CN113064299A - 一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置 - Google Patents

一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN113064299A
CN113064299A CN202110281279.5A CN202110281279A CN113064299A CN 113064299 A CN113064299 A CN 113064299A CN 202110281279 A CN202110281279 A CN 202110281279A CN 113064299 A CN113064299 A CN 113064299A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
electrode
liquid crystal
electrodes
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110281279.5A
Other languages
English (en)
Inventor
冯托
葛先进
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Priority to CN202110281279.5A priority Critical patent/CN113064299A/zh
Publication of CN113064299A publication Critical patent/CN113064299A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)

Abstract

本发明提供一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置。所述液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及液晶层；阵列基板包括多个像素电极以及多个虚拟电极，像素电极包括主像素电极和子像素电极；彩膜基板包括公共电极层，公共电极层包括对应于主像素电极设置的多个第一子电极和对应于子像素电极设置的多个第二子电极；其中，第一子电极和第二子电极之间设有黑色光阻。本发明在不增加光刻次数的前提下将彩膜基板上的公共电极层分区，对应于阵列基板上的主像素电极和子像素电极分别给不同的电压，使得主像素电极与第一子电极之间、子像素电极与第二子电极之间形成最佳的电压差，降低闪烁等显示不良。

Description

一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置。
背景技术
VA(Vertical Alignment，垂直配向)型液晶显示面板具有高对比度、宽视角、无须摩擦配向等优势，但由于采用垂直配向的液晶，液晶分子的双折射率的差异比较大，导致大视角下的色偏问题比较严重。降低色偏是VA型液晶显示面板的发展要求。目前解决VA型液晶显示面板色偏的主流方法是采用多畴(multi domain)，如8畴显示的像素设计，使同一个子像素内主像素电极(PE_main)的4个畴与子像素电极(PE_Sub)的4个畴的液晶分子转动角度不一样，从而改善色偏。
请参阅图1，为传统8畴显示的像素设计的等效电路图，阵列基板上的主像素电极(PE_main)的电压通过主薄膜晶体管(Main TFT)控制，子像素电极(PE_Sub)的电压通过子薄膜晶体管(Sub TFT)和分压薄膜晶体管(Share TFT)共同控制。如图1所示，子薄膜晶体管(Sub TFT)的栅极与扫描线(Gate)电性连接，子薄膜晶体管(Sub TFT)的漏极与数据线(Data)电性连接，子薄膜晶体管(Sub TFT)的源极与子像素电极(PE_Sub)电性连接；分压薄膜晶体管(Share TFT)的漏极与子像素电极(PE_Sub)电性连接，分压薄膜晶体管(ShareTFT)的源极与分压电极(Share Com)电性连接。当子薄膜晶体管(Sub TFT)和分压薄膜晶体管(Share TFT)均打开时，电压大小关系为Data>PE_Sub>Share Com，当扫描线(Gate)关闭时，子薄膜晶体管(Sub TFT)会先关闭(当栅极电压Gate降到低于PE_Sub以下就关闭)，而分压薄膜晶体管(Share TFT)的栅极电压Gate得降到Share Com以下才关闭，导致在子薄膜晶体管(Sub TFT)关闭之后、分压薄膜晶体管(Share TFT)关闭之前这段时间，PE_Sub与ShareCom之间依然轻微导通，出现PE_Sub向Share Com漏电的现象，导致PE_Sub的电位会低于设定的电位。
如图1所示，彩膜基板上的公共电极层(CF Com)与阵列基板上的主像素电极(PE_main)和子像素电极(PE_Sub)之间分别形成液晶电容Cmain、Csub。现有技术的彩膜基板上的公共电极层(CF Com)是整面沉积的，即CF Com只有一个电位，由于PE_Sub的电位低于设定的电位，导致主像素电极(PE_main)和子像素电极(PE_Sub)需求的CF Com电压不同，导致主像素电极(PE_main)和子像素电极(PE_Sub)之中必有一个不是理想的CF Com电压(BestVcom)，当正负帧时会出现闪烁等显示不良。故，有必要改善这一缺陷。
发明内容
本发明实施例提供一种液晶显示面板，用于解决现有技术的液晶显示面板，其子薄膜晶体管向分压薄膜晶体管漏电，导致子像素电极的电位低于设定电位，导致主像素电极和子像素电极的其中一个与公共电极层之间的电压差不理想，导致正负帧时出现闪烁等显示不良的技术问题。
本发明实施例提供一种液晶显示面板，包括阵列基板、彩膜基板以及液晶分子层；所述阵列基板包括第一衬底基板、位于所述第一衬底基板之上且阵列分布的多个像素电极以及位于所述多个像素电极形成的多个像素列的间隙内的多个虚拟电极，所述像素电极包括主像素电极和子像素电极；所述彩膜基板与所述阵列基板相对设置，包括第二衬底基板以及位于所述第二衬底基板面向所述阵列基板一侧的公共电极层，所述公共电极层包括多个第一子电极和多个第二子电极，所述第一子电极对应于所述主像素电极设置，所述第二子电极对应于所述子像素电极设置；所述液晶分子层位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；其中，所述虚拟电极包括第一虚拟电极和第二虚拟电极，所述第一虚拟电极的电位与所述第一子电极的电位相等，所述第二虚拟电极的电位与所述第二子电极的电位相等，所述第一子电极和所述第二子电极之间设有黑色光阻。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述第一子电极和所述第二子电极分别沿不同的行设置，形成第一子电极条和第二子电极条。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述第一子电极条和所述第二子电极条间隔设置。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，两个相邻的所述第一子电极条组成第一循环单元，两个相邻的所述第二子电极条组成第二循环单元，所述第一循环单元和所述第二循环单元间隔设置。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述液晶显示面板还包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多个红色色阻、多个绿色色阻以及多个蓝色色阻，每个所述红色色阻、每个所述绿色色阻以及每个所述蓝色色阻均分别与一所述像素电极对应设置。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述彩色滤光层位于所述彩膜基板中。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述彩色滤光层位于所述阵列基板中。
在本发明实施例提供的液晶显示面板中，所述阵列基板还包括多条数据线和多条扫描线，所述数据线位于所述多个像素列的间隙内，所述扫描线位于所述主像素电极与所述子像素电极之间，其中，所述数据线位于所述虚拟电极的正下方。
本发明实施例提供一种液晶显示面板的制备方法，包括步骤：提供阵列基板，所述阵列基板的制备方法包括步骤：提供第一衬底基板；在所述第一衬底基板之上制备像素电极层，所述像素电极层包括阵列分布的多个像素电极，所述像素电极包括主像素电极和子像素电极，制得所述阵列基板；提供彩膜基板，所述彩膜基板的制备方法包括步骤：提供第二衬底基板；在所述第二衬底基板之上制备公共电极层，所述公共电极层包括对应于所述主像素电极的第一子电极和对应于所述子像素电极的第二子电极；在所述第一子电极和所述第二子电极之间制备黑色光阻，制得所述彩膜基板；将所述阵列基板与所述彩膜基板对盒，并填充液晶分子，制得所述液晶显示面板。
本发明实施例还提供一种液晶显示装置，包括上述的液晶显示面板。
有益效果：本发明实施例提供的一种液晶显示面板，通过将彩膜基板上的公共电极层分为对应于主像素电极设置的多个第一子电极和对应于子像素电极设置的多个第二子电极，在第一子电极和第二子电极之间设置黑色光阻，能够在不增加光刻次数的前提下将彩膜基板上的公共电极层分区，对应于阵列基板上的主像素电极和子像素电极分别给不同的电压，使得主像素电极与第一子电极之间、子像素电极与第二子电极之间形成最佳的电压差，降低闪烁等显示不良。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
图1是传统8畴显示的像素设计的等效电路图。
图2是本发明实施例提供的液晶显示面板的基本结构示意图。
图3a是本发明实施例提供的公共电极层的俯视图。
图3b是本发明实施例提供的另一公共电极层的俯视图。
图4～图6是本发明实施例提供的液晶显示面板的制备方法流程图。
图7a～图7e是本发明实施例提供的彩膜基板的制备工艺流程中各部件的基本结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。在附图中，为了清晰及便于理解和描述，附图中绘示的组件的尺寸和厚度并未按照比例。
如图2及图3a所示，为本发明实施例提供的液晶显示面板的基本结构示意图和本发明实施例提供的公共电极层的俯视图，所述液晶显示面板包括阵列基板10、彩膜基板20以及液晶分子层30。
所述阵列基板10包括第一衬底基板101、位于所述第一衬底基板101之上且阵列分布的多个像素电极102以及位于所述多个像素电极102形成的多个像素列的间隙内的多个虚拟电极103，所述像素电极102包括主像素电极(未图示)和子像素电极(未图示)。
所述彩膜基板20与所述阵列基板10相对设置，包括第二衬底基板201以及位于所述第二衬底基板201面向所述阵列基板10一侧的公共电极层202，所述公共电极层202包括多个第一子电极2021(如图3a)和多个第二子电极2022(如图3a)，所述第一子电极2021对应于所述主像素电极设置，所述第二子电极2022对应于所述子像素电极设置。
所述液晶分子层30位于所述阵列基板10和所述彩膜基板20之间。
其中，所述虚拟电极103包括第一虚拟电极(未图示)和第二虚拟电极(未图示)，所述第一虚拟电极的电位与所述第一子电极2021的电位相等，所述第二虚拟电极的电位与所述第二子电极2022的电位相等，所述第一子电极2021和所述第二子电极2022之间设有黑色光阻203(如图3a)。
需要说明的是，本发明实施例通过将彩膜基板20上的公共电极层202分为相互绝缘的多个第一子电极2021和多个第二子电极2022，所述第一子电极2021和所述第二子电极2022分别对应于阵列基板10上的主像素电极和子像素电极设置，当液晶显示面板需要显示时，可以精准的分别调节第一子电极2021和第二子电极2022的电压，使得主像素电极与第一子电极2021之间、子像素电极与第二子电极2022之间形成最佳的电压差，避免正负帧时因子像素电极漏电导致子像素电极的电位低于设定电位而引起的闪烁等显示不良。
需要说明的是，正负帧指的是数据线(Data)信号的极性反转，正帧时，Data信号相对于公共电极层202(CF COM)信号为正，CF COM信号一般固定为7V，那么正帧时Data信号的电压为7～14V，此时Data信号给子像素充电，阵列基板10上的像素电极102与彩膜基板20上的公共电极层202之间的电压差为0～7V，表示正帧时的0～255灰阶；负帧时，Data信号相对于CF COM信号为负，CF COM信号一般固定为7V，那么负帧时Data信号的电压为0～7V，此时Data信号给子像素充电，阵列基板10上的像素电极102与彩膜基板20上的公共电极层202之间的电压差为-7～0V，表示负帧时的0～255灰阶。之所以将Data信号正负帧交替，是为了让液晶分子两端的电压正负交替，这样可以防止单一极性的电压让液晶分子出现极化，导致电压无法驱动液晶分子偏转。
可以理解的是，所述阵列基板10上的主像素电极对应于图3a中的第一子电极2021，所述阵列基板10上的子像素电极对应于图3a中的第二子电极2022，所述主像素电极与所述子像素电极之间的薄膜晶体管阵列(包括未示出的主薄膜晶体管、子薄膜晶体管以及分压薄膜晶体管)对应于所述第一子电极2021与所述第二子电极2022之间的区域，即黑色光阻203所在的区域。本发明实施例通过将黑色光阻203设置于所述第一子电极2021与所述第二子电极2022之间，在不增加光刻次数的前提下，不仅能将所述第一子电极2021与所述第二子电极2022隔开，还能为阵列基板10上的薄膜晶体管阵列遮光，避免阵列基板10上的薄膜晶体管阵列的电压因光照而发生漂移，导致显示不良。
需要说明的是，虚拟电极103位于多个像素电极102形成的多个像素列的间隙内，且与公共电极层202的电位保持一致，可使得对应于多个像素列的间隙区域内的液晶分子两端的电位保持一致，使得对应于多个像素列的间隙区域内的液晶分子不偏转，即可以防止多个像素列的间隙漏光。具体的，所述虚拟电极103与所述公共电极层202的电位保持一致指的是，对应于第一子电极2021区域内的第一虚拟电极的电位与所述第一子电极2021的电位保持一致；对应于第二子电极2022区域内的第二虚拟电极的电位与所述第二子电极2022的电位保持一致。在一种实施例中，所述虚拟电极103与所述像素电极102由同一道光刻工艺制备而成。
在一种实施例中，所述液晶显示面板还包括彩色滤光层204，所述彩色滤光层204包括多个红色色阻2041、多个绿色色阻2042以及多个蓝色色阻2043，每个所述红色色阻2041、每个所述绿色色阻2042以及每个所述蓝色色阻2043均分别与一所述像素电极102对应设置。具体的，如图3a所示，所述红色色阻2041、所述绿色色阻2042以及所述蓝色色阻2043对应于虚线框的区域设置(为了清晰及便于描述，未将虚线框与第一子电极2021、第二子电极2022的边界绘至重合)，即每个所述红色色阻2041、每个所述绿色色阻2042以及每个所述蓝色色阻2043均分别与相邻设置的一第一子电极2021和一第二子电极2022对应设置。
在一种实施例中，如图2所示，所述彩色滤光层204位于所述彩膜基板20中，具体的，所述彩色滤光层204位于所述第二衬底基板201与所述公共电极层202之间。当制备彩膜基板20时，先在所述第二衬底基板201之上制备彩色滤光层204，此时无需在彩色滤光层204之间制作黑色光阻将所述红色色阻2041、所述绿色色阻2042以及所述蓝色色阻2043隔开(是由于阵列基板10上已设置虚拟电极103，使得所述红色色阻2041、所述绿色色阻2042以及所述蓝色色阻2043之间交界的区域内的液晶不偏转，不会漏光)，最后在彩色滤光层204之上制备公共电极层202。
在一种实施例中，所述彩色滤光层204位于所述阵列基板10中，具体的，所述彩色滤光层204位于所述第一衬底基板101与所述多个像素电极102之间，即所述液晶显示面板为COA(Color-filter on Array，彩色滤光片在阵列基板上)型液晶显示面板。在一种实施例中，所述彩色滤光层204位于所述像素电极102之下的任意两层绝缘层(未示出)之间。
在一种实施例中，如图2所示，所述阵列基板10还包括多条数据线104(Data)和多条扫描线105(Gate)，所述数据线104位于所述多个像素列的间隙内，所述数据线104通过第一钝化层106与所述像素电极102和所述虚拟电极103隔开，所述扫描线105位于所述主像素电极与所述子像素电极之间，所述扫描线105通过第二钝化层107与所述数据线104隔开，其中，所述数据线104位于所述虚拟电极103的正下方。可以理解的是，所述数据线104用于提供灰阶电压信号，所述扫描线105用于提供行开启/关闭电压信号。
在一种实施例中，如图3a所示，所述第一子电极2021和所述第二子电极2022分别沿不同的行设置，形成第一子电极条和第二子电极条，所述第一子电极条和所述第二子电极条间隔设置。
在一种实施例中，所述黑色光阻203包括第一黑色光阻2031和第二黑色光阻2032，所述第一黑色光阻2031位于对应于同一个子像素区域的第一子电极2021和第二子电极2022之间，所述第二黑色光阻2032位于对应于不同子像素区域的第一子电极2021和第二子电极2022之间，所述第一黑色光阻2031的宽度(平行于所述数据线104的方向)大于所述第二黑色光阻2032的宽度。具体的，所述第一黑色光阻2031是用于隔开对应于同一个子像素区域内的第一子电极2021和第二子电极2022以及为阵列基板上的薄膜晶体管阵列遮光，所述第二黑色光阻2032是用于隔开不同子像素区域内的第一子电极2021和第二子电极2022。
需要说明的是，所述数据线104(Data M-1、Data M、Data M+1)对应于所述像素列的间隙设置，即对应于所述红色色阻2041、所述绿色色阻2042以及所述蓝色色阻2043之间的交界处设置；所述扫描线105(Gate N、Gate N+1)对应于所述第一黑色光阻2031所在的区域设置。
接下来，请参阅图3b，本发明实施例提供的另一公共电极层的俯视图，与图3a中的公共电极层不同的是，本实施例中，两个相邻的所述第一子电极条2021组成第一循环单元，两个相邻的所述第二子电极条2022组成第二循环单元，所述第一循环单元和所述第二循环单元间隔设置，即相邻的子像素区域不需设置第二黑色光阻进行隔开，与图3a中的设置方式相比，本实施例可省略第二黑色光阻，即可以提高液晶显示面板的分辨率。
接下来，请参阅图4～图6，为本发明实施例提供的液晶显示面板的制备方法流程图，所述制备方法包括步骤：
S40、提供阵列基板，所述阵列基板的制备方法包括步骤：
S401、提供第一衬底基板；
S402、在所述第一衬底基板之上制备像素电极层，所述像素电极层包括阵列分布的多个像素电极，所述像素电极包括主像素电极和子像素电极，制得所述阵列基板；
S50、提供彩膜基板，所述彩膜基板的制备方法包括步骤：
S501、提供第二衬底基板；
S502、在所述第二衬底基板之上制备公共电极层，所述公共电极层包括对应于所述主像素电极的第一子电极和对应于所述子像素电极的第二子电极；
S503、在所述第一子电极和所述第二子电极之间制备黑色光阻，制得所述彩膜基板；
S60、将所述阵列基板与所述彩膜基板对盒，并填充液晶分子，制得所述液晶显示面板。
接下来，请参阅图7a～图7e，为本发明实施例提供的彩膜基板的制备工艺流程中各部件的基本结构示意图，首先，如图7a所示，提供一第二衬底基板201，在所述第二衬底基板201之上沉积整面的公共电极层(ITO，氧化铟锡)202，然后在整面的公共电极层202上涂布整面的正性光刻胶70。
接下来，如图7b所示，提供一光罩(Mask)，所述光罩对应于阵列基板上的主像素电极和子像素电极的区域为遮光区域，对应于所述主像素电极和所述子像素电极之间的区域为透光区域；然后使用上述光罩、紫外光(UV)对所述正性光刻胶70进行曝光、显影，其中，对应于遮光区域的正性光刻胶70会保留，对应于透光区域的正性光刻胶70会溶于显影液内。
接下来，如图7c所示，对透光区域内没有正性光刻胶保护的ITO进行刻蚀，并剥离余下的正性光刻胶70，即形成了相互绝缘的第一子电极2021和第二子电极2022。
接下来，如图7d所示，在所述第二衬底基板201上涂布黑色光阻203，所述黑色光阻203由于流平性会填满所述第一子电极2021与所述第二子电极2022之间的间隙。
接下来，如图7e所示，去除位于所述第一子电极2021和所述第二子电极2022之上的所述黑色光阻203，具体的，可通过控制显影液的浓度和显影时间，将位于所述第一子电极2021和所述第二子电极2022之上的所述黑色光阻203显影掉，使得嵌在所述第一子电极2021与所述第二子电极2022之间的间隙内的所述黑色光阻203残留下来，此过程不需再次曝光、刻蚀，即没有额外增加光刻的次数，不会明显增加成本，且此工艺简易可行，没有明显增加复杂的工艺制程。
最后，通过分别调节所述第一子电极2021和所述第二子电极2022的电压值，使得主像素电极与所述第一子电极2021之间、子像素电极与所述第二子电极2022之间形成最佳的电压差，使得液晶分子两侧的驱动电压在正负帧保持对称，改善闪烁等显示不良，且无需额外对所述黑色光阻203进行曝光制程，节约成本。
本发明实施例还提供一种液晶显示装置，包括上述的液晶显示面板，所述液晶显示面板的结构及制备方法具体参见图2至图7e的相关描述，此处不再赘述。本发明实施例提供的液晶显示装置可以为：手机、平板电脑、笔记本电脑、数码相机、导航仪等具有显示功能的产品或部件。
综上所述，本发明实施例提供的一种液晶显示面板，通过将彩膜基板上的公共电极层分为对应于主像素电极设置的多个第一子电极和对应于子像素电极设置的多个第二子电极，在第一子电极和第二子电极之间设置黑色光阻，能够在不增加光刻次数的前提下将彩膜基板上的公共电极层分区，对应于阵列基板上的主像素电极和子像素电极分别给不同的电压，使得主像素电极与第一子电极之间、子像素电极与第二子电极之间形成最佳的电压差，降低闪烁等显示不良，解决了现有技术的液晶显示面板，其子薄膜晶体管向分压薄膜晶体管漏电，导致子像素电极的电位低于设定电位，导致主像素电极和子像素电极的其中一个与公共电极层之间的电压差不理想，导致正负帧时出现闪烁等显示异常的技术问题。
以上对本发明实施例所提供的一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置进行了详细介绍。应理解，本文所述的示例性实施方式应仅被认为是描述性的，用于帮助理解本发明的方法及其核心思想，而并不用于限制本发明。

Claims (10)

1.一种液晶显示面板，其特征在于，包括：
阵列基板，包括第一衬底基板、位于所述第一衬底基板之上且阵列分布的多个像素电极以及位于所述多个像素电极形成的多个像素列的间隙内的多个虚拟电极，所述像素电极包括主像素电极和子像素电极；
彩膜基板，与所述阵列基板相对设置，包括第二衬底基板以及位于所述第二衬底基板面向所述阵列基板一侧的公共电极层，所述公共电极层包括多个第一子电极和多个第二子电极，所述第一子电极对应于所述主像素电极设置，所述第二子电极对应于所述子像素电极设置；
液晶分子层，位于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；
其中，所述虚拟电极包括第一虚拟电极和第二虚拟电极，所述第一虚拟电极的电位与所述第一子电极的电位相等，所述第二虚拟电极的电位与所述第二子电极的电位相等，所述第一子电极和所述第二子电极之间设有黑色光阻。
2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一子电极和所述第二子电极分别沿不同的行设置，形成第一子电极条和第二子电极条。
3.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，所述第一子电极条和所述第二子电极条间隔设置。
4.如权利要求2所述的液晶显示面板，其特征在于，两个相邻的所述第一子电极条组成第一循环单元，两个相邻的所述第二子电极条组成第二循环单元，所述第一循环单元和所述第二循环单元间隔设置。
5.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述液晶显示面板还包括彩色滤光层，所述彩色滤光层包括多个红色色阻、多个绿色色阻以及多个蓝色色阻，每个所述红色色阻、每个所述绿色色阻以及每个所述蓝色色阻均分别与一所述像素电极对应设置。
6.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩色滤光层位于所述彩膜基板中。
7.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述彩色滤光层位于所述阵列基板中。
8.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括多条数据线和多条扫描线，所述数据线位于所述多个像素列的间隙内，所述扫描线位于所述主像素电极与所述子像素电极之间，其中，所述数据线位于所述虚拟电极的正下方。
9.一种液晶显示面板的制备方法，其特征在于，包括步骤：
提供阵列基板，所述阵列基板的制备方法包括步骤：
提供第一衬底基板；
在所述第一衬底基板之上制备像素电极层，所述像素电极层包括阵列分布的多个像素电极，所述像素电极包括主像素电极和子像素电极，制得所述阵列基板；
提供彩膜基板，所述彩膜基板的制备方法包括步骤：
提供第二衬底基板；
在所述第二衬底基板之上制备公共电极层，所述公共电极层包括对应于所述主像素电极的第一子电极和对应于所述子像素电极的第二子电极；
在所述第一子电极和所述第二子电极之间制备黑色光阻，制得所述彩膜基板；
将所述阵列基板与所述彩膜基板对盒，并填充液晶分子，制得所述液晶显示面板。
10.一种液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至8任一项所述的液晶显示面板。
CN202110281279.5A 2021-03-16 2021-03-16 一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置 Pending CN113064299A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110281279.5A CN113064299A (zh) 2021-03-16 2021-03-16 一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110281279.5A CN113064299A (zh) 2021-03-16 2021-03-16 一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN113064299A true CN113064299A (zh) 2021-07-02

Family

ID=76561254

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110281279.5A Pending CN113064299A (zh) 2021-03-16 2021-03-16 一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN113064299A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113703232A (zh) * 2021-08-30 2021-11-26 惠州华星光电显示有限公司 阵列基板及液晶显示面板
WO2023029060A1 (zh) * 2021-08-30 2023-03-09 Tcl华星光电技术有限公司 阵列基板及液晶显示面板

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102023420A (zh) * 2009-09-16 2011-04-20 三星电子株式会社 液晶显示器
CN102213872A (zh) * 2010-04-02 2011-10-12 三星电子株式会社 像素电极面板、液晶显示面板组件及其制造方法
CN102236216A (zh) * 2010-04-21 2011-11-09 三星电子株式会社 液晶显示器
CN103246112A (zh) * 2012-02-01 2013-08-14 三星显示有限公司 液晶显示器
CN103309071A (zh) * 2012-03-13 2013-09-18 三星显示有限公司 液晶显示装置
CN103323990A (zh) * 2013-06-28 2013-09-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示装置
CN103676389A (zh) * 2013-12-26 2014-03-26 深圳市华星光电技术有限公司 像素结构
CN204302636U (zh) * 2015-01-07 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置
CN106249498A (zh) * 2016-10-18 2016-12-21 深圳市华星光电技术有限公司 一种像素结构及液晶显示面板
CN110082970A (zh) * 2019-04-09 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及显示装置
CN110174787A (zh) * 2019-05-06 2019-08-27 惠科股份有限公司 阵列基板及其制作方法和显示装置
CN110794626A (zh) * 2019-10-21 2020-02-14 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素结构及液晶显示面板

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102023420A (zh) * 2009-09-16 2011-04-20 三星电子株式会社 液晶显示器
CN102213872A (zh) * 2010-04-02 2011-10-12 三星电子株式会社 像素电极面板、液晶显示面板组件及其制造方法
CN102236216A (zh) * 2010-04-21 2011-11-09 三星电子株式会社 液晶显示器
CN103246112A (zh) * 2012-02-01 2013-08-14 三星显示有限公司 液晶显示器
CN103309071A (zh) * 2012-03-13 2013-09-18 三星显示有限公司 液晶显示装置
CN103323990A (zh) * 2013-06-28 2013-09-25 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示装置
CN103676389A (zh) * 2013-12-26 2014-03-26 深圳市华星光电技术有限公司 像素结构
CN204302636U (zh) * 2015-01-07 2015-04-29 京东方科技集团股份有限公司 一种显示装置
CN106249498A (zh) * 2016-10-18 2016-12-21 深圳市华星光电技术有限公司 一种像素结构及液晶显示面板
CN110082970A (zh) * 2019-04-09 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示面板及显示装置
CN110174787A (zh) * 2019-05-06 2019-08-27 惠科股份有限公司 阵列基板及其制作方法和显示装置
CN110794626A (zh) * 2019-10-21 2020-02-14 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 像素结构及液晶显示面板

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113703232A (zh) * 2021-08-30 2021-11-26 惠州华星光电显示有限公司 阵列基板及液晶显示面板
CN113703232B (zh) * 2021-08-30 2022-07-12 惠州华星光电显示有限公司 阵列基板及液晶显示面板
WO2023029060A1 (zh) * 2021-08-30 2023-03-09 Tcl华星光电技术有限公司 阵列基板及液晶显示面板
WO2023029063A1 (zh) * 2021-08-30 2023-03-09 惠州华星光电显示有限公司 阵列基板及液晶显示面板
US12066720B2 (en) 2021-08-30 2024-08-20 Tcl China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Array substrate and liquid crystal display panel

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US11036096B2 (en) Liquid crystal display panel
CN103353693B (zh) 液晶显示装置及其制造方法
EP1398658B1 (en) Color active matrix type vertically aligned mode liquid cristal display and driving method thereof
US6839104B2 (en) Common electrode substrate and liquid crystal display device having the same
JP5717371B2 (ja) 液晶ディスプレイ
US6906766B2 (en) TFT-LCD comprising test pixels, black matrix elements, common voltage line formed within particular dummy region
KR101377456B1 (ko) 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 갖는 표시 장치
US10481454B1 (en) Thin film transistor array substrate and display panel
KR20140045014A (ko) 액정 표시 장치
KR20100070663A (ko) 액정 표시 장치
US10459276B2 (en) Liquid crystal display including black column spacer and manufacturing method of the same
KR20100124618A (ko) 액정 표시 장치
EP2733523A1 (en) Liquid crystal display
KR20100024731A (ko) 박막 트랜지스터 기판 및 그 제조 방법
US9612464B2 (en) Liquid crystal display
CN101634770A (zh) 面内切换模式液晶显示装置
US8355090B2 (en) Liquid crystal display having reduced kickback effect
CN113064299A (zh) 一种液晶显示面板及其制备方法、液晶显示装置
US10042214B2 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
CN114299894A (zh) 阵列基板及液晶显示面板
KR101542396B1 (ko) 박막 트랜지스터 표시판 및 그 제조 방법
CN109283761B (zh) 一种显示面板、显示面板的制作方法和显示装置
US20210200048A1 (en) Active switch array substrate, display apparatus using same, and manufacturing method therefor
CN114967246A (zh) 液晶显示面板及显示装置
US7518686B2 (en) Liquid crystal display

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination