CN113295502A - 一种免疫荧光染色机 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种免疫荧光染色机。所述免疫荧光染色机包括壳体,所述壳体内设有可视化人机交流系统、多个状态灯、加液系统、染色制片系统、玻片检测系统、可推拉式废液槽和恒温烘干系统。本发明提供的免疫荧光染色机具有拥有六个制片位,采用多任务核心控制技术,可实现标本染片随来随做,自带玻片烘干功能,玻片探测功能的优点。
Description
技术领域
本发明涉及染片技术领域,尤其涉及一种免疫荧光染色机。
背景技术
目前还未有成熟的免疫荧光染色机,大都采用手工染片,样本只能一个样染,不能同步进行,费时费力,且试剂反应时间和试剂冲洗时间很难把握,从而导致染片效果不够稳定。
因此,有必要提供一种新的免疫荧光染色机解决上述技术问题。
发明内容
本发明解决的技术问题是提供一种拥有六个制片位,采用多任务核心控制技术,可实现标本染片随来随做,自带玻片烘干功能,玻片探测功能的免疫荧光染色机。
为解决上述技术问题,本发明提供的免疫荧光染色机包括:壳体,所述壳体内设有可视化人机交流系统、多个状态灯、加液系统、染色制片系统、玻片检测系统、可推拉式废液槽和恒温烘干系统。
优选的,所述壳体上设有透明罩,所述加液系统、多个所述状态灯和所述染色制片系统位于所述透明罩内。
优选的,所述可视化人机交流系统包括显示器、控制器和电源,所述可视化人机交流系统用于控制所述加液系统、玻片检测系统和恒温烘干系统。
优选的,所述所述加液系统包括多个第一蠕动泵、多个第二蠕动泵和安装在所述壳体一侧的试剂瓶。
优选的,所述染色制片系统包括第一染色仓、第二染色仓、第三染色仓、多个第一载玻片、多个纯水加样头、多个试剂加样头和多个鸭嘴加样头,多个所述鸭嘴加样头分别固定安装在多个所述纯水加样头的底部,所述鸭嘴加样头正对所述第一载玻片,且所述鸭嘴加样头为倾斜设置。
优选的,所述第三染色仓位于所述第一染色仓的顶部,所述第二染色仓位于所述第一染色仓和所述第三染色仓之间,所述第一染色仓上设有废液引流槽,所述废液引流槽为倾斜设置,所述第二染色仓和所述第三染色仓之间设有多个斜口。
优选的,所述第三染色仓的底部设有多个阻挡柱,所述阻挡柱用于对玻片进行定位。
优选的,所述玻片检测系统包括光电传感器,所述光电传感器的型号为FD-11。
优选的,所述可推拉式废液槽位于所述染色制片系统的底部,所述壳体的底部内壁上固定安装有两个导轨,所述可推拉式废液槽与两个所述导轨滑动连接。
优选的,所述恒温烘干系统包括绝缘板、烤片板、加热板和多个第二载玻片,所述绝缘板与所述壳体固定连接,所述加热板固定安装在所述绝缘板的顶部,所述烤片板位于所述加热板的顶部,且所述烤片板与所述绝缘板相接触,多个所述第二载玻片呈线性安装在所述烤片板的顶部。
与相关技术相比较,本发明提供的免疫荧光染色机具有如下有益效果:
1、拥有一体化可设置恒温烘干系统,可多张玻片同时进行自动烘干,最高烘干温度达60℃;
2、采用高精度定距光学检测探头,可探测20mm以内的不透光的实体,实时探测玻片白色区域,当光学探头探测到下方物体时长2s才会认定为插入玻片,给插放玻片预留充足时间;
3、拥有可视化人机界面,可进行参数的调节,可显示染片孔位的工作状态,亦可通过状态灯直观的查看孔位状态;
4、采用多任务核心控制技术,实现样本随来随做,可实现全自动染片和冲洗玻片,大大提高制片效率;
5、采用独特的可拆式斜口冲水接头设计,方便拆装,也避免了水对玻片的直冲导致水的溅射和往反方向溢流,斜口接头对水起到导向作用,有利于对多余试剂冲洗,提高了水的有效利用率;
6、采用独特的斜口设计,便于插入玻片;高精度卡口与双阻挡柱设计,使玻片既可让固定到指定位置又能让玻片保留微小的倾斜角度,双阻挡柱设计使玻片冲片区域无需承托,便于玻片的清洗,有效减少积液藏液;倾斜式废液引流槽,可将染片和取片过程中玻片上的多余废液引流回废液槽内,有效防止多余废液滴落到温控系统或者仪器外。
附图说明
图1为本发明提供的免疫荧光染色机的一种较佳实施例的结构示意图;
图2为图1所示的透明罩去除后的结构示意图;
图3为图1所示的染色制片系统的结构示意图;
图4为图1所示的染色制片系统的侧视结构示意图;
图5为图4所示的第一载玻片、纯水加样头、试剂加样头和鸭嘴加样头的安装结构示意图;
图6为图5所示的侧视结构示意图;
图7为图1所示的可推拉式废液槽的结构示意图;
图8为图1所示的内部结构示意图;
图9为图1所示的恒温烘干系统结构示意图;
图10为图9所示的去除烤片板的结构示意图。
图中标号:1、壳体,2、可视化人机交流系统,3、状态灯,4、加液系统,5、染色制片系统,51、第一染色仓,52、第二染色仓,53、第三染色仓,54、第一载玻片,55、纯水加样头,56、试剂加样头,57、鸭嘴加样头,6、玻片检测系统,7、可推拉式废液槽,8、恒温烘干系统,81、绝缘板,82、烤片板,83、加热板,84、第二载玻片,9、透明罩。
具体实施方式
下面结合附图和实施方式对本发明作进一步说明。
请结合参阅图1-10,其中,图1为本发明提供的免疫荧光染色机的一种较佳实施例的结构示意图;图2为图1所示的透明罩去除后的结构示意图;图3为图1所示的染色制片系统的结构示意图;图4为图1所示的染色制片系统的侧视结构示意图;图5为图4所示的第一载玻片、纯水加样头、试剂加样头和鸭嘴加样头的安装结构示意图;图6为图5所示的侧视结构示意图;图7为图1所示的可推拉式废液槽的结构示意图;图8为图1所示的内部结构示意图;图9为图1所示的恒温烘干系统结构示意图;图10为图9所示的去除烤片板的结构示意图。免疫荧光染色机包括:壳体1,所述壳体1内设有可视化人机交流系统2、多个状态灯3、加液系统4、染色制片系统5、玻片检测系统6、可推拉式废液槽7和恒温烘干系统8。
所述壳体1上设有透明罩9,所述加液系统4、多个所述状态灯3和所述染色制片系统5位于所述透明罩9内。
所述可视化人机交流系统2包括显示器、控制器和电源,所述可视化人机交流系统2用于控制所述加液系统4、玻片检测系统6和恒温烘干系统8。
所述所述加液系统包括多个第一蠕动泵、多个第二蠕动泵和安装在所述壳体1一侧的试剂瓶。
所述染色制片系统5包括第一染色仓51、第二染色仓52、第三染色仓53、多个第一载玻片54、多个纯水加样头55、多个试剂加样头56和多个鸭嘴加样头57,多个所述鸭嘴加样头57分别固定安装在多个所述纯水加样头55的底部,所述鸭嘴加样头57正对所述第一载玻片54,且所述鸭嘴加样头57为倾斜设置。
所述第三染色仓53位于所述第一染色仓51的顶部,所述第二染色仓52位于所述第一染色仓51和所述第三染色仓53之间,所述第一染色仓51上设有废液引流槽,所述废液引流槽为倾斜设置,所述第二染色仓52和所述第三染色仓53之间设有多个斜口。
所述第三染色仓53的底部设有多个阻挡柱,所述阻挡柱用于对玻片进行定位。
所述玻片检测系统6包括光电传感器,所述光电传感器的型号为FD-11。
所述可推拉式废液槽7位于所述染色制片系统5的底部,所述壳体1的底部内壁上固定安装有两个导轨,所述可推拉式废液槽7与两个所述导轨滑动连接。
所述恒温烘干系统8包括绝缘板81、烤片板82、加热板83和多个第二载玻片84,所述绝缘板81与所述壳体1固定连接,所述加热板83固定安装在所述绝缘板81的顶部,所述烤片板82位于所述加热板83的顶部,且所述烤片板82与所述绝缘板81相接触,多个所述第二载玻片84呈线性安装在所述烤片板83的顶部。
与相关技术相比较,本发明提供的免疫荧光染色机具有如下有益效果:
1、拥有一体化可设置恒温烘干系统8,可多张玻片同时进行自动烘干,最高烘干温度达60℃;
2、采用高精度定距光学检测探头,可探测20mm以内的不透光的实体,实时探测玻片白色区域,当光学探头探测到下方物体时长2s才会认定为插入玻片,给插放玻片预留充足时间;
3、拥有可视化人机界面,可进行参数的调节,可显示染片孔位的工作状态,亦可通过状态灯直观的查看孔位状态。
4、采用多任务核心控制技术,实现样本随来随做,可实现全自动染片和冲洗玻片,大大提高制片效率;
5、采用独特的可拆式斜口冲水接头设计,方便拆装,也避免了水对玻片的直冲导致水的溅射和往反方向溢流,斜口接头对水起到导向作用,有利于对多余试剂冲洗,提高了水的有效利用率;
6、采用独特的斜口设计,便于插入玻片;高精度卡口与双阻挡柱设计,使玻片既可让固定到指定位置又能让玻片保留微小的倾斜角度,双阻挡柱设计使玻片冲片区域无需承托,便于玻片的清洗,有效减少积液藏液;倾斜式废液引流槽,可将染片和取片过程中玻片上的多余废液引流回废液槽内,有效防止多余废液滴落到温控系统或者仪器外。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (10)
1.一种免疫荧光染色机,其特征在于,包括:壳体,所述壳体内设有可视化人机交流系统、多个状态灯、加液系统、染色制片系统、玻片检测系统、可推拉式废液槽和恒温烘干系统。
2.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述壳体上设有透明罩,所述加液系统、多个所述状态灯和所述染色制片系统位于所述透明罩内。
3.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述可视化人机交流系统包括显示器、控制器和电源,所述可视化人机交流系统用于控制所述加液系统、玻片检测系统和恒温烘干系统。
4.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述所述加液系统包括多个第一蠕动泵、多个第二蠕动泵和安装在所述壳体一侧的试剂瓶。
5.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述染色制片系统包括第一染色仓、第二染色仓、第三染色仓、多个第一载玻片、多个纯水加样头、多个试剂加样头和多个鸭嘴加样头,多个所述鸭嘴加样头分别固定安装在多个所述纯水加样头的底部,所述鸭嘴加样头正对所述第一载玻片,且所述鸭嘴加样头为倾斜设置。
6.根据权利要求5所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述第三染色仓位于所述第一染色仓的顶部,所述第二染色仓位于所述第一染色仓和所述第三染色仓之间,所述第一染色仓上设有废液引流槽,所述废液引流槽为倾斜设置,所述第二染色仓和所述第三染色仓之间设有多个斜口。
7.根据权利要求5所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述第三染色仓的底部设有多个阻挡柱,所述阻挡柱用于对玻片进行定位。
8.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述玻片检测系统包括光电传感器,所述光电传感器的型号为FD-11。
9.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述可推拉式废液槽位于所述染色制片系统的底部,所述壳体的底部内壁上固定安装有两个导轨,所述可推拉式废液槽与两个所述导轨滑动连接。
10.根据权利要求1所述的免疫荧光染色机,其特征在于,所述恒温烘干系统包括绝缘板、烤片板、加热板和多个第二载玻片,所述绝缘板与所述壳体固定连接,所述加热板固定安装在所述绝缘板的顶部,所述烤片板位于所述加热板的顶部,且所述烤片板与所述绝缘板相接触,多个所述第二载玻片呈线性安装在所述烤片板的顶部。
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