CN113282197B - 一种显示基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，在平行于所述基底的平面上，所述第一子段的正投影至少部分位于所述遮挡层的正投影内。本实施例提供的方案，通过对屏蔽金属走线进行遮挡或者部分遮挡，改善显示均一性。

Description

一种显示基板及显示装置

技术领域

本公开实施例涉及但不限于显示技术，尤指一种显示基板及显示装置。

背景技术

随着对屏幕一体化要求越来越高，在屏幕上集中制作触摸传感器(Touch Sensor)逐渐成为显示屏制作的主流。同时需要在显示区(Active Area，AA)中形成圆孔/跑道孔/Notch(槽口)孔，对屏幕进行更高集成度的制作。随着用户对屏幕视觉体验的需求越来越高，对屏幕的显示均一性有更高的要求，开孔区域存在显示不均的问题，影响显示效果。

发明内容

以下是对本文详细描述的主题的概述。本概述并非是为了限制权利要求的保护范围。

本公开实施例提供了一种显示基板及显示装置，提高显示均一性。

本公开实施例提供了一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，在平行于所述基底的平面上，所述第一子段的正投影至少部分位于所述遮挡层的正投影内。

在一示例性实施例中，所述第一子段的正投影部分位于所述遮挡层的正投影外，且所述第一子段暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致。

在一示例性实施例中，所述边界还包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还包括沿所述非弧形段分布的第二子段，所述第二子段的正投影位于所述遮挡层的正投影内；或者，所述第二子段的正投影部分位于所述遮挡层的正投影外，且所述第二子段暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致，且与所述第一子段暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致。

在一示例性实施例中，所述孔区包括圆孔、跑道孔、槽口孔至少之一。

在一示例性实施例中，所述显示基板还包括位于所述显示结构层和所述触控结构层之间的封装层，所述封装层包括依次设置的第一封装层、第二封装层和第三封装层，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域内的厚度变化小于等于第一预设值，所述厚度为沿垂直于所述基底的方向的尺寸，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域是指在平行于所述基底的平面上，正投影位于所述第一子段的正投影内的区域。

在一示例性实施例中，所述第一预设值包括0.1微米。

本公开实施提供一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，所述第一子段远离所述基底一侧的表面与所述基底的最大距离与最小距离之差小于等于第一预设值。

在一示例性实施例中，所述显示基板还包括位于所述显示结构层和所述触控结构层之间的封装层，所述封装层包括依次设置的第一封装层、第二封装层和第三封装层，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域内的厚度变化小于等于所述第一预设值，所述厚度为沿垂直于所述基底的方向的尺寸，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域是指在平行于所述基底的平面上，正投影位于所述第一子段的正投影内的区域。

在一示例性实施例中，所述第一预设值包括0.1微米。

在一示例性实施例中，所述显示基板还包括设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，在平行于所述基底的平面上，所述屏蔽金属走线的正投影位于所述遮挡层的正投影外。

本公开实施例提供一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，所述第一子段包括多条宽度小于等于第二预设值的屏蔽金属子走线。

在一示例性实施例中，所述边界还包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还包括沿所述非弧形段分布的第二子段，所述第二子段包括多条宽度小于等于所述第二预设值的屏蔽金属子走线。

在一示例性实施例中，所述第二预设值为5微米，所述屏蔽金属子走线的宽度为3微米至5微米。

在一示例性实施例中，所述显示基板还包括设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，在平行于所述基底的平面上，所述屏蔽金属走线的正投影位于所述遮挡层的正投影外。

本公开实施例提供一种显示装置，包括上述显示基板。

本公开实施例包括一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，在平行于所述基底的平面上，所述第一子段的正投影至少部分位于所述遮挡层的正投影内。本实施例提供的方案，通过对屏蔽金属走线进行遮挡或者部分遮挡，减少反射光线，改善显示均一性。

本发明的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

在阅读并理解了附图和详细描述后，可以明白其他方面。

附图说明

附图用来提供对本公开技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本公开实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对技术方案的限制。

图1为一技术方案提供的显示基板示意图；

图2为图1所示显示基板显示不均原理示意图；

图3为一示例性实施例提供的一种显示基板示意图；

图4为一示例性实施例提供的显示基板示意图；

图5为一示例性实施例提供的跑道形孔示意图；

图6为一示例性实施例提供的槽口孔示意图；

图7为一示例性实施例提供的显示基板示意图；

图8为一示例性实施例提供的显示基板示意图；

图9为一示例性实施例提供的显示基板示意图。

具体实施方式

下文中将结合附图对本公开实施例进行详细说明。在不冲突的情况下，本公开实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

在附图的流程图示出的步骤可以在诸如一组计算机可执行指令的计算机系统中执行。并且，虽然在流程图中示出了逻辑顺序，但是在某些情况下，可以以不同于此处的顺序执行所示出或描述的步骤。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。

在附图中，有时为了明确起见，夸大表示了各构成要素的大小、层的厚度或区域。因此，本公开的实施方式并不一定限定于该尺寸，附图中各部件的形状和大小不反映真实比例。此外，附图示意性地示出了理想的例子，本公开的实施方式不局限于附图所示的形状或数值。

本公开中的“第一”、“第二”、“第三”等序数词是为了避免构成要素的混同而设置，并不表示任何顺序、数量或者重要性。

在本公开中，为了方便起见，使用“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系的词句以参照附图说明构成要素的位置关系，仅是为了便于描述本说明书和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本公开的限制。构成要素的位置关系根据描述各构成要素的方向适当地改变。因此，不局限于在公开中说明的词句，根据情况可以适当地更换。

在本公开中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解。例如，可以是固定连接，或可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，或电连接；可以是直接相连，或通过中间件间接相连，或两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本公开中的具体含义。

在本公开中，“平行”是指两条直线形成的角度为-10°以上且10°以下的状态，因此，也包括该角度为-5°以上且5°以下的状态。另外，“垂直”是指两条直线形成的角度为80°以上且100°以下的状态，因此，也包括85°以上且95°以下的角度的状态。

柔性多层结构(Flexible Multi-Layer On Cell，FMLOC)触控信号走线(trace)设计示意图如图1所示。显示基板包括依次设置的显示结构层10、封装层和触控结构层，封装层包括依次设置的第一封装层21、第二封装层22和第三封装层23，第一封装层21和第三封装层23可以是无机封装层，可以采用化学气相沉积(CVD)方式制备，第二封装层22可以是有机封装层，可以采用喷墨打印(IJP)方式制备。触控结构层可以包括屏蔽金属走线31和触控信号走线32。第一封装层21上还可设置阻挡坝41和阻挡坝42。由于触控(touch)走线(屏蔽金属走线31和触控信号走线32)位于第二封装层22流平区域，屏蔽金属走线31与触控信号走线32区域下部第二封装层22坡度角具有微小差异，该差异会导致产品在光照状态下，产生显示不均匀的问题，随着转动角度的不同，会产生局部区域过亮，产品显示不均匀的现象。比如，在一示例性实施例中，第二封装层22爬坡角度变化范围约为0.14°到0.72°，相对应第二封装层22的厚度变化范围约为0.1um到0.5um(观察点高度＝20cm)，屏蔽金属走线31所在区域的第二封装层22厚度约为10.8μm时，将会产生肉眼可见的反射不均现象。理论示意图如图2所示，当光源照射至屏幕100时，会因第二封装层22坡度角的微小差异导致眼睛在接收到反射光的同时接收到由于第二封装层22角度不均所反射的光线，产生能够被眼睛察觉的显示不均问题。比如，眼睛高度为H时，入射角度为φ，入射到眼睛中的光线包括位置L1处平行的表面反射的光线，还包括位置L1-ΔL处存在坡度角θ的表面反射的光线，导致显示不均。

图3和图4(b)(即图4中图(b)，后续类似，不再说明)为本公开实施例提供的一种显示基板的示意图。图3为显示基板的截面示意图，图4(b)为显示基板平面示意图。如图3和图4(b)所示，本公开实施例提供一种显示基板，所述显示基板包括基底9、设置在所述基底9上的显示结构层10，设置在所述显示结构层10远离所述基底一侧的触控结构层，所述显示基板包括显示区101和孔区102，所述孔区102与所述显示区101的边界50包括弧形段(本实施例中，所述边界50均为弧形段)，所述触控结构层可以包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线31和控信号走线32，所述屏蔽金属走线31包括沿所述弧形段分布的第一子段，所述第一子段远离所述基底9一侧的表面与所述基底9的最大距离与最小距离之差小于等于第一预设值。

本实施例中，由于孔区102为圆孔，第一子段可以包括整条屏蔽金属走线31。在其他实施例中，第一子段可以是屏蔽金属走线31的部分。

本实施例中，控制第一子段不同区域与基底的距离差值在预设范围内，使得光线照射到第一子段时产生的反射导致的亮度不均控制在预设范围内，改善局部显示不均匀问题。本实施例提供的方案，无需增加制备步骤，实现工艺简便。

在一示例性实施例中，所述第一预设值可以通过测试确定，根据亮度改善要求进行测试确定第一预设值。

图4(a)为一技术方案提供的显示基板示意图。图4(b)为一实施例提供的显示基板示意图。图4(b)中所示的方案，与图4(a)相比，为了控制屏蔽金属走线31与基底的距离变化，可以缩小屏蔽金属走线31的宽度，使得屏蔽金属走线31与基底的距离在预设范围内。

在一实施例中，所述孔区102包括但不限于圆孔、跑道孔、槽口孔至少之一。如图4所示，孔区102为圆孔。如图5所示，孔区102为跑道孔。如图6所示，孔区102为槽口孔。图4至图6所示孔区102的位置和形状仅为示例，本公开实施例不限于此，孔区102可以是其他形状的孔。

在一示例性实施例中，所述弧形段可以是一个或多个，或者边界全部为弧形段。比如，如图4所示，孔区102为圆形区，边界50均为弧形段。如图5所示，边界包括两个弧形段51和两个非弧形段52。非弧形段52可以是直线段。如图6所示，边界包括两个弧形段51和一个非弧形段52。

在一示例性实施例中，所述显示结构层10可以是液晶显示(LCD)结构层，或者可以是有机发光二极管(OLED)结构层，或者可以是等离子体显示面板(PDP)结构层，或者可以是电泳显示(EPD)结构层。

在一示例性实施例中，所述显示结构层10可以是OLED结构层，OLED结构层包括基底、设置在基底上的驱动结构层、设置在驱动结构层上的发光结构层以及设置在发光结构层上的彩膜结构层。彩膜结构层可以包括彩色滤光片、黑矩阵，以及设置在黑矩阵远离基底一侧的封装层。

在一示例性实施例中，所述显示基板还可以包括位于所述显示结构层10和所述触控结构层之间的封装层，所述封装层包括依次设置的第一封装层21、第二封装层22和第三封装层23，所述第二封装层22被所述第一子段覆盖的区域内的厚度变化小于等于所述第一预设值，所述厚度为沿垂直于所述基底的方向的尺寸，所述第二封装层22被所述第一子段覆盖的区域是指在平行于所述基底9的平面上，正投影位于所述第一子段的正投影内的区域。本实施例中，第一子段与基底9的距离不同是因为第二封装层22的厚度变化引起，因此，第二封装层22的厚度变化小于等于第一预设值，即可使得所述第一子段远离所述基底9一侧的表面与所述基底9的最大距离与最小距离之差小于等于第一预设值。因此，可以通过将屏蔽金属走线31设置在第二封装层22坡度小(厚度变化小)的区域中，改善亮度不均，比如，第二封装层22厚度变化小于等于0.1微米的区域。

在一示例性实施例中，所述第一预设值可以为0.1微米。厚度变化小于等于0.1微米时，屏蔽金属走线31产生的金属反光亮度不均可以忽略，改善了局部亮度不均。

在一示例性实施例中，所述显示基板还包括设置在所述触控结构层远离所述基底9一侧的遮挡层，所述遮挡层9的正投影位于所述孔区102，在平行于所述基底9的平面上，所述屏蔽金属走线31的正投影位于所述遮挡层的正投影外。所述显示基板还可包括设置在所述触控结构层远离所述基底9一侧的盖板，所述遮挡层可以设置在所述盖板靠近所述基底9一侧的表面。所述遮挡层沿所述显示区101和所述孔区102的边界分布。遮挡层靠近显示区101的一侧即为显示区101和孔区102的边界。

本公开实施例提供一种显示基板，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，在平行于所述基底的平面上，所述第一子段的正投影至少部分位于所述遮挡层的正投影内。比如，所述第一子段的正投影位于所述遮挡层的正投影内，或者，所述第一子段的正投影部分位于所述遮挡层的正投影内，部分位于所述遮挡层的正投影外。本实施例提供的方案，对屏蔽金属走线至少部分进行遮挡，可以减少反射光线，避免局部过亮，改善显示均一性。下面分别对全部遮挡和部分遮挡举例进行说明。

图7为一示例性实施例提供的显示基板示意图，其中，图7(a)为遮挡层未遮挡屏蔽金属走线的示意图，图7(b)为遮挡层遮挡屏蔽金属走线的示意图。图7仅示意了部分显示区和部分孔区。如图7(b)所示，本实施例提供的显示基板包括基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区101和孔区102，所述遮挡层的正投影位于所述孔区102，所述孔区102与所述显示区101的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段311，在平行于所述基底的平面上，所述第一子段311的正投影位于所述遮挡层的正投影内。触控结构层还可包括触控信号走线32，位于屏蔽金属走线31靠近孔区102一侧的触控信号走线32的正投影也位于所述遮挡层的正投影内。

图7(b)中两条虚线之间的区域103为遮挡层的覆盖区域。如图7(b)所示，遮挡层完全遮挡了屏蔽金属走线31。

如图7(a)所示，遮挡层未遮挡屏蔽金属走线时，沿弧形段分布的第一子段由于第二封装层的厚度不均，反射造成亮度不均，影响显示效果。本实施例提供的方案，对第一子段进行遮挡，从而避免了屏蔽金属走线31反射造成亮度不均，提高了显示面板的均一性，且实现方式简单，对制备工艺改动不大。

在一示例性实施例中，所述边界还可以包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还可以包括沿所述非弧形段分布的第二子段312，在平行于所述基底的平面上，所述第二子段312的正投影可以位于所述遮挡层的正投影内。本实施例提供的方案，屏蔽金属走线均位于遮挡层内，可以有效的遮挡屏蔽金属走线，避免屏蔽金属走线反光影响显示效果。本公开实施例不限于此，第二子段312的正投影可以位于所述遮挡层的正投影外。

在一示例性实施例中，所述显示基板还可包括设置在所述触控结构层远离所述基底9一侧的盖板，所述遮挡层可以设置在所述盖板靠近所述基底9一侧的表面。显示区和孔区的边界通常设置有黑色遮光层(Black Matrix，简称BM)，避免光线从边缘漏出，遮挡层可以复用已有的位于盖板表面的黑色遮光层，可以通过改变黑色遮光层的覆盖范围，或者，移动屏蔽金属走线所在的位置，使得屏蔽金属走线被黑色遮光层覆盖，从而使得屏蔽金属走线产生的反射将被遮挡，消除了因反射产生的外观显示问题。本实施例提供的方案，避免增加膜层，可以简化工艺，降低成本。本公开实施例不限于此，遮挡层可以独立设置。

在一示例性实施例中，所述遮挡层可以使用黑色油墨制备，但不限于此，可以是其他材料。

图8为一示例性实施例提供的显示基板示意图，其中，图8(a)为遮挡层未遮挡屏蔽金属走线的示意图，图8(b)为遮挡层遮挡屏蔽金属走线的部分区域的示意图。图8仅示意了部分显示区和部分孔区。如图8(b)所示，本实施例提供的显示基板包括基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区101和孔区102，所述遮挡层的正投影位于所述孔区102，所述孔区102与所述显示区101的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段311，所述第一子段311的正投影部分位于所述遮挡层的正投影外，且所述第一子段311暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致。

如图8所示，所述第一子段311暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度W一致。宽度W一致时，不同反射区域反射面积一致，使得金属反射均匀，显示亮度均匀。

本实施例中，对第一子段进行部分遮挡，未遮挡的部分由于宽度一致，反射时的亮度一致，避免因为亮度反射不均匀使得人眼察觉，提高用户体验。本实施例提供的方案，相比遮挡层全部覆盖第一子段的方案，边框更小。在制备屏蔽金属走线时，由于第一子段所在的区域的第二封装层存在坡度，第一子段的宽度容易不一致，从而反射的亮度不均，本实施例中，通过遮挡第一子段的部分区域，使得第一子段暴露的部分宽度一致，将第一子段不同反射区域的亮度调整至反射均匀，提高亮度均一性，避免因为亮度反射不均匀使得人眼察觉，提高用户体验。本实施例提供的方案，对屏蔽金属走线的线宽要求较低(无需减小屏蔽金属走线的线宽，屏蔽金属走线过窄时容易产生电阻压降较大的问题)，也无需扩大遮挡层的覆盖区域(即边框可以较小)。

在一示例性实施例中，所述边界还可以包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还可以包括沿所述非弧形段分布的第二子段312，所述第二子段312的正投影部分位于所述遮挡层的正投影外，且所述第二子段312暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致，且与所述第一子段311暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线的宽度一致。本实施例提供的方案，对第二子段312同样进行部分遮挡，使得非弧形段的反射亮度与弧形段的反射宽度一致，提高了均一性。本公开实施例不限于此，第二子段312可以全部位于所述遮挡层的正投影外，从而可以尽量缩小边框。

在一示例性实施例中，所述显示基板还可包括设置在所述触控结构层远离所述基底9一侧的盖板，所述遮挡层可以设置在所述盖板靠近所述基底9一侧的表面。显示区和孔区的边界通常设置有黑色遮光层(Black Matrix，简称BM)，避免光线从边缘漏出，遮挡层可以复用已有的位于盖板表面的黑色遮光层。可以通过改变黑色遮光层的覆盖范围，或者，移动屏蔽金属走线所在的位置，使得屏蔽金属走线部分被黑色遮光层覆盖，且暴露的部分的宽度一致。本实施例提供的方案，避免增加膜层，可以简化工艺，降低成本。本公开实施例不限于此，遮挡层可以独立设置。

在一示例性实施例中，所述第一子段311远离所述基底9一侧的表面与所述基底9的最大距离与最小距离之差小于等于第一预设值。本实施例提供的方案，结合图4所示方案，将第一子段置于坡度较小的区域，减少亮度不均，且通过遮挡部分区域，提高亮度均一性，因此，可以更好的改善显示效果。

在一示例性实施例中，所述触控结构层还可以包括位于屏蔽金属走线靠近孔区一侧的触控信号线32，在平行于所述基底9的平面上，所述触控信号线32的正投影位于所述遮挡层的正投影内。

图9为一示例性实施例提供的显示基板示意图。图9(a)为屏蔽金属走线为一条较宽的走线的示意图；图9(b)为屏蔽金属走线为多条较细走线的示意图。如图9(b)所示，本实施例提供的显示基板包括基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，所述显示基板包括显示区101和孔区102，所述孔区102与所述显示区101的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段311，所述第一子段311可以包括多条宽度小于等于第二预设值的屏蔽金属子走线。

所述第二预设值可以根据亮度改善需求进行设置。比如，可以通过测试确定。

本实施例提供的方案，将第一子段分为多个较细走线，相比使用一条较宽的走线，可以避免因大面积金属反射造成区域发亮问题，提高显示均一性。通过设置多个走线，相比使用一条较细的走线，可以改善由于走线较细造成的电阻压降较大的问题。屏蔽金属子走线的数量可以根据需要设置。多条屏蔽金属子走线可以电连接。

在一示例性实施例中，所述多条屏蔽金属子走线的延伸方向与所述边界的延伸方向一致，即屏蔽金属子走线沿边界延伸分布。

在一示例性实施例中，所述边界还可以包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还可以包括沿所述非弧形段分布的第二子段312，所述第二子段312可以包括多条宽度小于等于第二预设值的屏蔽金属子走线。第二子段312可以是第一子段311的延伸，即，屏蔽金属走线可以包括沿边界分布的多条屏蔽金属子走线。本公开实施例不限于此，第二子段312可以是一条较宽的屏蔽金属走线。

在一示例性实施例中，所述第二预设值可以但不限于为5微米，所述屏蔽金属子走线的宽度可以为3微米至5微米。屏蔽金属子走线的宽度为3微米至5微米时，由于反射造成的局部区域亮度较小，可以较好的改善显示均一性。

在一示例性实施例中，所述显示基板还可以包括设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述遮挡层的正投影可以位于所述孔区102，在平行于所述基底的平面上，所述屏蔽金属走线的正投影位于所述遮挡层的正投影外。本实施例提供的方案，遮挡层无需遮挡屏蔽金属走线，因此，不会影响边框的宽度。

在一示例性实施中，部分屏蔽金属子走线的正投影可以位于所述遮挡层的正投影内。

上述多个实施例中的特征可以进行组合。比如，可以将屏蔽金属子走线设置在坡度较小的区域，即屏蔽金属子走线与基底的距离小于等于第一预设值；又比如，屏蔽金属走线被遮挡层部分遮挡时，暴露的部分可以是多条屏蔽金属子走线，且每条屏蔽金属子走线的宽度一致，不同屏蔽金属子走线的宽度可以相同，或者，不同。

本公开实施例还提供了一种显示装置，包括前述实施例的显示基板。显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (15)

1.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，在平行于所述基底的平面上，所述第一子段的正投影至少部分位于所述遮挡层的正投影内。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一子段的正投影部分位于所述遮挡层的正投影外，且所述第一子段暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述边界还包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还包括沿所述非弧形段分布的第二子段，所述第二子段的正投影位于所述遮挡层的正投影内；或者，所述第二子段的正投影部分位于所述遮挡层的正投影外，且所述第二子段暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致，且与所述第一子段暴露在所述遮挡层的正投影外的部分的走线宽度一致。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述孔区包括圆孔、跑道孔、槽口孔至少之一。

5.根据权利要求1至4任一所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述显示结构层和所述触控结构层之间的封装层，所述封装层包括依次设置的第一封装层、第二封装层和第三封装层，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域内的厚度变化小于等于第一预设值，所述厚度为沿垂直于所述基底的方向的尺寸，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域是指在平行于所述基底的平面上，正投影位于所述第一子段的正投影内的区域。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述第一预设值包括0.1微米。

7.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，所述第一子段远离所述基底一侧的表面与所述基底的最大距离与最小距离之差小于等于第一预设值。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述显示结构层和所述触控结构层之间的封装层，所述封装层包括依次设置的第一封装层、第二封装层和第三封装层，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域内的厚度变化小于等于所述第一预设值，所述厚度为沿垂直于所述基底的方向的尺寸，所述第二封装层被所述第一子段覆盖的区域是指在平行于所述基底的平面上，正投影位于所述第一子段的正投影内的区域。

9.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述第一预设值包括0.1微米。

10.根据权利要求7至9任一所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，在平行于所述基底的平面上，所述屏蔽金属走线的正投影位于所述遮挡层的正投影外。

11.一种显示基板，其特征在于，包括：基底、设置在所述基底上的显示结构层，设置在所述显示结构层远离所述基底一侧的触控结构层，所述显示基板包括显示区和孔区，所述孔区与所述显示区的边界包括弧形段，所述触控结构层包括沿所述边界分布的屏蔽金属走线，所述屏蔽金属走线包括沿所述弧形段分布的第一子段，所述第一子段包括多条宽度小于等于第二预设值的屏蔽金属子走线。

12.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述边界还包括非弧形段，所述屏蔽金属走线还包括沿所述非弧形段分布的第二子段，所述第二子段包括多条宽度小于等于所述第二预设值的屏蔽金属子走线。

13.根据权利要求11或12所述的显示基板，其特征在于，所述第二预设值为5微米，所述屏蔽金属子走线的宽度为3微米至5微米。

14.根据权利要求11所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述触控结构层远离所述基底一侧的遮挡层，所述遮挡层的正投影位于所述孔区，在平行于所述基底的平面上，所述屏蔽金属走线的正投影位于所述遮挡层的正投影外。

15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至14任一所述的显示基板。