CN113110704B - 盖板及其制作方法、显示组件、电子设备、贴膜 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种盖板及其制作方法、显示组件、电子设备、贴膜。其中，所述盖板具有一表面；所述盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述盖板的内部延伸，其中，所述离子注入区的折射率大于所述盖板未形成离子注入区的区域的折射率。通过上述方式，能够提高离子注入区的折射率，抑制入射光的反射，进而能够提高盖板的光透过率，提高用户的体验。
Description
技术领域
本申请涉及电子设备的盖板技术领域，特别是涉及一种盖板及其制作方法、显示组件、电子设备、贴膜。
背景技术
电子设备在户外使用时，如果户外光线强烈会导致屏幕反光严重，用户无法或很难看清屏幕上的内容，这样不仅影响了用户对电子设备的使用体验而且对用户的眼睛也有很大的伤害。
发明内容
本申请了提供一种盖板及其制作方法、显示组件、电子设备、贴膜，能够减小电子设备的盖板对光线的反射，满足用户的使用需求。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种盖板，所述盖板具有一表面；所述盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述盖板的内部延伸。其中，所述离子注入区的折射率大于所述盖板未形成离子注入区的区域的折射率。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种盖板的制作方法，包括：提供一盖板原材，所述盖板原材具有一表面和；由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区，所述离子注入区的折射率大于所述盖板原材的折射率。
为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种显示组件，包括显示屏和盖板，所述盖板覆盖于所述显示屏上。其中，所述盖板为上述盖板，所述表面位于远离所述显示屏的一侧。
为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种电子设备，包括壳体和显示组件。所述壳体定义有容置空间，所述显示组件容置于所述容置空间内，且所述显示组件与所述壳体连接。其中，所述显示组件为上述显示组件，所述表面位于远离所述显示屏的一侧。
为解决上述技术问题，本申请采用的又一个技术方案是：提供一种贴膜。所述贴膜具有一表面。所述贴膜上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述贴膜的内部延伸。其中，所述离子注入区的折射率大于所述贴膜未形成离子注入区的区域的折射率。
本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请提供的盖板具有一表面；所述盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述盖板的内部延伸。其中，所述离子注入区的折射率大于所述盖板未形成离子注入区的区域的折射率。由于盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，光线可在靠近所述表面的附近发生类光纤反射和折射，抑制入射光的反射，进而能够提高盖板的光透过率，提高用户的体验，且由于射入到用户的光线减少，能够避免对人眼的进一步伤害。此外，由于离子注入区形成在盖板原材的内部不需要额外贴膜，满足轻薄化的需求。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请一实施例提供的显示组件的结构示意图。
图2是本申请一实施例提供的盖板的俯视图。
图3是图2中离子注入区的微光路图。
图4是本申请一实施例提供的盖板的制作方法的流程示意图。
图5是图4中步骤S20的流程示意图。
图6是本申请一实施例提供的电子设备的结构示意图。
图7是本申请一实施例提供的贴膜的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请的描述中，需要理解的是，属于“中心”、“中间”“内”、“外”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位和位置关系，仅仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或者两个以上，除非另有明确具体的限定。
本申请提供一种显示组件1，请参阅图1，在一实施方式中，显示组件1包括盖板10和显示屏20，盖板10覆盖于显示屏20上。
在一实施例中，显示屏20可用于显示信息，并可为用户提供交互界面。显示屏20可采用LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示)屏，LCD屏可以为TFT(Thin FilmTransistor，薄膜晶体管)屏幕或IPS(In-Plane Switching，平面转换)屏幕或SLCD(SpliceLiquid Crystal Display，拼接专用液晶显示)屏幕。在其他实施例中，显示屏20可为OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)屏或者Micro LED屏。
其中，盖板10具有一远离显示屏20的表面101。显示屏20内的显示光线透过表面101出射到空气中。盖板10上形成有多个间隔设置的离子注入区12。离子注入区12自表面101朝向盖板12延伸。离子注入区12的折射率大于盖板10未形成离子注入区12的区域的折射率.
其中，盖板10的材质包括玻璃、透明陶瓷、或塑胶等透明材料，本申请对此不进行限定。本申请一些实施例中，盖板10的材质为玻璃。一些实施例中，盖板10的厚度为0.3～2.0mm，例如0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm、0.5mm、0.55mm、0.6mm、0.62mm、0.65mm、0.68mm、0.7mm、0.72mm、0.75mm、0.78mm、0.8mm、0.82mm、0.85mm、0.88mm、0.9mm、0.92mm、0.95mm、0.98mm、1.0mm、1.2mm、1.5mm、1.8mm、或2.0mm等，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。
离子注入区12的形状可以呈柱状，例如圆柱或棱柱等，一并参见图2，本申请一实施例中，离子注入区12的形状为圆柱。离子注入区12的深度大于0nm，且小于或等于500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的深度，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。离子注入区12横截面的尺寸为20nm～500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的尺寸，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。横截面的尺寸的具体含义与横截面的形状有关系，如当横截面呈圆形时，横截面的尺寸指的是横截面的直径，当横截面呈正方形时，横截面的尺寸指的是正方形的边长，当横截面呈长方形时，横截面的尺寸指的是长边的长度。相邻离子注入区12的间距为20nm～500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的间距，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。由于离子注入区12的横截面的尺寸在纳米级别且小于或等于500纳米可以有效避免在离子注入区发生光散射，进而可以避免由于光散射导致折射率降低的问题。
离子注入区12的材质包括铅的氧化物和钾的氧化物至少一种。离子注入区12材质与盖板10未形成离子注入区12的区域的材质包含的元素不同，出现元素分层，导致离子注入区12的折射率与盖板10未形成离子注入区12的区域的折射率不同。在本申请实施方式中，离子注入区12的折射率大于盖板10未形成离子注入区12的区域的折射率，光线在入射角合适的情况下可在离子注入区12内发生全反射，从而可在表面的一侧形成类光纤传输、反射，提高盖板的光透过率，抑制反射。
申请人经研究发现，只有特定的铅离子和钾离子中的至少一种离子的注入才能够导致离子注入区12中的特定的晶格畸变，如钾的晶格为体心立方，使离子注入区12的折射率大于盖板10未形成离子注入区12的区域的折射率，进而降低外界光线在盖板10的表面101的反射率。具体地，可参见图3中离子注入区中的光路图。
一些实施方式中，离子注入区12中铅离子或钾离子的浓度大于1015ion/cm2。这时，可使光线在离子注入区12折射率由1.5增大到1.7，例如，1.52、1.55、1.57、1.6、1.62、1.65或1.7等。外界光线在盖板10的表面101的反射率由4.7:100降到1.5:100，甚至更低，例如，4.5:100、4.2:100、4.0:100、3.5:100、3.0:100、2.5:100、2.0:100、1.5:100或1.3:100等，其中，100指的是入射光(外界光线)占的份数。因此，有效降低了外界光线在盖板10的表面101的反射率，提高了光的透过率。
上述实施例中，由于盖板本身能够减少对外界光的反射，因此不需要通过调高显示屏的亮度来提高显示组件显示内容的显示，进而能够避免由于亮度的提升对人眼的伤害的问题。
本申请还提供上述盖板的制作方法。请参阅图4，在一实施方式中，该盖板制作方法可以包括如下步骤。
步骤S10：提供一盖板原材，盖板原材具有一表面。
其中，盖板原材的材质为玻璃、透明陶瓷、或塑胶等透明材料，本申请对此不进行限定。本申请一些实施例中，盖板原材的材质为玻璃。一些实施例中，盖板原材的厚度为0.3mm～2.0mm，例如0.3mm、0.35mm、0.4mm、0.45mm、0.5mm、0.55mm、0.6mm、0.62mm、0.65mm、0.68mm、0.7mm、0.72mm、0.75mm、0.78mm、0.8mm、0.82mm、0.85mm、0.88mm、0.9mm、0.92mm、0.95mm、0.98mm、1.0mm、1.2mm、1.5mm、1.8mm、或2.0mm等，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。
步骤S20：由所述表面向盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区，离子注入区的折射率大于盖板原材的折射率。
本申请实施例对离子注入的方式不做特别限定，可以使用现有技术中任意一种离子注入的方式，所注入的离子可以为通过质量分析仪并通过磁场加速轰击到盖板原材的内部。其中离子注入的元素为铅或钾，注入剂量可以为大于1015ions/cm2，注入能量可以为1MeV～10MeV。
具体地，可以通过调整离子注入的剂量和注入能量来调离子的浓度和离子注入区的深度。具体地，离子注入的剂量越大，所制备的离子注入区中的离子浓度越高，注入的能量越大，离子注入区的深度越大；相反，离子注入的剂量越小，所制备的离子注入区中的离子浓度越低，注入的能量越小，离子注入区的深度越小。只有高能量大剂量的注入工艺才能够形成足够深度和高浓度的离子注入区，有效提高离子注入区的折射率，进而可以降低外界光线在盖板原材的所述表面的反射率。
本申请实施例中，离子注入区的形状可以呈柱状，例如为圆柱或棱柱，离子注入区的深度大于0nm，且小于或等于500nm，如5nm、10nm、15nm、20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的深度，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。离子注入区横截面的尺寸为20nm～500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的尺寸，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。相邻离子注入区的间距为20nm～500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的间距，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。由于离子注入区的尺寸在纳米级别且小于或等于500纳米可以有效避免在离子注入区发生光散射，进而可以避免由于光散射导致折射率降低的问题。
申请人经研究发现，只有特定的铅或钾离子的注入才能够导致离子注入区中的特定的晶格畸变，如钾的晶格为体心立方，使离子注入区的折射率大于盖板原材的折射率，进而降低盖板原材所述表面的反射率。
需要指出的是，请参阅图5，在一实施方式中，上述在盖板原材上形成多个间隔设置的离子注入区的步骤S20可包括：
步骤S21：在所述表面上设置一掩模板。
其中，掩模板(Mask)包括间隔设置的多个开口区域，开口区域的尺寸为20nm～500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的尺寸，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。相邻的所述开口区域之间的间距为20nm～500nm，如20nm、50nm、100nm、150nm、200nm、250nm、300nm、350nm、400nm、450nm或500nm等，具体的尺寸，可以根据需要进行选择，此处不做具体限定。开口区域的尺寸的具体含义与开口区域的形状有关系，如当开口区域呈圆形时，开口区域的尺寸指的是开口区域的直径，当开口区域呈正方形时，开口区域的尺寸指的是正方形的边长，当开口区域呈长方形时，开口区域的尺寸指的是长边的长度。掩模板的尺寸决定了离子注入区横截面积的尺寸以及相邻离子注入区之间的间距。
步骤S22：在掩模板远离所述表面的一侧，采用离子注入工艺在所述表面的一侧、对应于开口区域的区域形成离子注入区。
除了上述使用掩模板制备离子注入区外，还可以使用光刻胶工艺进行制备，此处不做具体限定。
进一步地，盖板的制作方法还可以包括：
步骤S30：对注入离子后的盖板原材进行退火处理。
在退火过程中，铅离子和/或钾离子与空气中的氧气发生反应生成铅的氧化物和/或钾的氧化物。因而，能够稳定的存在于盖板中。
通过上述方式，由于盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，离子注入区自所述表面朝向盖板的内部延伸，且由于离子的注入可使折射率由1.5增大到1.7，使离子注入区的折射率大于盖板原材的折射率，光线壳在靠近所述表面的附近发生类光纤反射和折射，能够提高盖板的光透过率，抑制反射，具体地，光线在所述表面一侧的反射率由4.7：100降到1.5:100，甚至更低，提高用户的体验，且由于射入到用户的光线减少，能够避免对人眼的进一步伤害。此外，由于离子注入区形成在盖板原材的内部不需要额外贴膜，满足轻薄化的需求。
进一步地，本实施例中，通过离子注入的方式形成多个间隔设置的离子注入区，而不是通过刻蚀的方式在玻璃的表面制备微纳米结构，因此能够避免将微纳米结构直接设置在基底的表面导致的的容易受到摩擦而使结构失效的问题。
需要指出的是，本申请上述盖板的制作方法中所涉及到的各层结构的位置、材质、尺寸、功能等可与本申请上述盖板的实施方式中对应相同，相关详细内容请参阅上述实施方式，此处不再赘述。
此外，请参阅图6，本申请一实施例提供了一种电子设备100，在一实施方式中，电子设备100包括显示组件1及壳体2。其中，该壳体2定义有容置空间21，显示组件1设置于该容置空间21内，该壳体2能够起到保护显示组件1(例如，主板、电池等)的作用。
显示组件1为上述实施例提供的显示组件，其中，显示组件1与壳体2连接。
具体地，电子设备100可以是手机、平板电脑、笔记本电脑、智能手环或智能手表等，此处不做限定。
进一步地，参阅图7，本申请还提供了一种贴膜30，具有一表面301.贴膜30上形成有多个间隔设置的离子注入区32，离子注入区32自表面301朝向贴膜30的内部延伸，其中，离子注入区32的折射率大于贴膜30未形成离子注入区32的区域的折射率。
该贴膜30的结构与上述盖板的结构类似，该贴膜30可以粘贴到普通盖板的表面，也能够解决由于外界光线强烈导致的显示屏看不清的问题。此外，如果贴膜有损坏可以任意更换，极大的方便了用户的使用。
以上仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。
Claims (15)
1.一种盖板，其特征在于，具有一表面；
所述盖板上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述盖板的内部延伸，其中，所述离子注入区的折射率大于所述盖板未形成离子注入区的区域的折射率；
所述离子注入区呈柱状；多个所述离子注入区的深度均大于0nm，并小于或等于500nm；多个所述离子注入区横截面的尺寸均为20nm～500nm。
2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，相邻的所述离子注入区的间距为20nm～500nm。
3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区的材质包括铅的氧化物和钾的氧化物中的至少一种。
4.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区中铅离子或钾离子的浓度大于1015ion/cm2。
5.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述离子注入区的折射率大于1.5。
6.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，光线在所述表面一侧的反射率小于4.7：100。
7.一种盖板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一盖板原材，所述盖板原材具有一表面；
由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区，所述离子注入区的折射率大于所述盖板原材的折射率；
所述离子注入区呈柱状；多个所述离子注入区的深度均大于0nm，并小于或等于500nm；多个所述离子注入区横截面的尺寸均为20nm～500nm。
8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区的步骤中，注入的离子为铅离子和钾离子中的至少一种。
9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，在所述由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区的步骤中，注入离子的剂量大于1015ions/cm2，注入能量为1～10MeV。
10.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，相邻的所述离子注入区的间距为20nm～500nm。
11.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述由所述表面向所述盖板原材内部注入离子，以形成多个间隔设置离子注入区的步骤进一步包括：
在所述表面上设置一掩模板，所述掩模板间隔设置的多个开口区域，所述开口区域的尺寸为20nm～500nm，相邻的所述开口区域之间的间距为20nm～500nm；
在所述掩模板远离所述表面的一侧，采用离子注入工艺在所述表面的一侧、对应于所述开口区域的区域形成离子注入区。
12.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，进一步包括：
对注入离子后的盖板原材进行退火处理。
13.一种显示组件，其特征在于，包括：
显示屏；
盖板，覆盖于所述显示屏上；
其中，所述盖板为权利要求1-6任一项所述的盖板，所述表面位于远离所述显示屏的一侧。
14.一种电子设备，其特征在于，包括：
壳体，定义有容置空间；以及
显示组件，容置于所述容置空间内，并与所述壳体连接；
其中，所述显示组件为权利要求13所述的显示组件。
15.一种贴膜，其特征在于，具有一表面；
所述贴膜上形成有多个间隔设置的离子注入区，所述离子注入区自所述表面向所述贴膜的内部延伸，其中，所述离子注入区的折射率大于所述贴膜未形成离子注入区的区域的折射率；
所述离子注入区呈柱状；多个所述离子注入区的深度均大于0nm，并小于或等于500nm；多个所述离子注入区横截面的尺寸均为20nm～500nm。
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