CN113163984B - 具有被动减烟的接触式烤炉 - Google Patents

Abstract

接触式烤炉设计，具有减少烟的产生或者否则扩散烟以降低烟的可见性的特征，这样的烟由蒸汽和燃烧的油脂的组合构成，并且在诸如肉类产品的食品的烹饪期间产生。接触式烤炉利用上烤炉壳体和下烤炉壳体中的一者或两者中的被动空气流来减少烟的产生，并更好地扩散烟以降低离开接触式烤炉的烹饪室的烟的可见性。

Description

具有被动减烟的接触式烤炉

优先权声明

本申请要求2018年10月4日提交的序列号为62/741,328的美国临时专利申请的权益，该美国临时专利申请的公开内容通过引用整体并入本文。

技术领域

本发明涉及接触式烤炉(contact grill)，特别是涉及改进的接触式烤炉，其在烹饪食品时具有减少的烟排放。

背景技术

接触式烤炉通常包括上烤盘和下烤盘，它们典型地分别容纳在铰接在一起的上壳体和下壳体内。每个烤盘可以被可控地加热。这样，食品(例如一个或多个汉堡包)可以通过放置在下烤盘表面上而被烹饪，然后上烤盘下降到食品上并与食品基本完全接触，同时烤盘被加热。接触式烤炉由通过一组可移动的烤盘同时烹饪食品的两侧的能力来限定。典型地，加热元件是电阻加热元件，诸如本身是众所周知的Cal-rod加热元件。

也典型地，上外壳和下外壳通过浮动铰链铰接在一起，该浮动铰链允许接触式烤炉容纳不同厚度的食品，并增强上烤盘位于食品上以基本上与食品完全接触的能力。George 烤炉是一种流行类型的接触式烤炉，该烤炉由本发明的受让人——威斯康星州米德尔顿的品谱(Spectrum)控股公司销售和制造。

接触式烤炉被设计成主要用作厨房物品，因此类似于在煎锅上烹饪汉堡包，在烹饪期间产生的烟留在厨房内。具体地，在接触式烤炉的情况下，烟沿着接触式烤炉的侧面或背面离开接触式烤炉。注意到的是，在烹饪肉类的情况下，烟通常包括来自肉类中的水的蒸汽和同样来自肉类的燃烧的脂肪的组合。在作为汉堡包的磨碎的牛肉的情况下，蒸汽很可能包括在烹饪周期内离开烤炉的大部分烟。

与使用用于烹饪汉堡包的煎锅不同，例如，在设有倾斜设计的接触式烤炉中，来自汉堡包的肉类脂肪典型地从下烤盘的烹饪表面流出，以便特别是流入油脂收集盘或承滴盘中。留在加热的烹饪表面上的油脂越少，由于肉类脂肪的燃烧而产生的烟越少。倾斜的接触式烤炉通常包括上烤盘和下烤盘，它们相对于单元的前边缘以一定角度或大约5至10度被支撑，其中承滴盘位于下烤盘的前边缘附近。

发明内容

本发明针对接触式烤炉设计，其具有在一方面减少烟的产生，或者否则在另一方面扩散烟以降低烟的可见性的特征，这样的烟(蒸汽和燃烧的油脂)在诸如肉类的食品的烹饪期间产生。本发明的接触式烤炉利用上烤炉壳体体和下烤炉壳体体中的一者或两者中的被动空气流来减少烟的产生，并更好地扩散烟以降低离开接触式烤炉的烹饪室的烟可见性。

流过上壳体的流体(环境空气)流可以包括从烹饪室流过上烤盘或围绕上烤盘的流体流。此外，还可以有利地促进补充流入和流出上壳体的流体流，以扩散来自于烹饪室的产生的烟。流过下壳体的流体流可以允许例如环境空气进入下壳体。然后，当烹饪室被加热时，该空气可以通过自然对流的流体流被吸入烹饪室，该流体流可以冷却下烤盘下方的下壳体内的环境，并且提供进入烹饪室中的流体流，以扩散产生的烟。冷却下壳体内的环境允许通过油脂盘在下烤盘下方收集油脂，例如，油脂不会在油脂盘内燃烧以减少油脂烟的产生。

在一个方面，本发明针对一种接触式烤炉，该接触式烤炉包括：下壳体，其包括下烤盘和用于下烤盘的受控加热的下加热元件，下加热元件与温度控制电路电连接；上壳体，其包括上烤盘和用于上烤盘的受控加热的上加热元件，上加热元件与温度控制电路电连接；以及铰链，其可操作地连接下壳体和上壳体，并允许下壳体和上壳体相对于彼此的移动，以用于允许一个或多个食物放置成与下烤盘和上烤盘接触，并创建烹饪室。有利地，上壳体被通风以允许流过其从烹饪室到上壳体的外部的流体流。上壳体还可包括来自上烤盘和上壳体之间的内部空间的至少一个出口、低于出口定位的至少一个进气口，以及允许从烹饪室进入上壳体室中的流体流的至少一个开口。

接触式烤炉被通风，使得在烹饪周期内，从烹饪室进入上壳体的内部空间中的开口允许作为第一上流体流路径的经加热的流体从烹饪室进入上壳体的内部空间中的被动流以及后续经由出口来自内部空间的流体流，且进一步地，流过上壳体的内部空间的流体流被动地将环境空气经由进气口吸入上壳体的内部空间中，由此创建第二上流体流路径。优选地，经加热的流体从烹饪室进入上壳体的内部空间中的流体流还引起进入烹饪室中的流体流。

下壳体还可包括进入下壳体的内部中的进入口，并且下烤盘包括至少一个开口，使得能够通过被动地将空气吸入烹饪室中而创建下流体流路径。可以设置从烹饪室进入上壳体的内部空间中的多个开口，其中多个开口优选地布置在上烤盘的烹饪接触区的外部。还可以设置上壳体的多个出口和多个入口，其中每个出口可优选地定位于每个入口的上方。上烤盘可以包括穿过上烤盘设置的多个开口的图案。同样，下烤盘可以包括穿过下烤盘设置的多个开口的图案。滑动挡板还可以并入在上壳体和下壳体之间，以用于限制从接触式烤炉的前部、侧部和后部进入烹饪室中的空气流。这样的滑动挡板可以包括来自上烤盘和下烤盘中的一者或上壳体和下壳体中的一者的延伸元件，以及来自上烤盘和下烤盘中的另一者或上壳体和下壳体中的另一者的凹陷元件，使得在上烤盘和下烤盘彼此分离的范围内限制空气流。

在本发明的另一方面，提供了一种接触式烤炉，其包括：下壳体，其包括下烤盘和用于下烤盘的受控加热的下加热元件，下加热元件与温度控制电路电连接；上壳体，其包括上烤盘和用于上烤盘的受控加热的上加热元件，上加热元件与温度控制电路电连接；以及铰链，其可操作地连接下壳体和上壳体，并允许下壳体和上壳体相对于彼此的移动，以用于允许一个或多个食物放置成与下烤盘和上烤盘接触，并创建烹饪室。下壳体可以包括通向下壳体的内部的进入口，并且下烤盘可优选地包括至少一个开口，使得空气能够流入下壳体并从下烤盘的开口流出进入烹饪室中。下壳体还可以包括可移除地定位在下壳体中的承滴盘。

接触式烤炉的上壳体优选地被通风以允许流过其从烹饪室到上壳体的外部的流体流，上壳体可以包括来自上烤盘和上壳体之间的内部空间的至少一个出口、低于出口定位的至少一个进气口，以及允许从烹饪室进入上壳体室中的流体流的至少一个开口。因此，上壳体被通风，使得在烹饪周期内，从烹饪室进入上壳体的内部空间中的开口允许作为第一上流体流路径的经加热的流体从烹饪室进入上壳体的内部空间中的被动流以及后续经由出口来自内部空间的流体流。流过上壳体的内部空间的流体流可被动地将环境空气经由进气口吸入上壳体的内部空间中，由此创建第二上流体流路径。此外，经加热的流体从烹饪室进入上壳体的内部空间中的流体流还能引起进入烹饪室中的流体流。

下壳体还可包括进入下壳体的内部中的进入口，并且下烤盘可包括至少一个开口，使得能够通过被动地将空气吸入烹饪室中而创建下流体流路径。可以设置从烹饪室进入上壳体的内部空间中的多个开口，其中多个开口优选地布置在上烤盘的烹饪接触区的外部。还可以设置上壳体的多个出口和多个入口，其中每个出口可优选地定位于每个入口的上方。上烤盘可以包括穿过上烤盘设置的多个开口的图案。同样，下烤盘可以包括穿过下烤盘设置的多个开口的图案。滑动挡板还可以并入在上壳体和下壳体之间，以用于限制从接触式烤炉的前部、侧部和后部进入烹饪室中的空气流。这样的滑动挡板可以包括来自上烤盘和下烤盘中的一者或上壳体和下壳体中的一者的延伸元件，以及来自上烤盘和下烤盘中的另一者或上壳体和下壳体中的另一者的凹陷元件，使得在上烤盘和下烤盘彼此分离的范围内限制空气流。

在又一方面，本发明针对一种接触式烤炉，其包括：下壳体，其包括下烤盘和用于下烤盘的受控加热的下加热元件，下加热元件与温度控制电路电连接；上壳体，其包括上烤盘和用于上烤盘的受控加热的上加热元件，上加热元件与温度控制电路电连接；以及铰链，其可操作地连接下壳体和上壳体，并允许下壳体和上壳体相对于彼此的移动，以用于允许一个或多个食物放置成与下烤盘和上烤盘接触，并创建烹饪室。优选地，上壳体被通风以允许流过其从烹饪室到上壳体的外部的流体流。此外，上壳体可包括来自上烤盘和上壳体之间的内部空间的至少一个出口、低于出口定位的至少一个进气口，以及允许从烹饪室进入上壳体室中的流体流的至少一个开口。更优选地，下壳体可包括通向下壳体的内部的进入口，并且下烤盘可包括至少一个开口，使得空气能够流入下壳体并从下烤盘的开口流出进入烹饪室中。下壳体还可包括可移除地定位在下壳体中的承滴盘。

附图说明

图1是按照本发明的接触式烤炉的透视图，示出了处于打开位置的上壳体和上烤盘，该上壳体和上烤盘设有用于创建穿过上壳体的部分流体流路径的开口。

图2是图1的接触式烤炉的透视图，示出了处于闭合位置的上壳体和上烤盘，该上壳体和上烤盘设有用于创建穿过上壳体的部分流体流路径的开口。

图3是图1的接触式烤炉的透视图，其中上烤盘和下烤盘被移除，以示出上壳体和下壳体的内部空间内的上加热元件和下加热元件。

图4是如图3所示的上壳体的透视图，其中上烤盘被从上壳体移除。

图5是本发明的另一个接触式烤炉的透视图，包括处于打开位置的上壳体和上烤盘，并且下壳体和下烤盘设有用于创建穿过下壳体的部分流体流路径的开口。

图6是按照本发明的又一个接触式烤炉的透视图，示出了处于打开位置的上壳体和上烤盘，以及下壳体和下烤盘，该上壳体和上烤盘设有用于创建穿过上壳体的部分流体流路径的开口，而下壳体和下烤盘设有用于创建穿过下壳体的部分流体流路径的开口。

图7是与图6相似的视图，但是具有稍微不同的定向，并且示出设置在上壳体内上烤盘上方的过滤介质。

图8是图7的上壳体的透视图，其中上烤盘被移除以示出设置在上壳体内的过滤介质的实施例。

图9是与图6相似的按照本发明的又一个接触式烤炉，但是穿过上烤盘的开口设置在上烤盘的烹饪区域的外部。

图10是图9的接触式烤炉的透视图，其中上壳体打开，并且示出可以设置在上加热元件和上壳体之间的上屏蔽件。

图11是按照本发明的又一个接触式烤炉的透视图，示出了处于闭合位置的上壳体和上烤盘，以及下壳体和下烤盘，该上壳体和上烤盘设有细长开口和一系列通气孔，以用于创建穿过上壳体的部分流体流路径，而该下壳体和下烤盘设有前开口，以用于创建穿过下壳体的部分流体流路径。

图12是图11的接触式烤炉的横截面图，示出设置在上烤盘和下烤盘之间的烹饪室以及由上烤盘和下烤盘的特征提供的滑动挡板。

具体实施方式

本发明针对接触式烤炉设计，其具有在一方面减少烟的产生，或者否则在另一方面扩散烟以降低烟的可见性的特征，这样的烟在食物的烹饪期间产生。如上所述，当烹饪食品(诸如肉类，其典型地包括动物脂肪和水的内容物)时，在烹饪期间产生作为蒸汽和燃烧的脂肪的组合的烟。对于磨碎的牛肉，水含量在烹饪期间可以产生比燃烧脂肪所产生的烟更大量的蒸汽。

图1示出了接触式烤炉10，该接触式烤炉10包括下壳体12、上壳体14和铰链组件16，该铰链组件16允许上壳体14到下壳体12的枢转移动。铰链组件优选地还允许上壳体14相对于下壳体12的平移移动，以允许改变上壳体14和下壳体12之间的间隔，从而容纳不同厚度的食品。铰链组件16优选地是所谓的浮动铰链，这种浮动铰链本身在现有技术的接触式烤炉的设计中是已知的。例如，在Guckenberger等人的美国专利9,901,209中描述了一种这样的铰链组件，该专利的全部内容通过引用整体并入本文。

下烤盘18诸如通过下壳体12的上周边表面部分20可操作地支撑到下壳体12，如图3中所示。优选地，下烤盘18可容易地从下壳体12移除的，以便于清洁，并且可通过机械闩锁组件(诸如弹簧夹等，因为这种紧固件是常规已知的)将下烤盘18保持在适当的位置，并致使下烤盘18可移除。下烤盘18优选地与加热元件22传导接触，该加热元件22优选地装配在下烤盘18的底部上的互补凹槽或通道内，该互补凹槽或通道可以与下烤盘18一体地形成(参见图4，下面将详细讨论上烤盘的类似凹槽)。凹槽或通道可用于将下烤盘18适当地定位到下壳体12，并且还起到保护加热元件22不与油脂直接接触的作用，同时还增强传导的热传递。下加热元件22优选地是Cal-rod型加热元件，其是电阻型加热元件。按照本发明，可以设想其它的加热元件，包括传导、对流和/或辐射能量以加热下烤盘18的那些加热元件。

再参照图1，下烤盘示出为具有油脂出口槽24，油脂出口槽24通向可支撑在下烤盘18下方的承滴盘26。承滴盘26可以诸如通过沿着承滴盘26的多个相对侧的滑动引导表面或者通过坐落在下壳体12的底部上而被支撑到下壳体12。下壳体12的前开口25允许从接触式烤炉10的前部接近承滴盘26。可选地，这种设计可以在下烤盘18的前边缘处具有传统的承滴盘，并且可以省去油脂出口槽24和前开口25。在任何情况下，优选的是，至少下烤盘18以一定角度被支撑，以引起油脂流到槽24或所提供的其它油脂承滴盘。应当注意，烤盘18本身可以水平地支撑到下壳体12，并且烤盘18的格栅脊部图案可以替代地创建斜面，并因此适应油脂流动。

上烤盘28同样可操作地与上壳体14连接。盘28优选地通过现有技术设计中已知的手段机械地保持在上壳体14的适当位置，以允许上烤盘28与上壳体14的可移除的连接，以用于清洁。机械弹簧夹29在图1和图4中示出并用于此目的。

图4示出了加热元件30的示例，该加热元件30布置和支撑在上壳体14内，以向上烤盘28提供传导的热传递。同样，加热元件30优选地是Cal-rod型电阻加热元件，但也可以是任何其它传导、对流和/或辐射加热元件。下加热元件22和上加热元件30优选地与温度控制电路电连接，该温度控制电路的目的是在这两个加热元件由烤盘18和28中的一者或两者的反馈温度传感器最低程度地控制下，向这两个加热元件提供电流。

图4示出了从上壳体14移除并设置在其下方的上烤盘28，因此示出了上烤盘18的背面。如下面关于下烤盘18所述，上烤盘28优选地包括与上加热元件30的设计互补的一体地形成的凹槽或通道32。这允许上加热元件30帮助上烤盘28正确地定位到上壳体14。凹槽或通道32还保护加热元件30不与油脂(油脂可能从烹饪食物中溅出)直接接触，并增强传导的热传递。不需要限定通道32的这种结构，并且加热元件可以简单地接触烤盘28的背面，烤盘28本身可以是平的或其它形状，诸如通过提供遵循与加热元件30类似的图案的凸起表面。对于下烤盘18的表面的设计也是如此。如果替代地使用其它类型的加热元件和热传递方法，也可以改变设计以管理油脂、增强热传递和/或烤盘位置。

在本发明的该实施例中，上烤盘28设有多个贯通开口34的图案。开口34的这种图案布置和尺寸设置成允许从烹饪室36(图1)到上烤盘28上方的上壳体14内的内部空间37(图4)的流体流(气体和液体的任何组合，可能具有悬浮固体)。当上加热元件优选地定位于凹槽或通道32内时，开口也被布置成适应上加热元件30的形状，这保护上加热元件30不接触可能溅出或以其它方式流过开口34的油脂。

烹饪室36包括当食品定位于下烤盘18上并且上烤盘28下降到与食品接触的位置时形成在下壳体12和上壳体14之间的空间。多个开口34的图案可以以任何数量的方式变化，应当理解，期望的是，创建具有某种充分性的流体流，使得在烹饪期间产生的烟可以出于如下所述的原因以期望的定量水平行进到上壳体的内部空间37中。期望的水平优选地基于烟量，诸如在给定烹饪时段的设定数量的汉堡包的烹饪期间，该烟量基于特定产品而产生。在任何情况下，穿过上烤盘28并进入内部空间37的开口34提供了上空气流路径的初始部分的一个示例。

参照图2，上壳体14还包括限定上空气流路径的附加部分的其它特征。具体地，优选地限定允许流体从内部空间37流到外部的特征，诸如开口38，以及允许附加的流体/空气流进入内部空间37中的另一特征，例如开口40。通过这种布置，创建上流路径，使得流体(如包含空气和烟，其同样可以包括气体、液体和/或悬浮的固体)可以以被动方式流过上壳体14离开烹饪室36。

具体地，上壳体14被示出为包括优选地布置在上壳体14的上后部的一系列出口38。这些开口38优选位于内部空间37的最高点，以用于经加热的气体的向上的自然流动。与上烤盘28中的开口一样，开口38的数量和尺寸根据在烹饪期间提供减少可见烟的期望结果的流来确定。这些开口38允许从烹饪室36产生的空气/烟从内部空间37排出。

开口40还容纳进入内部空间37的附加空气流。在图2中示出了一系列开口40作为示例。这些开口40基于在典型烹饪操作期间以及食品设在上烤盘板28和下烤盘板18之间的烹饪室36的情况下上壳体14的使用位置而可操作地定位在开口38下方。因此，除了从烹饪室36流到和流出出口38的流体流之外，附加的空气可以从入口40流到出口38。

来自烹饪室36的热空气/烟上升穿过上壳体14的内部空间37的动作在开口40处产生抽气效果。该动态活动基于热气体从开口34穿过内部空间37到出口38的流动速率将空气吸入内部空间37。因此，上流路径实际上是来自烹饪室36的流体流与流入和流出上壳体14的内部空间37的流体流的组合。经由开口40进入内部空间37中的空气流增加了内部空间37内的空气量，并且该附加空气流可以通过与烟混合而消散在内部空间内的烟，并且还可以甚至潜在地将烟冷却到蒸汽和/或油脂的冷凝点。

开口38和开口40的数量、尺寸和形状可以像上烤盘28的那些开口34一样变化，以修改和控制期望的上流路径图案。可期望的是，按照本发明，至少上述两个空气流路径是通过自然被动气流在其在烹饪室37内被加热时创建的。来自烹饪室37的上升气体促使烟在内部空间37内混合，然后它们的混合物流过出口38。外部空气也通过上升气体的作用经由开口40被吸入内部空间37中。

还应当理解，空气也可以从其它源进入上流路径。在图1的实施例中，空气可以经由前开口25和油脂槽24流入烹饪室36。来自烹饪室36的上升气体的作用也将吸入处于较低水平面处的空气。同样，空气可以从烹饪室36的潜在边缘周围进入烹饪室36，在该潜在边缘处，由于在上烤盘28和下烤盘18之间的食品而在上烤盘28和下烤盘18之间存在任何开口。优选的是，通过包括上壳体14和下壳体12的重叠部分来限制和/或控制进入流系统的这种侧空气流，如下面在本发明的某些示例中所描述的，但是这不是减少可见烟的产生所必需的。重叠的上壳体14和下壳体12还防止烟从边缘周围逸出，使得烟流替代地流入内部室37。

图5示出了本发明的接触式烤炉110的另一个实施例。该实施例包括接触式烤炉10的许多类似的特征，并且类似的构件不再详细描述。下壳体112与上壳体114铰接。下烤盘118由下壳体112可操作地支撑，而上烤盘128由上壳体114可操作地支撑。

在该实施例中，下烤盘118包括多个开口150的图案，开口150被策略性地设置成不与下加热元件(未图示，但类似于上面关于22所描述的)干涉。这些开口150的一个目的是允许在烹饪期间产生的油脂从下烤盘118滴落到位于下烤盘118正下方的下壳体112内的承滴盘126。如上所讨论的，在下烤盘的背面上设置凹槽或通道，为加热元件提供了保护，使得滴下的油脂不会接触加热元件。

下壳体112的前部还优选地包括开口125，以允许空气流进入下壳体112，并且还允许接近、移除和插入承滴盘126，该承滴盘126可操作地支撑在至少下烤盘118的开口150的下方，如图所示。承滴盘126可以另外通过另外提供的通路(诸如在下壳体112的侧面或背面)相对于下壳体112的内部插入和移除。

同样根据该实施例，上烤盘128可操作地支撑到上壳体114，但是上烤盘128是实心烤盘，其没有设置如在上述第一实施例中那样用于限定穿过上壳体的流体流路径的一部分的任何开口。这样，上壳体114不需要设置有如上所述的其它流体流路径特征。替代地，该实施例的流路径将仅包括下流路径，由此空气从下烤盘下方诸如经由开口125进入系统。流过开口125的气流在烹饪室136内的上升的经加热气体的作用下被吸入下壳体112的内部。当食品存在于烹饪室136内时，经加热的气体将在设置在上壳体114和下壳体112之间的任何敞开区域中离开接触式烤炉。

承滴盘126优选地定位在下加热元件下方足够低的位置，以将温度保持在低于由于与承滴盘126接触而促使油脂燃烧的点的水平。优选将承滴盘温度保持在至少170℃以下，更优选在150℃以下，最优选在100℃以下。除了承滴盘126在加热元件下方充分隔开之外，吸入下壳体112的空气的空气流还起到冷却承滴盘126和在油脂从下烤盘板118滴落时冷却油脂本身的作用。

当油脂停留在下烤盘118上时，减少油脂的量可减少所产生的烟量。较少的油脂在下烤盘118上燃烧。通过如上所述控制承滴盘126的温度，油脂将在承滴盘126上汇集而不燃烧。与第一实施例的设计不同，设置穿过下烤盘118的开口150的图案允许油脂直接向下行进，并因此不需要使下烤盘的烹饪表面成一角度以促使油脂滴流到前边缘承滴盘。整个接触式烤炉可以具有水平烹饪特性。

在图6中，示出了按照本发明的接触式烤炉210的另一个实施例。该实施例是前述两个实施例的特征的组合。实质上，下流路径和上流路径被组合，使得来自烹饪的经加热的气体被动地在整个接触式烤炉210上创建完整的流体流路径。

该实施例还包括接触式烤炉10的许多类似的特征，并且类似的构件不再详细描述。下壳体212与上壳体214铰接。下烤盘218由下壳体212可操作地支撑，而上烤盘228由上壳体214可操作地支撑。

与第二实施例类似，下烤盘218包括多个开口250的图案，开口250被策略性地设置成不与下加热元件(未图示，但类似于上面关于22所描述的)干涉。这些开口250的一个目的是允许在烹饪期间产生的油脂从下烤盘218滴落到位于下烤盘218正下方的下壳体212内的承滴盘226。同样，如上所述，在下烤盘的背面上设置凹槽或通道，为加热元件提供保护，使得滴下的油脂不接触加热元件。下壳体212的前部还优选地包括开口225，以允许接近、移除和插入承滴盘226，该承滴盘226可操作地支撑在至少下烤盘218的开口250的下方。

与第一实施例类似，上烤盘228设有多个贯通开口234的图案。开口234的这种图案布置和尺寸设置为允许从烹饪室236到上烤盘228上方的上壳体214内的内部空间237的流体流(气体和液体的任何组合，可能具有悬浮固体)。烹饪室236包括当食品定位于下烤盘218上并且上烤盘228下降到与食品接触的位置时形成在下壳体212和上壳体214之间的空间。

上烤盘的开口234和下烤盘的开口250的图案可以分别以任何数量的方式变化，应当理解，期望的是，创建具有某种充分性的流体流，使得在烹饪期间产生的烟可以以期望的定量水平行进到上壳体214的内部空间237中。期望的水平优选地基于烟量，诸如在给定烹饪时段的设定数量的汉堡包的烹饪期间，该烟量基于特定产品而产生。如上所述，穿过上烤盘28并进入内部空间37的开口234提供了上流体流路径的初始部分的一个示例。

优选地，在该实施例中类似地使用包括出口38和入口40的上壳体214的特征，如上所述和如图2所示。这些特征以与上述相同的方式创建上流体流路径。此外，创建了如上所述的下流体流路径。在这种情况下，流向上流路径的流体流主要由经由前开口225、下部壳体212的内部和开口250的下流体流路径提供。

因此，上述实施例的优点也被结合。通过下烤盘218较少的油脂燃烧有利于产生较少的烟，并且上流体流路径减少了从接触式烤炉210排出的可见烟的产生。与上述相同的机制在这里同样适用。因此，完整的被动流体流路径和系统由接触式烤炉210创建。

图7还示出了接触式烤炉210，但还包括设置在上壳体214的结构内的过滤元件252。过滤元件可以是过滤材料的垫或片，并且可以定位在上烤盘228的背面上方，因此也定位在加热元件上方，并且部分地定位在上壳体214的内部空间内。多个过滤器可以在一布置中使用或彼此重叠使用。例如，过滤元件可以布置在每个开口234处，而不是一个覆盖所有开口234。这种过滤材料应该是诸如铝、其它金属、陶瓷、塑料的材料，或能够捕集油脂或其它微粒并能够承受环境温度的任何其它材料。如上所述，可以沿着上壳体214的上流体流路径行进的处于液滴形式的油脂或液体或固体的颗粒优选地可以通过这种过滤器元件252移除。过滤器元件252还优选具有足够的敞开区域，以允许所期望的沿着上流路径的空气流。而且，一个或多个过滤元件252优选是可移除的且可清洁的或可替换的。

图8示出了与图7相似的结构，但是没有上烤盘228。上加热元件230被示出为定位于上壳体内部空间237内，并位于上烤盘228将被支撑的位置和支撑到上壳体214的筛网型过滤器组件254之间。在这种情况下，滤网过滤器254基本上在上壳体214的敞开部分上延伸，但是重要的是过滤器254定位于上壳体214的上流体流路径内。

图6的接触式烤炉210的改进形式在图9中示出。相同的原理适用于该实施例，并且除了开口334设置成穿过上烤盘328之外，这些设计是相似的。如图所示，开口朝向上烤盘328的两侧设置，而不是按上烤盘的图案设置。

实质上，在该实施例中，还期望将开口334定位在上烤盘328的烹饪接触区360的外部。如上所述，开口334优选地提供所期望的流体流量和速率，该流体流量和速率被确定为有利于减少来自接触式烤炉310的可见烟。但是，通过将开口334定位在烹饪接触区360的外部，直接从食品飞溅的油脂将不能直接通过开口334中的任何一个，正如上述开口234可能发生的那样。此外，在烹饪接触区内放置一个或多个食品将不会干扰进入开口334中的流体流。

烹饪接触区360通常是上烤盘的更中心部分，其优选地与下烤盘318的栅格图案及下烤盘318的开口350的图案一致。示出的上烤盘328没有烹饪肋条，但是这样的肋条可以根据需要设置成任何栅格图案，这些肋条基本上设置在烹饪接触区域内，作为(一个或多个)食品应该被定位在何处以进行烹饪的指示器。

还可以设想，开口334不必穿过上烤盘328设置。取而代之，上壳体可包括围绕上烤盘328的至少一部分的周边或部分周边区段，该上烤盘328的至少一部分装配在该区段内。开口334可以替代地设置在上壳体314的周边区段的一个或多个区域中。在这种情况下，整个上烤盘328可以限定烹饪接触区。

图10示出了可以添加到本发明的任何实施例中的附加特征，但是示出为图10的上壳体328的特征。可以设置隔热罩362以将来自加热元件(如在230处所示)的热量反射到上烤盘328的背面，并保持上壳体328的顶部较冷。隔热罩可以例如在沿着其周边的点处通过诸如金属螺钉的常规装置附接到上壳体314。为了允许从上烤盘328的开口334进入上壳体的内部空间337中的流体流，优选地提供类似布置和尺寸设置的开口364穿过隔热罩362。

图11是图9和图10的接触式烤炉的透视图，包括通过铰链组件316连接在一起的下壳体312和上壳体314。上壳体314示出为具有进气孔340和出口338，该进气孔340和出口338示出为单个细长孔，而不是如上所述的在38处的一系列开口。下壳体示出为具有前开口325，承滴盘326也可操作地支撑在该前开口325内。上加热元件330在图12中示出为接合在上烤盘328的背面的接收槽内。

所示的接触式烤炉310处于闭合状态。具体地，上壳体314定位于下壳体312的顶部，其中烤炉侧面被设计成创建对进入烹饪室336中的空气流的挡板。上壳体和下壳体的设计优选地在闭合状态下在其中创建部分烹饪室，如图12所示。在该闭合状态下，烹饪室336部分地设置为限定在上烤盘328和下烤盘318之间。然而，可以设想，上烤盘328可以替代地靠在下烤盘318上。

为了提供部分烹饪室336，上壳体314优选地通过可从烤盘318、328或从壳体312、314它们自身延伸的结构与下壳体312稍微间隔开。更优选的是，间隔结构还提供滑动的流体挡板结构，该滑动的流体挡板结构即使在(诸如通过放入烹饪室336中的任何食品的厚度)使烹饪室336增大时也基本上保持围绕接触式烤炉310的侧面、前部和后部不向烤炉外部敞开。通过这样做，诸如通过前部进入口325和下板开口336，根据需要控制进入烹饪室336中的空气流。此外，诸如通过上板开口334和(一个或多个)出口338，根据需要控制来自烹饪室336的烟的流体流路径。

图12示出了由上烤盘328和下烤盘318的周边部分创建的滑动挡板的示例。图12中的下烤盘318包括在下烤盘318的顶面的高度之下延伸的周边凹部370。侧壁371向下隔开凹部370。在这种情况下，上烤盘328示出为具有向下悬垂的周边延伸元件372。当烤炉处于闭合位置时，周边延伸元件372的远端抵接凹部370，以优选地部分地提供烹饪室336。部分创建的烹饪室336优选地比预期在接触式烤炉310中烹饪的任何预期食物更薄。然而，随着诸如通过将较厚的食品放置在烹饪室336内使烹饪室336增大，延伸元件372将沿着凹部370的侧壁371移动或滑动，直到烹饪室336的尺寸的增大到大于侧壁371的尺寸，侧壁371的尺寸从下烤盘318的烹饪表面延伸到凹部370。

这种结构只是有助于在烹饪期间控制进入烹饪室336中的空气流的滑动挡板的一个示例。如上所述，优选控制流过接触式烤炉310，即流过下壳体312、烹饪室336和上壳体314的流体流，以用于控制减烟和烟的消散。创建滑动挡板的类似延伸结构可以容易地提供上壳体312和下壳体314的构件。用于创建滑动的流体挡板的其它结构可以由外部构件或以其它方式提供。

本发明的上述和建议的实施例中的每一个实施例都导致在烹饪期间通过接触式烤炉减少可见烟。图1至图4、图5、图6至图8和图9至图12的实施例中的每一个实施例在实验室中通过烹饪两个尺寸和形状均匀且含有20％脂肪含量的汉堡包一段类似的时间，进行经验测试。在每种情况下都可观察到烹饪过程，以验证在烹饪过程期间烟的产生。利用图1至图4和图5的接触式烤炉的烹饪过程示出了与包含在现有技术的烤炉中的未改进烤炉的烟的产生相比，改善了可见烟的产生，其中未改进烤炉可作为商品型号为GRP1060B的George接触式烤炉在市场上可获得。对于这两个实施例，与未改进烤炉相比，观察到较少的烟，但是通过目视观察认为烟的产生仍然是中等的。

类似地测试图6至图8和图9至图12的接触式烤炉。这些单元共用对流过下壳体和上壳体以及烹饪室的流体流的控制。如上所述，这些烤炉中的每一个烤炉结合了穿过下烤盘将油脂移除到油脂盘以及从下壳体穿过烹饪室并穿过上壳体的流体流的优点。这两个单元都表现出在整个烹饪过程中被表征为最小程度的可见烟的产生的特征。

还开发了其它可定量的测试方法来测量烟的存在。例如，将本发明的接触式烤炉放置在封闭的环境中并进行如上所述的类似烹饪过程。在每种情况下，1mW、650nm波长的激光器定位于烤炉的上方和一侧，并被引导到定位于烤炉的另一侧的光电二极管(型号BPW21)。激光器在整个烹饪过程期间保持开启并被测量，以便测量在受控环境内产生的烟量。被烟散射或吸收的光的量与所产生的烟的量成线性比例。这种类型的激光布置已经在其它行业中用于测量微粒，诸如排放检测、火灾警报和室内空气质量检测器。

其它电子检测器是可商购的，诸如可从TSI(Incorporated of Shoreview，Minnesota)获得的Dust Trak II^TM气溶胶监测器。该装置使用90°光散射传感器来检测选定尺寸以下的颗粒浓度。

在本发明的上述实施例中，提供了流体流路径，流过流路径的流体流主要是被动流体流，该被动流体流是由在限定的结构内和在限定的结构外上升的经加热的空气的对流作用引起的。在不需要来自其它装置(诸如一个或多个风扇)的空气流辅助的情况下，有利地获得了减少烟的产生和烟的可见性的能力。然而，可以设想，空气流辅助特征可以补充本发明的接触式烤炉内和来自接触式烤炉的流体流。一个或多个风扇可以补充空气流，并且可以安装在上壳体和下壳体中的一者或两者内或附接到上壳体和下壳体中的一者或两者。风扇可以提供正空气流以推动空气流过下壳体和/或上壳体，或者可以利用负压来拉动空气流过下壳体和/或上壳体。

现在已经参考本发明的几个实施例描述了本发明。前面的详细描述和示例仅为了清楚理解而给出。由此不应理解为不必要的限制。对于本领域技术人员将显而易见的是，在不脱离本发明的范围的情况下，可以对所描述的实施例进行许多改变。上述实施方式和其它实施方式在所附权利要求书的范围内。

Claims (19)

1.一种接触式烤炉，包括：

下壳体，其包括下烤盘和用于所述下烤盘的受控加热的下加热元件，所述下加热元件与温度控制电路电连接；

上壳体，其包括上烤盘和用于所述上烤盘的受控加热的上加热元件，所述上加热元件与所述温度控制电路电连接；以及

铰链，其可操作地连接所述下壳体和所述上壳体，并允许所述下壳体和所述上壳体相对于彼此的移动，以用于允许一个或多个食物放置成与所述下烤盘和所述上烤盘接触，并创建烹饪室；

所述上壳体被通风以允许流过其从所述烹饪室到所述上壳体的外部的流体流，所述上壳体包括来自所述上烤盘和所述上壳体之间的内部空间的至少一个出口、低于所述至少一个出口定位的至少一个进气口，以用于创建从所述进气口到所述至少一个出口的第一空气流动路径、以及允许从所述烹饪室进入所述上壳体的内部空间中的流体流的至少一个开口，以用于创建从所述烹饪室到所述至少一个出口的第二空气流动路径，

其中，沿着所述第二空气流动路径的流体流将空气流通过所述进气口并且然后沿着所述第一空气流动路径吸入到所述上壳体的内部空间中。

2.根据权利要求1所述的接触式烤炉，其特征在于，在烹饪周期内，从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的所述开口允许作为第一上流体流路径的经加热的流体从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的被动流以及后续经由所述至少一个出口来自所述内部空间的流体流，并且进一步地，流过所述上壳体的所述内部空间的流体流被动地将环境空气经由所述进气口吸入所述内部空间中，由此创建第二上流体流路径。

3.根据权利要求2所述的接触式烤炉，其特征在于，所述经加热的流体从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的流体流还引起进入所述烹饪室中的流体流。

4.根据权利要求3所述的接触式烤炉，其特征在于，所述下壳体包括进入所述下壳体的内部中的进入口，并且所述下烤盘包括至少一个开口，使得通过被动地将空气吸入所述烹饪室中而创建下流体流路径。

5.根据权利要求1所述的接触式烤炉，其特征在于，包括从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的多个开口，所述多个开口布置在所述上烤盘的烹饪接触区的外部。

6.根据权利要求5所述的接触式烤炉，其特征在于，包括所述上壳体的多个出口和多个入口，其中所述多个出口中的每个出口定位于所述多个入口中的每个入口的上方。

7.根据权利要求1所述的接触式烤炉，其特征在于，所述上烤盘包括穿过所述上烤盘设置的多个开口的图案。

8.根据权利要求7所述的接触式烤炉，其特征在于，所述下烤盘包括穿过所述下烤盘设置的多个开口的图案。

9.根据权利要求1所述的接触式烤炉，其特征在于，还包括在所述上壳体和所述下壳体之间的滑动挡板，以用于限制从所述接触式烤炉的前部、侧部和后部进入所述烹饪室中的空气流，所述滑动挡板包括来自所述上烤盘和所述下烤盘中的一者或所述上壳体和所述下壳体中的一者的延伸元件，以及来自所述上烤盘和所述下烤盘中的另一者或所述上壳体和所述下壳体中的另一者的凹陷元件，使得在所述上烤盘和所述下烤盘彼此分离的范围内限制空气流。

10.一种接触式烤炉，包括：

下壳体，其包括下烤盘和用于所述下烤盘的受控加热的下加热元件，所述下加热元件与温度控制电路电连接；

上壳体，其包括上烤盘和用于所述上烤盘的受控加热的上加热元件，所述上加热元件与所述温度控制电路电连接；以及

铰链，其可操作地连接所述下壳体和所述上壳体，并允许所述下壳体和所述上壳体相对于彼此的移动，以用于允许一个或多个食物放置成与所述下烤盘和所述上烤盘接触，并创建烹饪室；

所述下壳体包括通向所述下壳体的内部的进入口，并且所述下烤盘包括至少一个开口，使得空气能够通过所述进入口流入所述下壳体并从所述下烤盘的所述开口流出进入所述烹饪室中，所述下壳体还包括可移除地定位在所述下壳体中的承滴盘，

其中，所述上壳体被通风以允许流过从所述烹饪室到所述上壳体的外部的流体流，所述上壳体包括来自所述上烤盘和所述上壳体之间的内部空间的至少一个出口、低于所述至少一个出口定位的至少一个进气口，以用于创建从所述进气口到所述至少一个出口的第一空气流动路径，所述上烤盘包括进入所述上烤盘和所述上壳体之间的所述内部空间的至少一个开口，并且所述上壳体包括来自所述内部空间的所述至少一个出口，使得从所述下壳体进入所述烹饪室的空气流还能够流入所述上壳体的内部空间，并随后能够沿第二空气流动路径从所述内部空间排出，

其中，所述上壳体被构造成将空气流从所述空气入口沿着所述第一空气流动路径抽吸到所述出口，

其中，沿着所述第二空气流动路径的流体流将空气流通过所述进气口并且然后沿着所述第一空气流动路径吸入到所述上壳体的内部空间中。

11.根据权利要求10所述的接触式烤炉，其特征在于，在烹饪周期内，从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的所述开口允许作为第一上流体流路径的经加热的流体从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的被动流以及后续经由所述出口来自所述内部空间的流体流，并且进一步地，流过所述上壳体的所述内部空间的流体流被动地将环境空气经由所述进气口吸入所述上壳体的所述内部空间中，由此创建第二上流体流路径。

12.根据权利要求11所述的接触式烤炉，其特征在于，所述经加热的流体从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的流体流还引起进入所述烹饪室中的流体流。

13.根据权利要求12所述的接触式烤炉，其特征在于，所述下壳体包括进入所述下壳体的内部中的进入口，并且所述下烤盘包括至少一个开口，使得通过被动地将空气吸入所述烹饪室中而创建下流体流路径。

14.根据权利要求10所述的接触式烤炉，其特征在于，包括从所述烹饪室进入所述上壳体的所述内部空间中的多个开口，所述多个开口布置在所述上烤盘的烹饪接触区的外部。

15.根据权利要求14所述的接触式烤炉，其特征在于，包括所述上壳体的多个出口和多个入口，其中所述多个出口中的每个出口定位于所述多个入口中的每个入口的上方。

16.根据权利要求10所述的接触式烤炉，其特征在于，所述上烤盘包括穿过所述上烤盘设置的多个开口的图案。

17.根据权利要求16所述的接触式烤炉，其特征在于，所述下烤盘包括穿过所述下烤盘设置的多个开口的图案。

18.根据权利要求10所述的接触式烤炉，其特征在于，还包括在所述上壳体和所述下壳体之间的滑动挡板，以用于限制从所述接触式烤炉的前部、侧部和后部进入所述烹饪室中的空气流，所述滑动挡板包括来自所述上烤盘和所述下烤盘中的一者或所述上壳体和所述下壳体中的一者的延伸元件，以及来自所述上烤盘和所述下烤盘中的另一者或所述上壳体和所述下壳体中的另一者的凹陷元件，使得在所述上烤盘和所述下烤盘彼此分离的范围内限制空气流。

19.一种接触式烤炉，包括：

下壳体，其包括下烤盘和用于所述下烤盘的受控加热的下加热元件，所述下加热元件与温度控制电路电连接；

上壳体，其包括上烤盘和用于所述上烤盘的受控加热的上加热元件，所述上加热元件与所述温度控制电路电连接；以及

铰链，其可操作地连接所述下壳体和所述上壳体，并允许所述下壳体和所述上壳体相对于彼此的移动，以用于允许一个或多个食物放置成与所述下烤盘和所述上烤盘接触，并创建烹饪室；

所述上壳体被通风以允许流过其从所述烹饪室到所述上壳体的外部的流体流，所述上壳体包括来自所述上烤盘和所述上壳体之间的内部空间的至少一个出口、低于所述至少一个出口定位的至少一个进气口，以用于创建从所述进气口到所述至少一个出口的第一空气流动路径、以及允许从所述烹饪室进入所述上壳体的内部空间中的流体流的至少一个开口，以用于创建从所述烹饪室到所述出口的第二空气流，

其中，沿着所述第二空气流动路径的流体流将空气流通过所述进气口并且然后沿着所述第一空气流动路径吸入到所述上壳体的内部空间中，

所述下壳体包括通向所述下壳体的内部的进入口，并且所述下烤盘包括至少一个开口，使得空气能够流入所述下壳体并从所述下烤盘的所述开口流出进入所述烹饪室中，所述下壳体还包括可移除地定位在所述下壳体中的承滴盘。