CN113345335A - 一种显示基板、显示装置和显示基板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种显示基板、显示装置和显示基板的制作方法。显示基板包括盖板、位于盖板上的光汇聚层、位于光汇聚层远离盖板一侧的多个像素单元，光汇聚层靠近盖板的一侧包括透镜阵列，透镜阵列包括多个透镜单元，每一透镜单元与一个或多个像素单元相对应。本发明实施例通过设置包括透镜阵列的光汇聚层，光汇聚层靠近盖板的一侧包括透镜阵列，透镜阵列包括多个透镜单元，每一透镜单元与一个或多个像素单元相对应。这样，通过设置该光汇聚层，能够对像素单元发出的光线进行汇聚，以改变光线的传播方向，使得照射向盖板的光线的入射角降低，从而减少发生全反射的光线的比例，有助于提高出光率。

Description

一种显示基板、显示装置和显示基板的制作方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置和显示基板的制作方法。

背景技术

LED(Light-Emitting Diode，发光二极管)以及OLED(Organic Light-EmittingDiode，有机发光二极管)等发光器件的表面可能存在全反射现象，这种全反射现象可能会导致显示装置的出光量减少，发光效率降低。

发明内容

本发明实施例提供一种显示基板、显示装置和显示基板的制作方法，以解决显示装置的出光量减少，发光效率降低的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括盖板、位于所述盖板上的光汇聚层、位于所述光汇聚层远离所述盖板一侧的多个像素单元，所述光汇聚层靠近所述盖板的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应。

在其中一些实施例中，所述透镜单元与相对应的所述像素单元之间的对位精度小于5微米。

在其中一些实施例中，在垂直于所述盖板的方向上，所述透镜阵列与所述像素单元之间的距离小于200微米。

在其中一些实施例中，所述显示基板还包括光传输层，所述光传输层位于所述光汇聚层和所述盖板之间，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

在其中一些实施例中，所述光汇聚层包括有机基底层，所述光传输层包括第一光学胶层，所述光汇聚层远离所述盖板一侧还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层的折射率小于所述有机基底层的折射率。

在其中一些实施例中，所述光汇聚层包括第一光学胶层，所述光传输层包括有机基底层，所述光传输层和所述盖板之间还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

第二方面，本发明实施例提供了一种显示装置，包括第一方面中任一项所述的显示基板。

第三方面，本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，包括以下步骤：

提供一衬底；

在所述衬底上形成分离层；

在所述分离层上形成光汇聚层，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元；

在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，其中，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应；

将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离；

在所述光汇聚层远离所述像素单元的一侧设置盖板。

在其中一些实施例中，所述在所述分离层上形成光汇聚层，包括：

在所述分离层上压印出透镜模板；

在所述分离层上形成作为光汇聚层的有机基底层，其中，所述有机基底层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列；

所述将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离，包括：

将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离；

所述将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离之后，还包括：

在所述有机基底层远离所述像素单元的一侧形成作为光传输层的第一光学胶层，其中，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

在其中一些实施例中，在所述衬底上形成分离层之后，还包括：

在所述分离层上形成有机基底材料；

在所述有机基底材料上压印出透镜模板，使所述有机基底材料形成作为光传输层的有机基底层；

所述在所述分离层上形成光汇聚层，包括：

在所述有机基底层远离所述衬底的一侧形成作为光汇聚层的第一光学胶层，其中，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

在其中一些实施例中，所述在所述分离层上压印出透镜模板的步骤，或者所述在所述有机基底材料上压印出透镜模板的步骤，包括：

在压印透镜模板的同时压印出对位标记；

所述在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，包括：

根据所述对位标记制作像素单元，使得所述透镜单元与相对应的像素单元之间的对位精度小于5微米。

在其中一些实施例中，所述在压印透镜模板的同时压印出对位标记，包括：

确定透镜阵列与像素单元的相对排列角度；

根据所述像素排列角度压印透镜模板和对位标记。

本发明实施例通过设置包括透镜阵列的光汇聚层，光汇聚层靠近盖板的一侧包括透镜阵列，透镜阵列包括多个透镜单元，每一透镜单元与一个或多个像素单元相对应，这样，通过设置该光汇聚层，能够对像素单元发出的光线进行汇聚，以改变光线的传播方向，使得照射向盖板的光线的入射角降低，从而减少发生全反射的光线的比例，有助于提高出光率，同时，由于光汇聚层设置于盖板和像素单元之间，减少了像素单元与透镜单元之间的距离，降低了不同像素单元发出的光线之间的相互干扰。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本发明一实施例提供的显示基板的结构示意图；

图2是本发明一实施例提供的显示基板中光汇聚层的结构示意图；

图3是本发明又一实施例提供的显示基板的结构示意图；

图4是本发明又一实施例提供的显示基板的结构示意图；

图5是本发明一实施例提供的显示基板的制作方法的流程图；

图6A是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6B是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6C是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6D是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6E是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6F是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6G是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6H是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图6I是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7A是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7B是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7C是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7D是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7E是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7F是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7G是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图7H是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图8A是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图8B是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图；

图8C是本发明一实施例提供的显示基板的一中间制程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本申请发明人在研究过程中发现，当来自像素单元的光线向出光侧传递时，如果光线与盖板之间的入射角大于光线在盖板上发生全反射对应的全反射角，则会导致光线在该盖板的界面处发生全反射，导致出光率降低。实施时，可以在显示基板的出光侧设置透镜，所设置的透镜通常包括凸透镜，像素单元发出的光线经过凸透镜单元的汇聚后，与盖板之间的相对角度降低，这样，发生全反射的光线的比例下降，从而能够提高出光率。

相关技术中通常将透镜薄膜贴设在显示基板的表面，然而这种实现方式的显示效果较差，发明人经过进一步研究发现，其原因主要在于，透镜与像素单元的位置存在偏差，导致透镜无法有效汇聚像素单元发出的光线，此外，透镜与像素单元之间的距离较大，该距离通常为盖板、光学胶、缓冲层等多层结构的距离之和，这导致光线在抵达透镜之前，需要传播较长的距离，这样，不同像素单元发出的光线之间可能存在干扰，导致显示效果下降。

本发明的一些实施例提供了一种显示基板。

如图1所示，显示基板包括盖板100、位于盖板100上的光汇聚层200、位于光汇聚层200远离盖板100一侧的多个像素单元300，应当理解的是，图 1中仅以一整体结构示例性表示多个像素单元300的集合，而并未示出每一像素单元的位置。

如图2所示，光汇聚层200靠近盖板100的一侧包括透镜阵列201，透镜阵列201包括多个透镜单元202，每一透镜单元202与一个或多个像素单元300 相对应。

本实施例中，盖板100位于显示基板的像素单元300的出光侧，光汇聚层 200用于提高光线的汇聚程度，显示基板可以是底发射型OLED显示基板。

通过设置该光汇聚层200，能够对像素单元300发出的光线进行汇聚，以改变光线的传播方向，使得照射向盖板100等结构的光线的入射角降低，从而减少发生全反射的光线的比例，有助于提高出光率。

本实施例的技术方案中，光汇聚层200设置于盖板100和像素单元300 之间，本实施例与相关技术相比，光汇聚层200的透镜单元202和像素单元 300之间的距离至少减少了盖板100的厚度，因此，本实施例减少了像素单元 300与透镜单元202之间的距离，有助于降低不同像素单元300发出的光线之间的相互干扰，从而有助于提高显示效果。

在其中一些实施例中，像素单元300和透镜单元202之间的结构包括光学胶层和光汇聚层200的一部分，一般来说，光学胶层的厚度不大于10微米，如图2所示，光汇聚层200中，不构成透镜单元202的基材203部分的厚度不大于100微米，考虑到还可能根据需要设置缓冲层等结构，本实施例的技术方案中，在垂直于盖板100的方向上，透镜阵列201与像素单元300之间的距离小于500微米，在一些实施例中，具体为小于200微米，能够有效降低不同像素单元300发出的光线之间的相互干扰，以提高显示效果。

本实施例的技术方案中，透镜阵列201是在显示基板的盖板100和像素单元300之间直接制作的，相对于相关技术中的后贴合方式，本实施例中的透镜单元202与相对应的像素单元300之间的对位精度更高，本实施例中，具体控制透镜单元202与相对应的像素单元300之间的对位精度小于5微米，从而有助于提高显示效果。

如图1所示，在其中一些实施例中，显示基板还包括光传输层400，光传输层400位于光汇聚层200和盖板100之间，光传输层400的折射率小于光汇聚层200的折射率。

本实施例的技术方案还包括光传输层400，应当理解的是，为了实现光线的汇聚，透镜单元202大致呈凸透镜结构，这样，光汇聚层200朝向盖板100 的一侧表面可以理解为凹凸不平的，本实施例中进一步设置光传输层400，该光传输层400可以理解为具有一定平坦化的作用，以确保显示基板和盖板100 的贴合效果。此外，光线会在光传输层400和光汇聚层200的界面发生折射，本实施例中，光传输层400的折射率小于光汇聚层200的折射率，从而使得光线会在折射后产生汇聚的效果。

在光传输层400和光汇聚层200的形状一定的情况下，光传输层400和光汇聚层200对于光线的汇聚效果是由两者之间的折射率差异决定的，因此，当需要调整对于光线的汇聚效果时，可以首先确定对于光线的汇聚要求，然后选择具有不同折射率的材料制作光传输层400和光汇聚层200，这样，在不改变工艺步骤以及所使用的模具的情况下，即可实现提供不同的光线汇聚效果，有助于简化工艺和降低成本。

在一些实施例中，显示基板为底发射型OLED显示基板，制作过程中，首先在有机基底层210上完成显示基板的制作，然后将该有机基底层210与盖板100相贴合。有机基底层210的材料可以选择聚酰亚胺类材料，本实施例中不做进一步限定。

如图3所示，在其中一些实施例中，光汇聚层200包括有机基底层210，光传输层400包括第一光学胶层220。光汇聚层200远离盖板100一侧还包括第二光学胶层230，第二光学胶层230的折射率小于有机基底层210的折射率，有机基底层210和第二光学胶层230之间可以根据需要设置缓冲层240。

在图3所示实施例中，在有机基底层210朝向盖板100的一侧制作透镜阵列201，进一步的，利用第一光学胶层220作为光传输层400，该第一光学胶层220不仅起到平坦化的作用，还用于实现盖板100和有机基底层210之间的贴合。

如图4所示，在另外一些实施例中，光汇聚层200包括第一光学胶层220，光传输层400包括有机基底层210，光传输层400和盖板100之间还包括第二光学胶层230，第二光学胶层230的折射率小于光汇聚层200的折射率。本实施例中，第二光学胶层230用于实现盖板100和有机基底层210之间的贴合，同时，为了避免光线在由有机基底层210传输至第二光学胶层230中时发生较大的变化，本实施例中控制第二光学胶层230的折射率小于光汇聚层200的折射率，具体的，可以控制第二光学胶层230的折射率与有机基底层210的折射率接近。

本发明实施例提供了一种显示装置，包括以上任一种的显示基板。

显示装置可以包括手机、平板电脑、计算机、车载电脑、智能电视机、可穿戴设备中的至少一项。由于本实施例的技术方案包括了上述显示基板实施例的全部技术方案，因此至少能够实现上述全部技术效果，此处不再赘述。

本发明还提供了一种显示基板的制作方法。

如图5所示，在其中一些实施例中，该方法包括以下步骤：

步骤501：提供一衬底。

本实施例中的衬底可以选择玻璃衬底等，该衬底并非显示基板的一部分，而是用于在制作显示基板过程中承载显示基板。

步骤502：在所述衬底上形成分离层。

该分离层用于在显示基板的部分或全部工序制作完成之后，将衬底与显示基板相分离，一般来说，分离层的材料选择具有与显示基板具有易剥离特性的材料，本实施例中的易剥离特性指的是在某种特定条件下，具有容易分离且不会发生反应或造成其他影响的性能，该特定条件可以指的是温度变化、压强变化、光照、激光烧灼等。

步骤503：在所述分离层上形成光汇聚层，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元。

本实施例中首先在分离层上形成光汇聚层，应当理解的是，该光汇聚层可以直接形成于分离层上，该光汇聚层和分离层之间也可能存在其他结构。

步骤504：在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，其中，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应。

在完成光汇聚层之后，进一步制作像素单元，这里制作像素单元的步骤至少包括制作驱动电路以及发光单元的步骤，此外，还可能根据需要制作封装结构以及其他功能膜层等，这一过程具体可参考相关技术，此处不做进一步限定和描述。

步骤505：将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离。

在完成像素单元的制作之后，使显示基板与分离层相分离，本实施例中以所使用的分离层的材料为对气压敏感的材料做示例性说明，显示基板在真空或负压条件下制作，在制作完成之后，只要破真空即可实现显示基板与分离层的分离，在其他一些实施例中，针对不同材料制作的分离层，还可以通过激光、加热等方式实现显示基板和分离层的分离。

步骤506：在所述光汇聚层远离所述像素单元的一侧设置盖板。

在完成显示基板的制作之后，将上述盖板贴设在光汇聚层远离像素单元的一侧，即获得了上述显示基板实施例中的显示基板。

由于本实施例中能够是做上述显示基板实施例中的显示基板，因此至少能够实现上述全部技术效果，此处不再赘述。

在一个实施例中，所制作的显示基板为图3所示显示基板，该方法具体包括以下步骤：

步骤61：提供一衬底。

步骤62：在所述衬底上形成分离层。

如图6A所示，本实施例中首先在衬底600上形成一分离层601。在形成分离层601之后，不第一时间对分离层601进行固化。

如图6B所示，在形成分离层601之后，利用透镜模具602对分离层601 进行纳米压印，透镜模具602的形状与待形成的光汇聚层的形状基本一致。所使用的模具的形状根据所需形成的透镜单元的形状设置，例如可以是圆形、三角形、正方形或正六边形等不同形状的透镜单元。

在透镜模具602压至分离层601的指定位置之后，对分离层601进行预固化，示例性的，本实施例中对其进行温度70℃，持续时间90秒的预固化，以提高分离层601的硬度。

接下来，控制透镜模具602脱模，在脱模完成之后，对分离层601进行完全固化，示例性的，本实施例中在350摄氏度下对分离层601进行完全固化，使其硬度满足制作后续膜层的硬度要求。

如图6C所示，此时，分离层601相当于形成了透镜模板，分离层601压印后的表面形状与与待形成的透镜单元的外部轮廓是一致的。

应当理解的是，当选用不同材料制作分离层时，应该根据实际情况设定预固化和固化条件。

步骤63：在所述分离层上形成作为光汇聚层的有机基底层，其中，所述有机基底层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列。

如图6D所示，接下来，形成有机基底层603，有机基底层603的材料一般选择聚酰亚胺类材料，形成于分离层上的有机基底层603朝向分离层601 的一侧的形状与压印后形成的透镜模板的形状是一致的，相当于形成了透镜阵列。

步骤64：在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，其中，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应。

在完成有机基底层603的制作之后，进一步参考相关工艺制作后续结构，如图6E所示，可以首先形成缓冲层604，如图6F所示，接下来可以形成第二光学胶层605，如图6G所示，在形成第二光学胶层605之后还可以制作像素单元603，其中，像素单元具体可以包括驱动电路层、发光单元等，此处不再赘述。

步骤65：将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离。

如图6H所示，与分离层相分离的有机基底层603表面为透镜结构。

步骤66：在所述光汇聚层远离所述像素单元的一侧设置盖板。

进一步的，在有机基底层603上形成第一光学胶层607，并进一步在第一光学胶层607上设置盖板608，即完成了显示基板的制作。所制作的显示基板为图3所示实施例中的显示基板。

在另外一个实施例中，所制作的显示基板为图4所示显示基板，此时，该方法具体包括以下步骤：

步骤71：提供一衬底。

步骤72：在所述衬底上形成分离层。

如图7A所示，本实施例中，在衬底700上形成分离层701之后，对分离层701进行完全固化。

步骤73：在所述分离层上形成有机基底材料。

如图7B所示，本实施例中，在形成有机基底材料702之后，不对其进行固化。

步骤74：在所述有机基底材料上压印出透镜模板，使所述有机基底材料形成作为光传输层的有机基底层。

如图7C所示，本实施例中，利用透镜模具703对有机基底材料702进行纳米压印，透镜模具703的形状与待形成的光汇聚层的形状基本一致。

在透镜模具703压至有机基底材料702的指定位置之后，对有机基底材料 702进行预固化，示例性的，本实施例中对其进行温度不高于100℃的预固化，以提高有机基底材料702的硬度。

接下来，控制透镜模具703脱模，在脱模完成之后，对有机基底材料702 进行完全固化，示例性的，本实施例中在350摄氏度下对有机基底材料702 进行完全固化，使其硬度满足制作后续膜层的硬度要求。如图7D所示，固化完成的有机基底材料702形成作为光传输层的有机基底层702A。

同时，所形成的有机基底层702A也相当于形成了透镜模板。

步骤75：在所述有机基底层远离所述衬底的一侧形成作为光汇聚层的第一光学胶层，其中，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

如图7E所示，所形成的第一光学胶层704朝向有机基底层702A的一侧的相当于形成了透镜单元。

步骤76：在所述第一光学胶层远离所述衬底的一侧制作像素单元，其中，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应。

如图7F所示，接下来可以参考图6G所示实施例或相关技术制作像素单元605。

步骤77：将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离。

如图7G所示，接下来，使分离层701与有机基底层702A相分离。

步骤78：在所述光汇聚层远离所述像素单元的一侧设置盖板。

如图7H所示，在有机基底层702A远离像素单元605的一侧形成第二光学胶层706，接下来通过第二光学胶层706将有机基底层702A和盖板707相贴合。本实施例能够制作图4所示实施例中的显示基板。

应当理解的是，在上述各实施例中，如果未提及或强调如何进行固化操作，则指的是按照正常工艺进行固化处理。

在一些实施例中，上述实施例中压印透镜模板的步骤进一步包括：

在压印透镜模板的同时压印出对位标记；

以制作图4所示显示基板为例说明，如图8A所示，首先提供一衬底800，如图8B所示，接下来在衬底800上依次形成分离层801和有机基底材料802，应当理解的是，为例确保显示基板和衬底800的分离效果，分离层801的范围一般要大于有机基底材料802的范围。

如图8C所示，接下来在有机基底材料802上压印透镜模板803，压印完成的有机基底材料802形成有机基底层802A，在压印透镜模板803时，同时压印对位标记804，对位标记804可以压印在衬底800上，在其他一些实施例中，对位标记804也可能压印在分离层801上或形成透镜模板803的有机基底层803A上。

后续制作像素单元的步骤进一步包括：

根据所述对位标记制作像素单元。

由于已经存在对位标记804，所以后续制作像素单元各结构时的对位精度也相对较高，经过测试发现，现有生产线可以实现透明的对位标记804的捕捉，实施时，能够实现控制透镜单元与相对应的像素单元之间的对位精度小于5 微米。

相关技术中在显示基板制作完成之后，通过其他设备贴合包括透镜阵列的膜材，贴合精度较差，且贴合过程中，膜材可能受到挤压或拉伸而发生褶皱或变形，这导致透镜单元与相对应的像素单元之间的对位精度降低，与相关技术相比，本实施例的技术方案能够显著的提高对位精度，有助于提高先显示效果。

在其中一些实施例中，所述在压印透镜模板的同时压印出对位标记，包括：

确定透镜阵列与像素单元的相对排列角度；

根据所述像素排列角度压印透镜模板和对位标记。

应当理解的是，为了确保显示效果，本实施例中的透镜阵列可以以不同的方式和角度排列，其中透镜阵列中包括的多个透镜单元可以正交排列，也可以呈六边形等不同形状排列，同时，透镜单元的排列角度也可以根据需要设置，实施时，只要选择具有合适角度的压印模具或调整压印模具的角度，即可实现制作具有不同偏转角度的透镜阵列，与相关技术相比，制作精度更高，对于透镜偏转角度的控制的灵活性也更高。

以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (12)

1.一种显示基板，其特征在于，包括盖板、位于所述盖板上的光汇聚层、位于所述光汇聚层远离所述盖板一侧的多个像素单元，所述光汇聚层靠近所述盖板的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述透镜单元与相对应的所述像素单元之间的对位精度小于5微米。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，在垂直于所述盖板的方向上，所述透镜阵列与所述像素单元之间的距离小于200微米。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括光传输层，所述光传输层位于所述光汇聚层和所述盖板之间，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光汇聚层包括有机基底层，所述光传输层包括第一光学胶层，所述光汇聚层远离所述盖板一侧还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层的折射率小于所述有机基底层的折射率。

6.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述光汇聚层包括第一光学胶层，所述光传输层包括有机基底层，所述光传输层和所述盖板之间还包括第二光学胶层，所述第二光学胶层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

7.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至6中任一项所述的显示基板。

8.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一衬底；

在所述衬底上形成分离层；

在所述分离层上形成光汇聚层，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧包括透镜阵列，所述透镜阵列包括多个透镜单元；

在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，其中，每一所述透镜单元与一个或多个所述像素单元相对应；

将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离；

在所述光汇聚层远离所述像素单元的一侧设置盖板。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述在所述分离层上形成光汇聚层，包括：

在所述分离层上压印出透镜模板；

在所述分离层上形成作为光汇聚层的有机基底层，其中，所述有机基底层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列；

所述将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离，包括：

将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离；

所述将所述分离层和所述衬底与所述光汇聚层分离之后，还包括：

在所述有机基底层远离所述像素单元的一侧形成作为光传输层的第一光学胶层，其中，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，在所述衬底上形成分离层之后，还包括：

在所述分离层上形成有机基底材料；

在所述有机基底材料上压印出透镜模板，使所述有机基底材料形成作为光传输层的有机基底层；

所述在所述分离层上形成光汇聚层，包括：

在所述有机基底层远离所述衬底的一侧形成作为光汇聚层的第一光学胶层，其中，所述光汇聚层朝向所述衬底的一侧形成与所述透镜模板形状匹配的透镜阵列，所述光传输层的折射率小于所述光汇聚层的折射率。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其特征在于，所述在所述分离层上压印出透镜模板的步骤，或者所述在所述有机基底材料上压印出透镜模板的步骤，包括：

在压印透镜模板的同时压印出对位标记；

所述在所述光汇聚层远离所述衬底的一侧制作像素单元，包括：

根据所述对位标记制作像素单元，使得所述透镜单元与相对应的像素单元之间的对位精度小于5微米。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述在压印透镜模板的同时压印出对位标记，包括：

确定透镜阵列与像素单元的相对排列角度；

根据所述排列角度压印透镜模板和对位标记。

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