声波识别单元用于发射超声波,以及接收被物体反射的反射超声波,并依据所述反射超声波生成显示控制信号;
所述控制单元用于响应于所述显示控制信号,控制所述显示单元进行显示;
所述控制单元包括控制晶体管,所述控制晶体管的控制极与所述超声波识别单元的输出端连接;所述控制晶体管的第一极与第一信号线连接;所述控制晶体管的第二极与所述显示单元连接,用于向所述显示单元输出显示控制信号;
所述超声波识别单元包括:沿背离基底方向依次且相对设置的第一电极和第二电极,以及设置在二者之间的压电层;
所述第二电极与所述控制单元的控制极连接。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述超声波识别单元还包括:
扇出线,用于将所述第二电极与所述控制晶体管的第二极连接;
第一绝缘层,位于所述第二电极所在层与所述扇出线所在层之间,所述第一绝缘层具有第一过孔,所述第一过孔对应所述第一电极,所述扇出线通过所述第一过孔与所述第一电极连接。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述控制单元位于所述显示单元所在层与所述超声波识别单元所在层之间;所述超声波识别单元所在层与所述控制单元所在层之间设置有第二绝缘层;
所述显示基板还包括跨接结构,所述跨接结构穿过所述第二绝缘层,将所述控制晶体管的控制极与所述扇出线电连接。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述控制晶体管包括沿背离基底方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅极、层间绝缘层以及源漏电极层;所述控制晶体管在所述基底上的正投影与所述超声波识别单元在所述基底上的正投影无交叠;
所述第二绝缘层具有第二过孔,所述第二过孔将所述扇出线裸露出来;
所述栅绝缘层和所述层间绝缘层均包括第三过孔和第四过孔;所述第三过孔将所述控制晶体管的栅极裸露出来;所述第四过孔与所述第二过孔连通;
所述跨接结构通过所述第三过孔、第四过孔和所述第二过孔将所述控制晶体管的栅极和所述扇出线连接。
5.根据权利要求4所述的显示基板,其特征在于,所述跨接结构包括第一跨接结构和第二跨接结构;
所述第二跨接结构通过所述第二过孔与所述扇出线连接;
所述第四过孔将所述第二跨接结构裸露出来;所述第一跨接结构通过所述第三过孔和所述第四过孔将所述栅极和所述第二跨接结构连接。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述第一跨接结构与控制晶体管的源漏电极同层设置;
和/或,所述第二跨接结构与所述控制晶体管的栅极同层设置。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述基底包括柔性显示基底。
8.一种显示装置,其特征在在于,包括权利要求1至7中任意一项所述的显示基板。
9.一种显示基板的显示方法,其特征在于,所述方法应用于如权利要求1-7中任一项所述显示基板,所述方法包括:
在超声波发射阶段:超声波识别单元发射超声波;
在识别显示阶段:超声波识别单元接收被物体反射的反射超声波,并依据所述反射超声波生成显示控制信号;控制单元响应于所述显示控制信号,控制所述显示单元进行显示。
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