CN113059422A - 提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，属于建筑工程设备技术领域。提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，包括容器、激光束发生器、反射塔和漂浮体，容器侧壁透明，容器内设有浮液，激光束发生器设于容器上顶壁，激光束发生器向下发射光线，反射塔固设于漂浮体上端，反射塔为透明的椎体，反射塔与圆形光圈同轴，漂浮体密度小于浮液，与找平系统对应的打磨机周侧设有感光器，感光器用于接收光线，它可以实现打磨机在固定高度范围内作业，保证各处地面打磨后高度一致，提高地面整体平整度。
Description
技术领域
本申请属于建筑工程设备技术领域，更具体地说，涉及提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统。
背景技术
在地面人流量过多的区域地面容易出现磨损现象，重新装饰石材成本太高，且时间太长；而石材翻新则是在短时间内利用化学和物理的方法，在原有的基础上通过石材打磨机的研磨、抛光，使其恢复到石材原来的亮度和色泽，石材打磨机翻新后的亮度可达到刚刚铺设时的百分之百的效果，是人们进行石材翻新的比较常见的一种方法。一般利用石材打磨机翻新的石材其正常使用寿命也会达五年以上。
然而现有的石材打磨机使用时通常采用人工移动打磨机的方法，不同区域的地面打磨机工作的时间由人工决定，这导致了不同地面区域打磨机打磨的时间不同，打磨机打磨的时间越长，该处地面的水平高度越低，打磨机打磨的时间越短，该处地面的水平高度越高，这就引起了地面打磨后各处区域的水平高度不同，极大地影响美观程度以及整体地面的平整度。
申请内容
1.要解决的技术问题
针对现有技术中存在的问题，本申请的目的在于提供提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，它可以实现打磨机在固定高度范围内作业，有效保证各处地面打磨后高度一致，有效提高地面整体平整度，同时可清晰识别用于作为高度标准的光线的水平度，并可手动调节光线的水平度，有效保证高度标准的光线水平准度，有效适应各种不同地面倾斜度要求的场景。
2.技术方案
为解决上述问题，本申请采用如下的技术方案。
提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，包括容器1、激光束发生器2、反射塔3和漂浮体4。
容器1侧壁透明，容器1内设有浮液5。
激光束发生器2设于容器1上顶壁，激光束发生器2向下发射光线201，光线201为圆形光圈。
反射塔3固设于漂浮体4上端，反射塔3为透明的椎体，反射塔3与圆形光圈同轴，反射塔3侧壁倾角为45°。
漂浮体4密度小于浮液5。
与找平系统对应的打磨机12周侧设有感光器121，感光器121用于接收光线201，感光器121感受到光线201时，打磨机12工作，由于感光器121感受的高度范围有限，当打磨机12在超出感光器121接收范围的高度的地面工作时，感光器121无法感受到光线201，打磨机12将停止运行，有效控制打磨机12在不同高度的地面工作，有效提高地面整体平整度。
进一步的，漂浮体4周侧的最大直径与容器1内径相同。当容器1受到外力撞击时，漂浮体4稳定后始终与圆形光圈同轴，有效保证反射后光线201的水平度不变。
进一步的，漂浮体4为半球型，漂浮体4下侧呈弧形。当容器1受到外力撞击时，漂浮体4会随着浮液5晃动，有效避免漂浮体4与容器1内壁接触刚性太强导致损坏的问题发生。
进一步的，反射塔3侧壁颜色与光线201颜色一致。有效减少反射塔3吸收的光线201能量，使光线201传播的范围更广，有效扩大了打磨机12运行范围。
进一步的，容器1外周侧设有测倾组件，测倾组件用于检测光线201的水平度。当反射塔3质量并不各处均匀，反射塔3的重心不落于漂浮体4和圆形光圈的轴线上，反射塔3的轴线与圆形光圈的轴线具有倾角，导致圆形光圈落在反射塔3侧壁上后，反射出的光线201不与水平面保持平行，若打磨机12以倾斜的光线201为作业高度标准，会导致打磨面角度产生超差。
进一步的，测倾组件包括密封壳6，密封壳6内设有密度由小至大的轻液8、浮环7和重液9，密封壳6可拆卸连接于容器1周侧壁，浮环7水平直径面与反射塔3反射的光线201位于同一高度，密封壳6和浮环7为透明材料制成，轻液8和重液9均透明，密封壳6外侧设有刻度。浮环7始终漂浮在轻液8和重液9之间，且浮环7始终保持与水平面平行。浮环7所在的密封壳6位置为零刻度。经过反射塔3反射的面状的光线穿过测倾组件后传递到打磨机12。
进一步的，容器1下侧设有调节组件10，调节组件10用于调节漂浮体4漂浮的角度。当反射塔3质量并不各处均匀，反射塔3的重心不落于漂浮体4和圆形光圈的轴线上，反射塔3的轴线与圆形光圈的轴线具有倾角，调节组件10可调整漂浮体4角度，将反射塔3倾斜的角度调整至理想状态。
进一步的，调节组件10包括多个顶杆101，多个顶杆101均贯穿容器1底壁，多个顶杆101均匀分布在漂浮体4下侧，多个顶杆101均与容器1底壁滑动连接，多个顶杆101均可与漂浮体4抵接，多个顶杆101均与容器1底壁保持动密封。顶杆101上顶，可改变漂浮体4的漂浮角度，从而调整反射的光线201的角度。
进一步的，调节组件10包括磁性组件102，磁性组件102位于容器1下侧，漂浮体4下端固设有磁块401，磁块401具有负极磁性。磁性组件102与磁块401保持磁性连接，磁性组件102可调节磁力大小。
磁性组件102包括电源103、电磁铁104、电阻块105和导电杆106。电磁铁104可拆卸连接于容器1底端。电源103电性连接于电磁铁104和电阻块105之间。导电杆106由导电金属制成，导电杆106抵接于电阻块105下端，导电杆106与电阻块105滑动连接。电磁铁104远离电源103端与导电杆106侧壁电性连接。电磁铁104通电后上端为正极，下端为负极。电磁铁104与圆形光圈同轴。
导电杆106径向移动后，可改变回路中电阻块105的电阻值，从而改变电磁铁104的磁性大小。当漂浮体4倾斜时，减小回路中的电阻，可增大回路中的电流，此时电磁铁104磁性被放大，可吸引漂浮体4向竖直状态回位。
3.有益效果
相比于现有技术，本申请的优点在于：
(1)本方案通过反射塔将原本竖直的圆形光圈，反射为平行于反射塔底面的面状光线，光线穿过容器后被打磨机的感光器接收，当感光器感受到光线时，打磨机允许工作，有效控制打磨机在不同高度的地面工作，有效提高地面整体平整度。
(2)本方案反射塔设于漂浮体上，漂浮体漂浮于浮液上，由于浮液液面总是与水平面平行，有效保证了反射塔反射的光线总平行于水平面，进而使打磨机打磨出的地面的为水平。
(3)本方案漂浮体为半球形，球形直径与容器直径相同，有效避免容器被外力撞击晃动后，漂浮体摇摆后可重新回位至与圆形光圈同轴，有效保证反射后的面状光线水平度不变。
(4)本方案漂浮体为半球形，球形直径与容器直径相同，容器被外力撞击晃动后，漂浮体可跟随浮液晃动，有效避免漂浮体与容器内壁接触刚性太强导致损坏的问题发生。
(5)本方案反射后的光线可经过测倾组件发射至打磨机，测倾组件的密封壳外壁设有刻度，当反射塔的重心不在圆形光圈的轴线上，导致反射塔漂浮稳定后不与圆形光圈同轴，操作者可肉眼观察反射后光线的水平度。
(6)本方案顶杆可在容器底壁内滑动，当反射后的光线水平度超差时，操作者可通过顶杆改变漂浮体的漂浮角度，来调整反射后光线的水平度。
(7)本方案磁性组件位于容器下侧，漂浮体下端固设有磁块，磁性组件的导电杆经过手动的径向移动后，可改变电阻块在电路中的电阻值，从而改变电磁铁的通电电流大小，通电电流的大小直接决定了电磁铁磁性大小，当电磁铁磁性越强时倾斜的漂浮体越能往竖直方向回正，进而改变反射塔的角度，进一步改变反射的光线的水平度，同时磁性组件完全位于容器外侧，有效提高了浮液泄露和触电的可能。
(8)本方案反射塔侧壁颜色与光线颜色一致，有效减少反射塔吸收的光线能量，使光线传播的范围更广，有效扩大了打磨机运行范围。
附图说明
图1为本申请的具体实施例一的具体实施例一的部件位置平面剖视结构示意图；
图2为本申请的具体实施例一的具体实施例二的部分立体剖视结构示意图；
图3为本申请的具体实施例一的受外力撞击时的平面剖视结构示意图；
图4为本申请的具体实施例一的打磨机接收到光线信号时的示意图；
图5为本申请的具体实施例一的光线信号高于感光器时的示意图；
图6为本申请的具体实施例一的光线信号低于感光器时的结构示意图；
图7为本申请的具体实施例二的平面剖视结构示意图；
图8为本申请的具体实施例二的反射塔重心不在轴心处时的平面剖视结构示意图；
图9为本申请的具体实施例二的密封壳的平面剖视结构示意图；
图10为本申请的具体实施例二的顶杆调整漂浮体时的平面剖视结构示意图；
图11为本申请的具体实施例三的平面剖视结构示意图；
图12为本申请的具体实施例三的磁性组件的结构示意图。
图中标号说明：
容器1、激光束发生器2、光线201、反射塔3、漂浮体4、磁块401、浮液5、密封壳6、浮环7、轻液8、重液9、调节组件10、顶杆101、磁性组件102、电源103、电磁铁104、电阻块105、导电杆106、保护壳11、打磨机12、感光器121、打磨头122。
具体实施方式
具体实施例一：请参阅图1-6的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，包括容器1、激光束发生器2、反射塔3和漂浮体4。
容器1侧壁透明，容器1内设有浮液5。
激光束发生器2设于容器1上顶壁，激光束发生器2向下发射光线201，光线201为圆形光圈。
反射塔3固设于漂浮体4上端，反射塔3为透明的椎体，反射塔3与圆形光圈同轴，反射塔3侧壁倾角为45°。使圆形光圈反射为面状的光线201
漂浮体4密度小于浮液5。漂浮体4为半球型，球直径与容器1内径相同。当容器1受到外力撞击时，漂浮体4稳定后始终与圆形光圈同轴，有效保证反射后光线201的水平度不变。漂浮体4为半球型，漂浮体4下侧呈弧形。当容器1受到外力撞击时，漂浮体4会随着浮液5晃动，有效避免漂浮体4与容器1内壁接触刚性太强导致损坏的问题发生。
找平系统放置在打磨场地的中央，与找平系统对应的打磨机12周侧设有感光器121，感光器121用于接收光线201，感光器121感受到光线201时，打磨机12下端的打磨头122工作。
由于感光器121感受的高度范围有限，当打磨机12在超出感光器121接收范围的高度的地面工作时，感光器121无法感受到光线201，打磨机12将停止运行，有效控制打磨机12在不同高度的地面工作，有效提高地面整体平整度。
具体实施例二：在具体实施例一的基础上，请参阅图7-10的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，当反射塔3质量并不各处均匀，反射塔3的重心不落于漂浮体4和圆形光圈的轴线上时，反射塔3的轴线与圆形光圈的轴线具有倾角，导致圆形光圈落在反射塔3侧壁上后，反射出的光线201不与水平面保持平行，若打磨机12以倾斜的光线201为作业高度标准，会导致打磨面角度产生超差。
容器1外周侧设有测倾组件，测倾组件包括密封壳6。
密封壳6内设有密度由小至大的轻液8、浮环7和重液9。
密封壳6可拆卸连接于容器1周侧壁。
浮环7水平直径面与反射塔3反射的光线201位于同一高度。
密封壳6和浮环7为透明材料制成。
轻液8和重液9均透明。
密封壳6外侧设有刻度。
浮环7始终漂浮在轻液8和重液9之间，且浮环7始终保持与水平面平行。
浮环7所在的密封壳6位置为零刻度。
经过反射塔3反射的面状的光线穿过测倾组件后传递到打磨机12。
容器1下侧设有调节组件10，调节组件10包括多个顶杆101。
多个顶杆101均贯穿容器1底壁，多个顶杆101均匀分布在漂浮体4下侧，多个顶杆101均与容器1底壁滑动连接，多个顶杆101均可与漂浮体4抵接，多个顶杆101均与容器1底壁保持动密封。
顶杆101上顶，可改变漂浮体4的漂浮角度，从而调整反射的光线201的角度。
容器1下端可拆卸连接有保护壳11、顶杆101位于保护壳11内，有效避免外力撞击顶杆101造成损坏的问题发生。
具体实施例三：与具体实施例二不同的是，请参阅图11-12的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，漂浮体4下端固设有磁块401，磁块401具有负极磁性。
调节组件10包括磁性组件102，磁性组件102位于容器1下侧，磁性组件102位于保护壳11内。
磁性组件102包括电源103、电磁铁104、电阻块105和导电杆106。
电磁铁104可拆卸连接于容器1底端。
电源103电性连接于电磁铁104和电阻块105之间。
导电杆106由导电金属制成，导电杆106抵接于电阻块105下端，导电杆106与电阻块105滑动连接。
电磁铁104远离电源103端与导电杆106侧壁电性连接。
电磁铁104通电后上端为正极，下端为负极。电磁铁104与圆形光圈同轴。
导电杆106径向移动后，可改变回路中电阻块105的电阻值，从而改变电磁铁104的磁性大小。当漂浮体4倾斜时，减小回路中的电阻，可增大回路中的电流，此时电磁铁104磁性被放大，可吸引漂浮体4向竖直状态回位。
导电杆106贯穿保护壳11，导电杆106与保护壳11滑动连接。导电杆106位于保护壳11外的部分套设有绝缘套，有效避免触电事故的发生。
具体实施例四：在具体实施例三的基础上，反射塔3侧壁颜色与光线201颜色一致。有效减少反射塔3吸收的光线201能量，使光线201传播的范围更广，有效扩大了打磨机12运行范围。
Claims (9)
1.提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：包括容器(1)、激光束发生器(2)、反射塔(3)和漂浮体(4)；
容器(1)侧壁透明，容器(1)内设有浮液(5)；
激光束发生器(2)设于容器(1)上顶壁，激光束发生器(2)向下发射光线(201)，光线(201)为圆形光圈；
反射塔(3)固设于漂浮体(4)上端，反射塔(3)为透明的椎体，反射塔(3)与圆形光圈同轴，反射塔(3)侧壁倾角为45°；
漂浮体(4)密度小于浮液(5)；
与找平系统对应的打磨机(12)周侧设有感光器(121)，感光器(121)用于接收光线(201)，感光器(121)感受到光线(201)时，打磨机(12)工作。
2.根据权利要求1所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：漂浮体(4)周侧的最大直径与容器(1)内径相同。
3.根据权利要求2所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：漂浮体(4)为半球型，漂浮体(4)下侧呈弧形。
4.根据权利要求3所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：反射塔(3)侧壁颜色与光线(201)颜色一致。
5.根据权利要求4所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：容器(1)外周侧设有测倾组件，测倾组件用于检测光线(201)的水平度。
6.根据权利要求5所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：测倾组件包括密封壳(6)，密封壳(6)内设有密度由小至大的轻液(8)、浮环(7)和重液(9)，密封壳(6)可拆卸连接于容器(1)周侧壁，浮环(7)水平直径面与反射塔(3)反射的光线(201)位于同一高度，密封壳(6)和浮环(7)为透明材料制成，轻液(8)和重液(9)均透明，密封壳(6)外侧设有刻度。
7.根据权利要求6所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：容器(1)下侧设有调节组件(10)，调节组件(10)用于调节漂浮体(4)漂浮的角度。
8.根据权利要求7所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：调节组件(10)包括多个顶杆(101)，多个顶杆(101)均贯穿容器(1)底壁，多个顶杆(101)均匀分布在漂浮体(4)下侧，多个顶杆(101)均与容器(1)底壁滑动连接，多个顶杆(101)均可与漂浮体(4)抵接，多个顶杆(101)均与容器(1)底壁保持动密封。
9.根据权利要求7所述的提高地面石材打磨平整度的石材养护用的激光找平系统，其特征在于：调节组件(10)包括磁性组件(102)，磁性组件(102)位于容器(1)下侧，漂浮体(4)下端固设有磁块(401)，磁性组件(102)与磁块(401)保持磁性连接，磁性组件(102)可调节磁力大小。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20210702 |