CN113043075B - 一种不锈钢刚性环的研磨方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种不锈钢刚性环的研磨方法,所述研磨方法包括:对不锈钢刚性环依次进行粗磨加工以及精磨加工,完成对所述不锈钢刚性环的研磨。本发明所述研磨方法不仅可以提高不锈钢刚性环平面度,满足平面度≤0.01mm的高质量要求,还可以增加保持环研磨使用次数,并建立标准化的研磨流程,便于大规模推广。
Description
技术领域
本发明涉及化学机械抛光技术领域,涉及保持环的研磨方法,尤其涉及一种不锈钢刚性环的研磨方法。
背景技术
在单晶硅片制造环节,单晶硅片首先通过化学腐蚀减薄,此时的粗糙度在10-20μm范围内,然后进行粗抛光、细抛光、精抛光等步骤,可将粗糙度控制在几十个纳米范围内。一般来说,单晶硅片需要进行2次以上的抛光,表面才可以达到集成电路的要求。目前,IC元件往往采用多层立体布线,即,首先在当晶硅片上依次排布多层金属布线层,然后进行相应刻蚀形成布线网络。由于需要刻蚀的每一层均有很高的全局平整度要求,往往通过抛光来保证每层达到全局平整度要求。
化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)是集成电路制造过程中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺。与传统的纯机械或纯化学的抛光方法不同,CMP技术是通过化学和机械的组合技术,避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤,利用了磨损中的“软硬磨”原理,即用较软的材料来进行抛光以实现高质量的表面抛光,将化学腐蚀和机械磨削作用达到一种平衡。CMP技术的主要原理是在一定压力以及抛光浆料存在下,被抛光工件相对于抛光垫做相对运动,借助于纳米粒子的研磨作用与氧化剂的腐蚀作用之间的有机结合,在被抛光工件的表面形成光洁表面。CMP技术作为一种被普遍使用的平面化方法,在化学机械抛光时,抛光头夹持着晶圆,并将晶圆压紧在抛光垫上。晶圆在抛光时容纳在抛光头上的保持环之中,保持环起着容纳和定位晶圆的作用。在抛光过程中,抛光液和去离子水不断的与保持环接触,因此保持环需要具有一定的耐腐蚀性以及良好的平面度。
现有的保持环主要包括不锈钢刚性环以及材质为PPS的弹性环,例如CN210757122U公开了一种保持环,包括第一环形部及第二环形部,所述第一环形部由金属材料制成,所述第二环形部由非金属材料制成,所述第一环形部的至少一面与第二环形部紧贴固定。先加工得到具有目标尺寸的第一环形部,然后将熔融或半熔融状态的非金属材料与第一环形部直接结合,从而模制出期望的保持环。CN211661824U公开了一种保持环,所述保持环包括弹性环和刚性环;所述弹性环上设置有环形凹槽,沿所述环形凹槽中心向里设置有燕尾槽;所述刚性环上设置有与弹性环的环形凹槽相匹配的环形凸起。所述保持环通过在弹性环上设置环形凹槽,并沿所述环形凹槽中心向里设置有燕尾槽,其中,环形凹槽与刚性环上的环形凸起通过粘接剂粘接,增加了粘接面积;而燕尾槽能够让粘接剂进入其中,粘接剂固化后可以加强横向拉力,不容易脱胶,使弹性环和刚性环粘接更牢固,从而提高了保持环的使用寿命;同时所述保持环结构简单,加工容易,具有良好的应用前景。
现有的半导体用耗材保持环一般是先将不锈钢刚性环与PPS弹性环连接为一个整体后,再分别对不锈钢刚性环与PPS弹性环进行打磨,以达到平面度要求。然而,现有的不锈钢刚性环的平面度加工方法效率较为低下,尤其是不锈钢刚性环的大平面的平面度仅仅满足≤0.05mm的要求,已经无法满足日益严苛的工艺要求,而且降低了研磨使用次数。为此,目前亟需开发一种针对不锈钢刚性环的研磨方法,不仅可以改进至平面度≤0.01mm,还可以增加保持环研磨使用次数,并建立标准化的研磨流程,便于大规模推广。
发明内容
为解决上述技术问题,本发明提供了一种不锈钢刚性环的研磨方法,所述研磨方法包括:对不锈钢刚性环依次进行粗磨加工以及精磨加工,完成对所述不锈钢刚性环的研磨。本发明所述研磨方法不仅可以提高不锈钢刚性环平面度,满足平面度≤0.01mm的高质量要求,还可以增加保持环研磨使用次数,并建立标准化的研磨流程,便于大规模推广。
为达到上述技术效果,本发明采用以下技术方案:
本发明的目的在于提供一种不锈钢刚性环的研磨方法,其特征在于,所述研磨方法包括:
对不锈钢刚性环依次进行粗磨加工以及精磨加工,完成对所述不锈钢刚性环的研磨。
本发明所述研磨方法设置了粗磨加工以及精磨加工两个研磨步骤,不仅可以提高不锈钢刚性环平面度,满足平面度≤0.01mm的高质量要求,还可以增加保持环研磨使用次数,并建立标准化的研磨流程,便于大规模推广。
值得说明的是,本发明所述不锈钢刚性环的研磨方法是在不锈钢刚性环与弹性环连接为一个整体后,针对不锈钢刚性环的螺纹面进行的研磨。
作为本发明优选的技术方案,所述粗磨加工包括:将所述不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,再进行清洗检查。
作为本发明优选的技术方案,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心。
值得说明的是,所述的三个挡块位置属于研磨机的常规配制,此处不再赘述。
优选地,所述粗磨盘包括铁粉树脂合成类磨盘。
优选地,所述压重块的重量为5-15kg,例如5kg、7kg、9kg、10kg、12kg或15kg等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案,所述粗磨加工中研磨机转速为40-50rpm,例如40rpm、42rpm、44rpm、45rpm、46rpm、48rpm或50rpm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述粗磨加工的时间为25-90min,例如25rpm、35rpm、45rpm、50rpm、60rpm、70rpm、80rpm或90rpm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述粗磨加工的粗磨液为金刚石研磨液,包括型号为X-10601的SUS粗磨液。
优选地,所述粗磨加工中粗磨液间歇添加。
优选地,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为3-4s,例如3s、3.2s、3.5s、3.6s、3.8s或4s等,粗磨液添加流量为50-100mL/s,例如55mL/s、60mL/s、65mL/s、70mL/s、75mL/s、80mL/s、85mL/s、90mL/s或95mL/s等,粗磨液暂停时间为8-10min,例如8min、8.5min、9min、9.5min或10min等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
值得说明的是,在粗磨加工之前,对研磨机进行粗磨液导管安装,将1-3根粗磨液导管套入蠕动泵的安装槽内,然后按下卡扣,把锁紧杆从左边摇到右边进行锁紧,随后对研磨机进行清洗处理,将导管进水口放在盛有干净清水的量杯中,出水口放在另一个量杯中,开启设备空运行,先用DISK打磨至少5min,然后清水冲洗至少5min;其中,在粗磨加工期间控制蠕动泵的转速为10-15rpm。
值得说明的是,在启动粗磨加工后,需要观察不锈钢刚性环是否匀速、平稳地旋转,并且粗磨液是否正常流出,一旦出现问题需要立即关闭研磨机;待粗磨加工结束后,将压重块取下,解除对不锈钢刚性环的安装,并平稳地将其拿出研磨机。
作为本发明优选的技术方案,所述精磨加工包括:将粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,再进行清洗检查。
作为本发明优选的技术方案,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置。
值得说明的是,本发明所述粗磨加工与所述精磨加工的研磨机相同,主要在研磨液与抛光垫上不同,同时所述精磨盘的三个挡块位置属于研磨机的常规配制,此处不再赘述。
优选地,在所述精磨盘表面粘贴抛光垫。
优选地,所述压重块的重量为8-12kg,例如8.5kg、9kg、9.5kg、10kg、10.5kg、11kg或11.5kg等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
作为本发明优选的技术方案,所述精磨加工中研磨机转速为40-50rpm,例如40rpm、42rpm、44rpm、45rpm、46rpm、48rpm或50rpm等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述精磨加工的时间为25-30min,例如25min、26min、27min、28min、29min或30min等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述精磨加工的精磨液为氧化铝研磨液,包括型号为X-10201的SUS精磨液和/或LN-ALP-103的氧化铝抛光液。
优选地,所述精磨加工中精磨液间歇添加。
优选地,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为3-4s,例如3s、3.2s、3.5s、3.6s、3.8s或4s等,精磨液添加流量为50-100mL/s,例如55mL/s、60mL/s、65mL/s、70mL/s、75mL/s、80mL/s、85mL/s、90mL/s或95mL/s等,精磨液暂停时间为8-10min,例如8min、8.5min、9min、9.5min或10min等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
值得说明的是,在精磨加工之前,对研磨机进行精磨液导管安装,将1根精磨液导管套入蠕动泵的安装槽内,然后按下卡扣,把锁紧杆从左边摇到右边进行锁紧,随后对研磨机进行清洗处理,将导管进水口放在盛有干净清水的量杯中,出水口放在另一个量杯中,开启设备空运行,先用DISK打磨至少5min,然后清水冲洗至少5min;其中,在精磨加工期间控制蠕动泵的转速为15-20rpm。
值得说明的是,在启动精磨加工后,需要观察不锈钢刚性环是否匀速、平稳地旋转,并且精磨液是否正常流出,一旦出现问题需要立即关闭研磨机;待精磨加工结束后,将压重块取下,解除对不锈钢刚性环的安装,并平稳地将其拿出研磨机。
作为本发明优选的技术方案,所述清洗检查包括:将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查。
作为本发明优选的技术方案,所述一次清水冲洗包括:将所述不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的表面用清水冲洗,同时用净化布擦拭。
优选地,所述清洗剂超声清洗包括:将一次清洗后的不锈钢刚性环平放至超声波清洗机中,在进行所述清洗剂超声清洗期间用双手连续提拉震动清洗架3-4次,其中,需要注意将放置的保持环不锈钢刚性的螺纹孔面朝上,且不可叠放。
优选地,所述清洗剂超声清洗的温度为30-40℃,例如30℃、32℃、35℃、37℃、38℃或40℃等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述清洗剂超声清洗的时间为2-5min,例如2.5min、3min、3.5min、4min或4.5min等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
优选地,所述清洗剂超声清洗的功率为1000-1500W,例如1050W、1100W、1150W、1200W、1250W、1300W、1350W、1400W或1450W等,但并不仅限于所列举的数值,该数值范围内其他未列举的数值同样适用。
值得说明的是,所述清洗剂超声清洗所采用清洗剂为市售清洗剂与清水按照体积比1:(5-10)配制的稀释液。
优选地,所述二次清水冲洗包括:将清洗剂超声清洗后的不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的螺纹孔用清水冲洗,然后用气枪吹干。
作为本发明优选的技术方案,所述研磨方法包括如下步骤:
(1)将不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,控制研磨机转速为40-50rpm,所述粗磨加工的时间为25-90min,所述粗磨加工的粗磨液为金刚石研磨液,并将粗磨液间歇添加,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为3-4s,粗磨液添加流量为50-100mL/s,粗磨液暂停时间为8-10min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心;所述粗磨盘包括铁粉树脂合成类磨盘;所述压重块的重量为5-15kg;
(2)将步骤(1)粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,控制研磨机转速为40-50rpm,所述精磨加工的时间为25-30min,所述精磨加工的精磨液为氧化铝研磨液,并将精磨液间歇添加,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为3-4s,精磨液添加流量为50-100mL/s,精磨液暂停时间为8-10min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置;在所述精磨盘表面粘贴抛光垫;所述压重块的重量为8-12kg;
其中,步骤(1)与步骤(2)所述清洗检查相同,均包括将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查。
与现有技术相比,本发明至少具有以下有益效果:
本发明所述研磨方法不仅可以提高不锈钢刚性环平面度,满足平面度≤0.01mm的高质量要求,还可以增加保持环研磨使用次数,并建立标准化的研磨流程,便于大规模推广。
具体实施方式
为便于理解本发明,本发明列举实施例如下。本领域技术人员应该明了,所述实施例仅仅是帮助理解本发明,不应视为对本发明的具体限制。
实施例1
本实施例提供了一种不锈钢刚性环的研磨方法,所述研磨方法包括如下步骤:
(1)将不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,控制研磨机转速为45rpm,所述粗磨加工的时间为60min,所述粗磨加工的粗磨液为型号为X-10601的SUS粗磨液,并将粗磨液间歇添加,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为3s,粗磨液添加流量为80mL/s,粗磨液暂停时间为9min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心;所述粗磨盘为铁粉树脂合成类磨盘;所述压重块的重量为10kg;
(2)将步骤(1)粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,控制研磨机转速为45rpm,所述精磨加工的时间为28min,所述精磨加工的精磨液为型号为X-10201的SUS精磨液,并将精磨液间歇添加,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为3s,精磨液添加流量为80mL/s,精磨液暂停时间为9min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置;在所述精磨盘表面粘贴抛光垫;所述压重块的重量为10kg;
其中,步骤(1)与步骤(2)所述清洗检查相同,均包括将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查;先将所述不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的表面用清水冲洗,同时用净化布擦拭;再将一次清洗后的不锈钢刚性环平放至超声波清洗机中,螺纹孔面朝上,且不可叠放,在进行所述清洗剂超声清洗期间用双手连续提拉震动清洗架3次,控制清洗剂超声清洗的温度为35℃,时间为4min,功率为1200W;随后将清洗剂超声清洗后的不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的螺纹孔用清水冲洗,然后用气枪吹干;最后肉眼检查是否有破损等问题。
实施例2
本实施例提供了一种不锈钢刚性环的研磨方法,所述研磨方法包括如下步骤:
(1)将不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,控制研磨机转速为40rpm,所述粗磨加工的时间为90min,所述粗磨加工的粗磨液为型号为X-10601的SUS粗磨液,并将粗磨液间歇添加,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为4s,粗磨液添加流量为50mL/s,粗磨液暂停时间为10min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心;所述粗磨盘为铁粉树脂合成类磨盘;所述压重块的重量为5kg;
(2)将步骤(1)粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,控制研磨机转速为40rpm,所述精磨加工的时间为30min,所述精磨加工的精磨液为型号为LN-ALP-103的氧化铝抛光液,并将精磨液间歇添加,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为4s,精磨液添加流量为50mL/s,精磨液暂停时间为10min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置;在所述精磨盘表面粘贴抛光垫;所述压重块的重量为8kg;
其中,步骤(1)与步骤(2)所述清洗检查相同,均包括将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查;先将所述不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的表面用清水冲洗,同时用净化布擦拭;再将一次清洗后的不锈钢刚性环平放至超声波清洗机中,螺纹孔面朝上,且不可叠放,在进行所述清洗剂超声清洗期间用双手连续提拉震动清洗架3次,控制清洗剂超声清洗的温度为30℃,时间为5min,功率为1000W;随后将清洗剂超声清洗后的不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的螺纹孔用清水冲洗,然后用气枪吹干;最后肉眼检查是否有破损等问题。
实施例3
本实施例提供了一种不锈钢刚性环的研磨方法,所述研磨方法包括如下步骤:
(1)将不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,控制研磨机转速为50rpm,所述粗磨加工的时间为25min,所述粗磨加工的粗磨液为型号为X-10601的SUS粗磨液,并将粗磨液间歇添加,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为4s,粗磨液添加流量为100mL/s,粗磨液暂停时间为8min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心;所述粗磨盘为铁粉树脂合成类磨盘;所述压重块的重量为15kg;
(2)将步骤(1)粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,控制研磨机转速为50rpm,所述精磨加工的时间为25min,所述精磨加工的精磨液为型号为LN-ALP-103的氧化铝抛光液,并将精磨液间歇添加,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为4s,精磨液添加流量为100mL/s,精磨液暂停时间为8min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置;在所述精磨盘表面粘贴抛光垫;所述压重块的重量为12kg;
其中,步骤(1)与步骤(2)所述清洗检查相同,均包括将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查;先将所述不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的表面用清水冲洗,同时用净化布擦拭;再将一次清洗后的不锈钢刚性环平放至超声波清洗机中,螺纹孔面朝上,且不可叠放,在进行所述清洗剂超声清洗期间用双手连续提拉震动清洗架4次,控制清洗剂超声清洗的温度为40℃,时间为2min,功率为1500W;随后将清洗剂超声清洗后的不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的螺纹孔用清水冲洗,然后用气枪吹干;最后肉眼检查是否有破损等问题。
对比例1
本对比例提供了一种不锈钢刚性环的研磨方法,除了将步骤(2)所述精磨加工完全省略,其他条件和实施例1完全相同。
将上述实施例和对比例研磨得到的不锈钢刚性环进行平面度检测,具体测试结果见表1。
表1
组别 | 实施例1 | 实施例2 | 实施例3 | 对比例1 |
平面度/mm | 0.005 | 0.008 | 0.009 | 0.028 |
综上所述,本发明所述研磨方法设置了粗磨加工以及精磨加工两个研磨步骤,不仅可以提高不锈钢刚性环平面度,满足平面度≤0.01mm的高质量要求,还可以增加保持环研磨使用次数,并建立标准化的研磨流程,便于大规模推广。
申请人声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的详细工艺设备和工艺流程,但本发明并不局限于上述详细工艺设备和工艺流程,即不意味着本发明必须依赖上述详细工艺设备和工艺流程才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
Claims (17)
1.一种不锈钢刚性环的研磨方法,其特征在于,所述研磨方法包括:
对不锈钢刚性环依次进行粗磨加工以及精磨加工,完成对所述不锈钢刚性环的研磨;
所述粗磨加工包括:将所述不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,再进行清洗检查;其中,控制所述粗磨加工中研磨机转速为40-50rpm,所述粗磨加工的时间为25-90min,所述粗磨加工的粗磨液为金刚石研磨液;
所述精磨加工包括:将粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,再进行清洗检查;其中,所述精磨加工中研磨机转速为40-50rpm,所述精磨加工的时间为25-30min,所述精磨加工的精磨液为氧化铝研磨液。
2.根据权利要求1所述的研磨方法,其特征在于,所述粗磨加工中的安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心。
3.根据权利要求2所述的研磨方法,其特征在于,所述粗磨盘包括铁粉树脂合成类磨盘。
4.根据权利要求2所述的研磨方法,其特征在于,所述压重块的重量为5-15kg。
5.根据权利要求1所述的研磨方法,其特征在于,所述粗磨加工中粗磨液间歇添加。
6.根据权利要求5所述的研磨方法,其特征在于,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为3-4s,粗磨液添加流量为50-100mL/s,粗磨液暂停时间为8-10min。
7.根据权利要求1所述的研磨方法,其特征在于,所述精磨加工中的安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置。
8.根据权利要求7所述的研磨方法,其特征在于,在所述精磨盘表面粘贴抛光垫。
9.根据权利要求7所述的研磨方法,其特征在于,所述压重块的重量为8-12kg。
10.根据权利要求1所述的研磨方法,其特征在于,所述精磨加工中精磨液间歇添加。
11.根据权利要求10所述的研磨方法,其特征在于,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为3-4s,精磨液添加流量为50-100mL/s,精磨液暂停时间为8-10min。
12.根据权利要求1所述的研磨方法,其特征在于,所述清洗检查包括:将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查。
13.根据权利要求12所述的研磨方法,其特征在于,所述一次清水冲洗包括:将所述不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的表面用清水冲洗,同时用净化布擦拭。
14.根据权利要求12所述的研磨方法,其特征在于,所述清洗剂超声清洗包括:将一次清洗后的不锈钢刚性环平放至超声波清洗机中,在进行所述清洗剂超声清洗期间用双手连续提拉震动清洗架3-4次。
15.根据权利要求14所述的研磨方法,其特征在于,所述清洗剂超声清洗的温度为30-40℃,所述清洗剂超声清洗的时间为2-5min,所述清洗剂超声清洗的功率为1000-1500W。
16.根据权利要求12所述的研磨方法,其特征在于,所述二次清水冲洗包括:将清洗剂超声清洗后的不锈钢刚性环放至垫有珍珠棉的水槽内,对所述不锈钢刚性环的螺纹孔用清水冲洗,然后用气枪吹干。
17.根据权利要求1所述的研磨方法,其特征在于,所述研磨方法包括如下步骤:
(1)将不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述粗磨加工,控制研磨机转速为40-50rpm,所述粗磨加工的时间为25-90min,所述粗磨加工的粗磨液为金刚石研磨液,并将粗磨液间歇添加,在所述粗磨液间歇添加的单个周期内,粗磨液添加时间为3-4s,粗磨液添加流量为50-100mL/s,粗磨液暂停时间为8-10min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至粗磨盘的三个挡块位置,再将压砂环套在所述不锈钢刚性环的外圆上,随后将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方并保持两者同心;所述粗磨盘包括铁粉树脂合成类磨盘;所述压重块的重量为5-15kg;
(2)将步骤(1)粗磨加工后的不锈钢刚性环安装至研磨机上,启动所述研磨机进行所述精磨加工,控制研磨机转速为40-50rpm,所述精磨加工的时间为25-30min,所述精磨加工的精磨液为氧化铝研磨液,并将精磨液间歇添加,在所述精磨液间歇添加的单个周期内,精磨液添加时间为3-4s,精磨液添加流量为50-100mL/s,精磨液暂停时间为8-10min,随后进行清洗检查;
其中,所述安装包括:将所述不锈钢刚性环放至精磨盘的三个挡块位置,再将带有凹槽的中间块以及带有凸台的主压块依次放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述凹槽与所述凸台相配合,再将压重块放在所述不锈钢刚性环的上方,使得所述中间块、所述主压块、所述压重块以及所述不锈钢刚性环均同心放置;在所述精磨盘表面粘贴抛光垫;所述压重块的重量为8-12kg;
其中,步骤(1)与步骤(2)所述清洗检查相同,均包括将所述不锈钢刚性环依次进行一次清水冲洗、清洗剂超声清洗、二次清水冲洗以及外观检查。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110276187.8A CN113043075B (zh) | 2021-03-15 | 2021-03-15 | 一种不锈钢刚性环的研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202110276187.8A CN113043075B (zh) | 2021-03-15 | 2021-03-15 | 一种不锈钢刚性环的研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN113043075A CN113043075A (zh) | 2021-06-29 |
CN113043075B true CN113043075B (zh) | 2022-05-27 |
Family
ID=76512222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202110276187.8A Active CN113043075B (zh) | 2021-03-15 | 2021-03-15 | 一种不锈钢刚性环的研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN113043075B (zh) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113732935B (zh) * | 2021-09-17 | 2022-10-25 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种机械化学研磨保持环的表面处理方法 |
CN115895596B (zh) * | 2022-11-28 | 2024-03-22 | 宁波平恒电子材料有限公司 | 一种不锈钢粗磨液及其制备方法和用途 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102717311A (zh) * | 2012-07-19 | 2012-10-10 | 厦门安达兴电气集团有限公司 | 密封环双面自动精磨机床 |
CN106181737A (zh) * | 2016-09-18 | 2016-12-07 | 清华大学 | 一种硬质合金研磨抛光方法 |
CN109894965A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-06-18 | 哈尔滨汽轮机厂有限责任公司 | 一种用于数控铣床研磨环状工件的辅助装置及研磨方法 |
CN111716156A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-09-29 | 中国航发动力股份有限公司 | 一种动环密封面的加工方法 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4737342B1 (ja) * | 2010-09-24 | 2011-07-27 | 富士ゼロックス株式会社 | 環状体の製造方法 |
-
2021
- 2021-03-15 CN CN202110276187.8A patent/CN113043075B/zh active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102717311A (zh) * | 2012-07-19 | 2012-10-10 | 厦门安达兴电气集团有限公司 | 密封环双面自动精磨机床 |
CN106181737A (zh) * | 2016-09-18 | 2016-12-07 | 清华大学 | 一种硬质合金研磨抛光方法 |
CN109894965A (zh) * | 2019-04-11 | 2019-06-18 | 哈尔滨汽轮机厂有限责任公司 | 一种用于数控铣床研磨环状工件的辅助装置及研磨方法 |
CN111716156A (zh) * | 2020-06-30 | 2020-09-29 | 中国航发动力股份有限公司 | 一种动环密封面的加工方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113043075A (zh) | 2021-06-29 |
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