CN112999527A - 用于放射治疗设备的射束阻挡器 - Google Patents

Abstract

本发明提供适于衰减由辐射束源发射的辐射束的辐射屏蔽装置的放射治疗系统，该放射治疗系统包括：第一转动支撑装置，其被配置为支撑辐射束源并且使辐射束源绕转动轴线转动；第二转动支撑装置；以及辐射屏蔽装置，其被安装至第二转动支撑装置，其中，第二转动支撑装置被配置为使所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线转动。本发明还提供了辐射屏蔽系统、辐射屏蔽装置，以及控制放射治疗系统中的辐射屏蔽装置的转动的方法。

Description

用于放射治疗设备的射束阻挡器

技术领域

本发明总体上涉及放射治疗设备和系统。更具体地，本发明涉及适于衰减在放射治疗系统中使用的辐射束的辐射屏蔽系统。更具体地，本发明涉及包括有适于衰减由辐射束源发射的辐射束的辐射屏蔽装置的放射治疗系统。

背景技术

放射治疗可以被描述为使用电离辐射(如X射线)来治疗人或动物的身体。放射治疗通常被用于治疗患者或受试者体内的肿瘤。在这种治疗中，电离辐射被用于照射，并因此摧毁或破坏形成肿瘤部分的细胞。然而，为了对肿瘤或受试者体内的其他靶区施加规定的剂量，辐射必须透过健康组织进行照射，因此在该过程中会对健康组织造成潜在的损害。当今的放射治疗为健康组织提供了安全且相对较小的辐射剂量，然而，所期望的是在放射治疗期间能将健康组织所接收的剂量最小化。

目前有许多不同的放射治疗技术，其允许以不同的角度、不同的强度和不同的时间周期来进行放射治疗。将靶区周围的健康组织所接收的辐射剂量降至最低的标准方法是从多个不同角度将辐射引导到靶区。这可以包括使用以不同的角度围绕患者布置的不同的辐射源，或者可以包括围绕患者转动辐射源。在这两种情况下，各辐射束均穿过靶区，因此可以建立靶区处的规定剂量。然而，重要的是，以不同角度施加辐射束意味着施加到健康组织的辐射剂量分布到健康组织的较大区域，从而减少了由健康组织中的任何一个特定单位体积所接收的剂量。

在放射治疗的典型应用中，电离辐射可以是X射线或伽马射线频率的电磁波。已知的是这种频率的辐射束可能不会在患者体内的靶区处完全衰减，而是可能穿过靶区以及靶区的相对侧的健康组织，然后才可能离开患者的身体。

在这些情况下，所期望的是在患者身体的相对侧(即与辐射源在直径上相对)对辐射源提供辐射屏蔽装置，从而衰减已经离开患者身体的辐射束。辐射屏蔽装置可以阻挡电离辐射，以防止射束在放射治疗设备的附近区域的进一步的传播，从而保护附近的医务人员免受电离辐射的伤害，并且防止辐射对附近的任何医疗设备造成损害。

因此，重要的是提供一种阻挡来自发射源的电离辐射的辐射屏蔽装置。此外，重要的是当辐射以不同角度施加到靶区时该辐射屏蔽装置也能够阻挡辐射。然而，对于衰减高能量伽马射线或X射线束所需的材料必须足够厚，并且由重金属制成，例如钨或钨合金。因此，提供可移动的辐射屏蔽装置所存在的问题是其具有很大的重量。本发明的实施例寻求通过提供一种改进的放射治疗系统来解决现有技术中遇到的这一问题以及其他问题。

发明内容

本发明的各方面体现在独立权利要求中，而可选的特征体现在从属权利要求中。

本发明的一些方面涉及一种放射治疗系统，其包括第一转动支撑装置和第二转动支撑装置，并且还包括被安装至第二转动支撑装置的辐射屏蔽装置。所述第一转动支撑装置其被配置为支撑辐射束源并且使辐射束源绕转动轴线转动。第二转动支撑装置被配置为使所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线转动。

本发明的其他方面涉及安装至用于根据本发明所讨论的放射治疗系统的第二转动驱动装置的辐射屏蔽装置。

更详细地，所述辐射屏蔽装置被配置为绕所述转动轴线转动，使得所述辐射屏蔽装置沿曲线路径行进，其中所述曲线路径沿着以所述转动轴线为中心的名义上的圆的圆周。所述曲线路径可以是圆形路径，换言之，辐射屏蔽装置可以被配置为沿着名义上的圆的全圆周行进。这意味着辐射屏蔽装置被配置为绕圆转动360°。可替代地，所述曲线路径可以是圆形路径的一部分，换言之，所述辐射屏蔽装置可以被配置为沿着所述名义上的圆的圆周的一部分行进，并且因此所述辐射屏蔽装置被配置为转动小于360°。

此外，第一转动支撑装置被配置为使辐射束源绕转动轴线转动，其转动方式与如上所述的辐射屏蔽装置绕第二轴线转动的方式相似。具体而言，第一转动支撑装置被配置为使辐射束源沿着以转动轴线为中心的名义上的圆的圆周的曲线路径行进。

使辐射束源或辐射屏蔽装置转动的装置可以包括任何合适的转动驱动系统，该系统根据如上所述的转动运动来驱动源或屏蔽装置的转动。

更详细地，所述第一转动支撑装置可以是被配置为支撑辐射束源并且还被配置为使得辐射束源绕转动轴线转动的任何合适的装置。类似地，第二转动支撑装置可以是被配置为支撑辐射屏蔽装置并且还被配置为使得辐射屏蔽装置绕转动轴线转动的任何合适的装置。例如，在一些实施例中，第一转动支撑装置和/或第二转动支撑装置可以是任何类型的转动台架，例如环形台架、滚筒架或C臂台架。在其他实施例中，第一转动支撑装置和/或第二转动支撑装置可以是弯曲的导轨或轨道。本发明的实施例扩展至被配置为支撑各自的辐射束源和辐射屏蔽装置并且被配置为使辐射束源和辐射屏蔽装置分别绕各自的辐射轴线转动的任何类型的第一转动支撑装置和第二转动支撑装置。

通过提供使辐射屏蔽装置转动的第二转动支撑装置并且该第二转动支撑装置与使辐射束源转动的第一转动支撑装置分开，辐射屏蔽装置和辐射束源的总重量被分布在第一转动支撑装置和第二转动支撑装置上，而不是分布在安装有两个部件的同一个转动支撑装置上。因此，与由相同的转动支撑装置支撑的源和屏蔽装置的系统相比，两个装置上的负载都降低了。因此，本发明的系统改善了放射治疗系统中源部件和屏蔽部件的负载分布，并且由于每个装置需求支撑更少的重量，因此能够使所使用的转动支撑装置更简化和更便宜。

在一些实施例中，所述放射治疗系统还包括安装在第一转动支撑装置上的辐射束源。该辐射束源可以被配置为发射指向转动轴线的辐射束。

在一些实施例中，所述辐射屏蔽装置被配置为能够独立于所述辐射束源的转动而绕所述转动轴线转动。这将是有利的，因为这允许适应性更强的放射治疗系统，因为辐射屏蔽装置相对于辐射束源不是固定的。

在其他实施例中，所述辐射屏蔽装置被配置为能够与所述辐射束源的转动同步地绕所述转动轴线转动。在这些实施例中，所述辐射屏蔽装置的转动可以与辐射束源的转动同步，使得辐射屏蔽装置在辐射束源绕转动轴线转动时保持在相对于辐射束源的固定的位置。可选地，所述辐射屏蔽装置的转动与辐射束源的转动同步，使得辐射屏蔽装置在辐射束源绕转动轴线转动时始终在由辐射束源发射的辐射束的路径上。此外，所述辐射屏蔽装置的转动可以与辐射束源的转动同步，使得在辐射束源绕所述转动轴线转动时所述辐射屏蔽装置始终与所述辐射束源在直径上相对。这是使辐射屏蔽装置能够衰减从辐射束源发射的光束的有效的方式。在这些实施例中，所述放射治疗系统还可以包括控制系统，该控制系统被配置为控制辐射屏蔽装置的转动，以使辐射屏蔽装置与辐射束源同步地转动。该控制系统可以使辐射屏蔽装置在辐射束源转动时保持在相对于辐射束源的固定位置，或者可以使辐射屏蔽装置始终与辐射束源在直径上相对。

更详细地，控制系统可以被配置为分别控制第一驱动系统和第二驱动系统，该第一驱动系统和第二驱动系统驱动辐射束源和辐射屏蔽装置。所述控制系统可以被配置为控制第一驱动系统和第二驱动系统之一者或二者，使得辐射屏蔽装置和辐射束源的转动是同步的，或者在它们绕转动轴线转动时保持固定关系(例如，彼此在直径上相对)。

在其他实施例中，所述放射治疗系统可以包括转动联接系统，例如齿轮或带轮装置，该转动联接系统将辐射束源的转动与辐射屏蔽装置的转动机械地联接。在这些实施例中，辐射束源的转动可以通过转动联接系统来驱动辐射屏蔽装置的转动。换言之，当辐射束源绕转动轴线转动时，转动力可以通过转动联接装置来驱动辐射屏蔽装置绕转动轴线的转动。可替代地，以类似的方式辐射屏蔽装置的转动通过转动联接装置来驱动辐射束源的转动。在进一步的实施例中，所述放射治疗系统可以包括转动驱动装置，其被配置为驱动辐射束源和辐射屏蔽装置中的一个的转动。

所述转动联接装置在辐射屏蔽装置和辐射束源之间有利地提供了机械联接，其提供了同步这些部件的转动的手段，使得光束源和屏蔽装置在它们转动时保持固定的关系(例如，始终彼此在直径上相对)。

在一些实施例中，辐射束源绕转动轴线的转动使得辐射束源沿第一曲线路径行进，该第一曲线路径沿着以转动轴线为中心的圆的圆周的至少一部分。类似地，辐射屏蔽装置绕转动轴线的转动使辐射屏蔽装置沿着第二曲线路径行进，该第二曲线路径沿着以转动轴线为中心的圆的圆周的至少一部分。

在一些实施例中，所述第二转动支撑装置包括可转动台架，并且所述辐射屏蔽装置被固定至该台架。所述台架被配置为绕穿过该台架的中心的转动轴线转动。可选地，所述第二转动支撑装置还包括具有中心孔的固定台架，该中心孔可操作地接收所述可转动台架。所述可转动台架被安装在所述固定台架的所述中心孔内，并且被配置为相对所述固定台架进行转动。可替代地，在一些实施例中，可转动台架是滚筒台架，并且所述辐射屏蔽装置被固定在该滚筒中。可替代地，在其他实施例中，所述辐射屏蔽装置被固定至所述可转动台架的臂，所述臂在与所述转动轴线平行的轴向方向上从所述台架向外延伸。

在一些实施例中，所述第二转动支撑装置包括具有以所述转动轴线为中心的同心中心孔的两个同心的环形台架，其中，所述辐射屏蔽装置的相对端被固定在所述环形台架中的每一个上，使得屏蔽装置被设置并固定在两个台架上。所述环形台架被配置为绕所述转动轴线转动，以使所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线转动。

在一些实施例中，所述第二转动支撑装置包括一个或多个弯曲的导轨，并且所述辐射屏蔽装置被可滑动地安装至所述一个或多个弯曲的导轨，以沿所述导轨行进。在一些实施例中，所述一个或多个弯曲的导轨中的每一个是以转动轴线为中心的圆形环。在其他实施例中，所述一个或多个弯曲的导轨中的每一个形成以所述转动轴线为中心的半圆。在其他实施例中，所述一个或多个弯曲的导轨中的每一个形成以所述转动轴线为中心的圆弧。在一些实施例中，所述放射治疗系统可以包括在所述一个或多个弯曲的导轨的相对端之间延伸的固定的辐射屏蔽装置。

在一些实施例中，放射治疗系统还包括可滑动地安装在所述一个或多个弯曲的导轨上以沿着该导轨行进的第二屏蔽装置。在一些实施例中，第一屏蔽装置被可滑动地安装在一个或多个弯曲的导轨的第一部分上，而第二屏蔽装置被可滑动地安装在一个或多个导轨的第二部分上。在一些实施例中，在所述一个或多个导轨的所述第二部分上的所述第二辐射屏蔽装置的位置是在所述第一部分上的所述第一辐射屏蔽装置的位置的镜像，其中，所述镜像由在所述弯曲的导轨的所述第一部分和所述第二部分之间穿过并且穿过所述转动轴线的对称线来界定。

在另一方面，还披露了一种控制放射治疗系统中的辐射屏蔽装置的转动的方法。该方法包括：绕转动轴线转动辐射束源，其中，所述辐射束源被安装在第一转动支撑装置上并且被配置为发射辐射束。该方法还包括：绕所述转动轴线转动辐射屏蔽装置，其中，所述辐射屏蔽装置被安装在与所述第一转动支撑装置分开的第二转动支撑装置上，并且所述辐射屏蔽装置的转动独立于所述辐射束源的转动。

在一些实施例中，所述方法还包括：将所述辐射屏蔽装置绕第二轴线转动，以将所述辐射屏蔽装置保持在由所述辐射束源发射的辐射束的路径上。

附图说明

下面仅以示例的方式并参考附图来描述具体的实施例，在附图中：

图1A和1B描绘了根据现有技术的放射治疗设备的视图；

图1C示出了根据现有技术的另一种放射治疗设备；

图2A和2B示出了根据本发明的第一实施例的放射治疗系统；

图3A示出了根据本发明的第二实施例的放射治疗系统；

图3B示出了根据本发明的第三实施例的放射治疗系统；

图4A示出了根据本发明的第四实施例的用于辐射屏蔽装置的第二转动支撑装置；

图4B示出了根据本发明的第五实施例的在固定台架的中心孔内接收的图4A中的第二转动支撑装置；

图5A和图5B示出了根据本发明的第六实施例的用于辐射屏蔽装置的第二转动支撑装置；

图5C示出了根据本发明的第七实施例的用于辐射屏蔽装置的第二转动支撑装置；

图5D示出了根据本发明的第八实施例的用于辐射屏蔽装置的第二转动支撑装置。

具体实施方式

对于示出了本发明的具体实施例的附图以及说明，本领域技术人员将理解其是非限制性的并且仅是示例性的。

图1A和1B示出了现有的放射治疗设备的示例。这些图示出了放射治疗设备120的截面，该放射治疗设备120包括辐射源100以及附接至台架104的探测器102。所述台架包括环形支撑轨道106。虚线箭头105指示出从辐射源100发射的辐射束的方向。辐射束源100和辐射屏蔽装置安装在台架上，使得它们在直径上彼此相对。该图还示出了适于在放射治疗期间支撑患者(未图示)的患者支撑台面110。

当辐射被传输至患者时，例如根据治疗计划，辐射束源100和探测器102围绕环形支撑轨道106一起转动，因为源100和探测器102都安装至台架104，台架104围绕环形支撑轨道转动。因此，当台架转动时，源100和探测器102始终彼此以180°进行布置。台架绕圆形支承轨道的转动由穿过台架中心的转动轴线(图1A中未图示)来予以限定。

辐射束源100从患者周围的不同角度将辐射束指向躺在患者支撑台面110上的患者，以便在建立靶区处的规定剂量的辐射时，将由健康组织接收的辐射剂量扩散到健康组织的更大区域。在图1A和1B中，辐射束源100位于环形支撑轨道106的顶部，探测器102位于环形支撑轨道106的底部与辐射束源100在直径上相对。

图1B描绘了示例性的现有放射治疗设备的进一步的视图。图1A将从放射治疗设备120的纵向端描绘了放射治疗设备120，图1B将从放射治疗设备120的侧面描绘放射治疗设备120。换言之，图1B将描绘放射治疗设备120的侧面轮廓。从该图中可以看出，辐射束源100被设置在支撑臂114上，该支撑臂114可以将辐射束源100连接至台架104。探测器102被设置在支撑臂116上，该支撑臂116可以将射束阻挡器(beam stopper)连接至台架104。在该图中，台架所围绕转动的转动轴线由虚线118来表示。所述转动轴线穿过台架104的中心。

图1C示出了现有的放射治疗设备的另一个示例。该图描绘了与图1B中描绘的视图类似的设备的侧视图。在该示例中，台架104具有中心孔107，该中心孔107被配置为接收进入到其中的患者支撑台面110。辐射源100和探测器102被安装到台架本身的平面内的台架上，以使在台架的平面内发射辐射束。在该示例中，电离辐射被传输到台架转动平面内的等中心处。以图1A和图1B中所示出为例，辐射源100和探测器102被安装至转动台架104。

如图1A至图1C所描绘的放射治疗系统可以选择性地额外包括屏蔽系统。提供衰减离开患者的辐射束以保护人员和其他设备不受由辐射源100产生的伽马射线或X射线辐射所造成的伤害的屏蔽系统是有益的。

已知的辐射屏蔽系统存在的问题是，辐射屏蔽通常需要有足够的厚度来充分衰减辐射束。已知的辐射屏蔽材料通常需要重金属(例如钨或铅)或包括有重金属的重金属合金，这致使辐射屏蔽装置非常重。因此，将这种重的辐射屏蔽装置固定在台架上使得辐射屏蔽装置始终与辐射束源在直径上相对是有问题的，因为这将产生台架上重量分布的问题。此外，台架上的重量的增加需要更坚固的结构，因此需要更昂贵的台架来支撑台架上的部件(辐射源、探测器和辐射屏蔽装置)的重量。因此，期望提供一种具有改进的负载分布的设有转动辐射束源和辐射屏蔽装置的放射治疗系统。

图2A和图2B描述了根据本发明的一些实施例的放射治疗系统220。该系统适于并配置为，例如根据放射治疗计划将辐射导向患者。在所示的示例中，所述放射治疗系统包括：第一转动支撑装置204、第二转动支撑装置214、辐射束源200、辐射屏蔽装置202和患者支撑台面210。

辐射束源200被配置为向患者提供治疗辐射束。辐射源200可以是本领域技术人员已知的多种不同类型的辐射源中的任何一种，例如，千伏治疗X射线单元或线性加速器(LINAC)。

放射治疗系统220还可以包括辐射探测器(未图示)。该辐射探测器可以是任何合适的辐射探测器，并且可以包括成像构件，即成像设备或成像装置，以允许对患者进行成像。例如，所述成像装置可以包括射野成像探测器。所述探测器允许放射治疗师根据已知技术来规划由放射治疗引导的成像。

放射治疗系统220还包括第一转动支撑装置204，其被配置为绕穿过该第一转动支撑装置中心的转动轴线(由图2B中的虚线218所示)转动。在所示出的示例中，辐射束源200被安装至第一转动支撑装置204，使得辐射束源200被配置为在所述第一转动支撑装置转动时绕所述转动轴线转动。换言之，辐射束源200被配置为绕转动轴线转动，使得辐射束源200穿过以该转动轴线为中心的曲线路径。在一些示例中，第一转动支撑装置204被配置为转动360°，并因此辐射束源200被配置为在第一转动支撑装置204转动时遍历以所述转动轴线为中心的环形路径。在其他示例中，第一转动支撑装置204被配置为转动小于360°，可选地为180°，并因此辐射束源200被配置为遍历以所述转动轴线为中心的弧形路径，可选地为半圆形路径。

在一些实施例中，第一转动支撑装置204本身不绕转动轴线转动，但被配置为使安装在第一转动支撑装置上的辐射束源200绕所述转动轴线转动。例如，所述第一转动支撑装置可以包括静止导轨，例如环形或其他弯曲的导轨，所述辐射束源被可滑动地安装至该导轨。辐射束源可以被滑动地安装，以使其可以沿该导轨行进。所述第一转动支撑装置可以包括任何合适的驱动系统，该驱动系统被配置为使所述辐射束源沿所述弯曲的导轨行进。应当理解的是，在本示例和其他类似示例中，第一转动支撑装置本身并不转动(即，所述弯曲的导轨是静止的，其自身并不转动)，而是使辐射束源转动(例如，凭借驱动系统使辐射束源沿导轨行进)。

在本发明的一些实施例中，放射治疗系统220不包括放射束源200。

第一转动支撑装置204可以是任何适于支撑辐射束源的且被配置为使辐射束源200绕穿过装置204中心的转动轴线转动的装置。例如，所述第一转动支撑装置可以是可转动台架，例如环形台架、滚筒台架或C臂台架，或者适合支撑辐射束源的对于本领域技术人员来说已知的任何类型的台架。在根据本发明的一些实施例的放射治疗设备的具体示出的示例中，所述第一转动支撑装置是环形台架，其被配置为绕穿过环形中心的转动轴线转动。

放射治疗系统220还包括安装在第二转动支撑装置214上的辐射屏蔽装置202。在一些实施例中，第二转动支撑装置214被配置为绕穿过该第二转动支撑装置中心的转动轴线转动，从而使辐射屏蔽装置202绕所述转动轴线转动。在其他实施例中，第二转动支撑装置214自身并不绕该转动轴线转动，但是被配置为使辐射屏蔽装置202绕所述转动轴线转动。换言之，辐射屏蔽装置202被配置为绕转动轴线转动，使得该辐射屏蔽装置遍历以转动轴线为中心的曲线路径。在一些示例中，第二转动支撑装置214被配置为使辐射屏蔽装置202转动360°，并因此辐射屏蔽装置202被配置为在第二转动支撑装置214的转动时遍历以转动轴线为中心的环形路径。在其他示例中，第二转动支撑装置214被配置为使辐射屏蔽装置202转动小于360°，可选地为180°，并且因此辐射屏蔽装置202被配置为遍历以所述转动轴线为中心的弧形路径，可选地为半圆形路径。

辐射屏蔽装置202可以是适于衰减辐射束(例如从辐射束源发射的辐射束)的任何合适的辐射屏蔽装置。例如，辐射屏蔽装置适于衰减辐射束，使得辐射束不会穿过辐射屏蔽装置。换言之，辐射屏蔽装置衰减100％的射束。在其他的示例中，辐射屏蔽装置可以被配置为衰减少于100％的辐射束。换言之，辐射屏蔽装置可以降低辐射束的强度，但仍允许一些辐射穿过该辐射屏蔽装置，例如，由辐射屏蔽装置后面的辐射探测器来接收。

所述辐射屏蔽装置通常由重金属(例如钨或铅)制成，或由结合有重金属的合金以及对与本领域技术人员来说已知的其他合适的材料制成。辐射屏蔽装置也可以由对于本领域技术人员来说已知的能够衰减辐射束的任何其他合适的材料制成。

与第一转动支撑装置204类似，第二转动支撑装置214可以是任何适于支撑辐射屏蔽装置的且被配置为绕穿过了装置214中心的转动轴线转动或者被配置为使辐射屏蔽装置202绕转动轴线转动的装置。例如，所述第二转动支撑装置可以是可转动台架，例如环形台架、滚筒台架或C臂台架，或者适合支撑辐射屏蔽装置的对于本领域技术人员来说已知的任何类型的台架。在根据本发明的一些实施例的放射治疗设备的具体示出的示例中，所述第二转动支撑装置414是环形台架，其被配置为绕穿过了环形中心的转动轴线进行转动。

放射治疗设备220可选地还包括患者支撑台面210。该支撑台面适于在其上接收患者，并且适于放置患者，以例如根据治疗计划进行放射治疗。患者支撑台面210可以被相对于台架104纵向地移动，例如，以辅助放置躺在支撑台面上的患者。换言之，支撑台面210可以被配置为沿着基本上平行于第一转动轴线的轴向进行移动，以在治疗期间放置患者。所述患者支撑台面还可以被配置为沿着基本上与转动轴线正交的方向进行横向移动，或以任何其他方式进行移动，以放置患者来进行治疗。在一些示例中，所述放射治疗设备可以包括适于接收患者支撑台面的中心孔。换言之，患者支撑台面210可以沿纵向进行移动，以在放射治疗设备的中心孔内放置躺在患者支撑台面上的患者。图2B示出了放射治疗设备220的立体图。从该图中可以看到，患者支撑台面包括支撑架211，该支撑架211可以辅助支撑台面的放置。

在本发明的实施例中，所述患者支撑台面可以被包括作为根据实施例的放射治疗装置的一部分，或者可以作为单独的部件而不被包括作为放射治疗装置的一部分。本领域技术人员将理解的是，本发明所实现的优点不依赖于患者支撑台面的存在，因此患者支撑台面210是可选的特征。

如上所述，在图2A和图2B所示放射治疗设备的具体的示例中，第一转动支撑装置和第二转动支撑装置是环形台架。从图2B所示的放射治疗设备的立体图可以看出，两个台架是共面的。换言之，第一支撑装置204和第二支撑装置214设置在同一转动平面上。在具体示出的示例中，可以看出第一转动支撑装置204设置在第二转动支撑装置214的内部。换言之，第一转动支撑装置204在第二转动支撑装置214中绕转动轴线转动，第二转动支撑装置214绕第一转动支撑装置214并且绕转动轴线转动。可以说，第一转动支撑装置是“内部”转动支撑装置，而第二转动支撑装置是“外部”转动支撑装置。在第一转动支撑装置和第二转动支撑装置是共面的一些实施例中，第二转动支撑装置可以设置在第一转动支撑装置中。换言之，第二转动支撑装置可以是“内部”转动装置，而第一转动支撑装置可以是“外部”转动支撑装置。

在第一转动支撑装置和第二转动支撑装置是共面的一些实施例中，所述“内部”转动支撑装置可以包括适于接收躺在患者支撑台面210上的患者的中心孔(未图示)。

从图2B所示的具体的实施例可以看出，辐射束源200经由将辐射束源连接到第一转动支撑装置204的第一支撑臂201而被安装至第一转动支撑装置204。类似地，辐射屏蔽装置202经由第二支撑臂203而被安装至第二转动支撑装置214。因此，在示出的实施例中，所述辐射束源和辐射屏蔽被设置为在纵向上远离第一转动支撑装置和第二转动支撑装置。

在其他实施例中，辐射束源200和辐射屏蔽装置202可以分别安装至第一转动支撑装置和第二转动支撑装置，使得它们位于各个支撑装置的转动平面内。本领域技术人员已知的是，可以以任何方式将辐射屏蔽装置202安装至第二转动支撑装置214，以使辐射屏蔽装置能够绕转动轴线转动，并且第一转动支撑装置204可以以任何合适的方式进行配置为支撑辐射束源200。

在一些实施例中，辐射屏蔽装置202的转动与辐射束源200的转动同步。换言之，第一转动支撑装置和第二转动支撑装置被联接为使辐射屏蔽装置和辐射源被配置为同时转动。可以认为，辐射屏蔽装置在辐射束源转动时保持在相对于辐射束源固定的位置，反之亦然。所述固定的位置可以是在辐射束源绕转动轴线转动时使辐射屏蔽装置始终在辐射束源发射的辐射束的路径上的位置。例如，在一些实施例中，辐射屏蔽装置202的转动与辐射束源200的转动同步，使得辐射屏蔽装置始终被定位为在辐射束源绕转动轴线转动时与辐射束源在直径上相对。

在一些实施例中，辐射束源的转动通过机械转动联接系统来与辐射屏蔽装置的转动同步。换言之，第一转动支撑装置和第二转动支撑装置可以通过齿轮或带轮的布置或者通过将辐射束源的转动与辐射屏蔽装置的转动进行联接的任何其他合适的系统来进行机械地联接。在一些实施例中，所述放射治疗系统可以包括直接地驱动辐射束源绕转动轴线转动的转动驱动系统。然后，辐射束源的转动可以通过机械联接来驱动辐射屏蔽装置的转动。可替代地，所述转动驱动系统可以直接地驱动辐射屏蔽装置的转动，然后该辐射屏蔽装置通过机械联接来驱动辐射束源的转动。在其他实施例中，一个转动驱动系统可以同时直接地驱动辐射束源和辐射屏蔽装置中的每一个的转动，使得它们的转动是同步的。

在可替代的实施例中，辐射束源的转动通过电联接系统与辐射屏蔽装置的转动同步。图2A描绘了控制系统230，该控制系统230被配置为控制辐射屏蔽装置的转动和/或辐射束源的转动，使得这二者的转动是同步的。在一些实例中，所述放射治疗系统可以包括分别用于辐射束源和辐射屏蔽装置中的每一个的分开的转动驱动系统，所述控制系统可以控制每一个驱动系统，以同步辐射束源和辐射屏蔽装置的转动。

在可替代的实施例中，辐射束源和辐射屏蔽装置的转动可以不同步，而可以彼此独立。换言之，所述辐射屏蔽装置可以被配置为能够独立于辐射束源的转动而绕转动轴线转动。

本发明的实施例提供了一种用于支撑辐射屏蔽装置的重量的单独的支撑件(第二转动支撑装置)。这使得第一转动支撑装置(其支撑辐射源)的台架上重量最小化，并且改善了整个放射治疗系统的重量分布。本发明的实施例还包括使辐射屏蔽装置和辐射束源的转动同步的控制系统或其他联接系统。因此，即使这些部件被安装在单独的转动装置上，其依然能够确保辐射屏蔽装置始终，例如与辐射束源在直径上相对，从而有效地衰减辐射束。

除了上述优点之外，本发明的实施例还提供了一种适应性更强的放射治疗系统。由于辐射屏蔽装置的转动支撑装置与辐射束源的转动支撑装置分开，因此每个装置可以作为系统的单独的模块化部件来提供，这些部件可以是可连接和可拆卸的。这有助于简化放射治疗系统的运输、安装、维修和维护。

图3A示出了根据本发明的第二实施例的放射治疗系统。如图2A和图2B所描绘的实施例，放射治疗系统320包括第一转动支撑装置304，该第一转动支撑装置304包括第一支撑臂301。在本实施例中，辐射束源300被安装至第一支撑臂301，并且第一转动支撑装置304被配置为使辐射束源300绕转动轴线(由虚线318表示)转动。该放射治疗系统还包括患者支撑台面310、第二转动支撑装置314和辐射屏蔽装置302，该辐射屏蔽装置302经由第二支撑臂303而连接到第二转动支撑装置。所述第二转动支撑装置被配置为使所述辐射屏蔽装置绕转动轴线(也由虚线318表示)转动。该放射治疗系统还可以包括与图2A中的控制系统230类似的控制系统(未图示)，该控制系统可以被配置为控制辐射屏蔽装置和/或辐射束源的转动，以使它们彼此同步，例如，以确保辐射屏蔽装置302始终与辐射束源在直径上相对。可替代地，所述放射治疗系统可以包括如上所述的任何合适的机械联接装置，该机械联接装置将辐射束源的转动与辐射屏蔽装置的转动进行联接。

从图3A中可以看出，第一转动支撑装置304和第二转动支撑装置314不是共面的(这与图2B所示的实施例不同)，第一转动支撑装置和第二转动支撑装置沿转动轴线318分开设置。换言之，第一转动支撑装置和第二转动支撑装置沿共同转动轴线318在纵向上被分开一定距离。在该实施例中，第二转动支撑装置314是可转动台架，例如环形台架、滚筒台架或C臂台架，该可转动台架被配置为绕转动轴线318转动。因此，辐射屏蔽装置绕转动轴线318的转动是由第二转动支撑装置自身绕转动轴线318的转动而引起的，其中所述辐射屏蔽装置经由第二支撑臂303与第二转动支撑装置连接。在其他实施例中，辐射屏蔽装置绕转动轴线的转动可以由任何适于使辐射屏蔽装置绕转动轴线的转动支撑装置而引起。

图3B示出了根据本发明的一些实例的放射治疗系统的进一步的实施例，该图中使用了与图3A相同的附图标记来描绘相同的部件。在图3B所描绘的实施例中，第二转动支撑装置314包括两个同心的可转动台架315，可转动台架315具有可操作为在其中接收躺在患者支撑台面310上的患者的同心中心孔(未图示)。一个或两个台架的中心孔也可以被选择性地操作为接收安装在第一转动支撑装置304的第一支撑臂301上的辐射束源300，所述第一转动支撑装置304也被配置为使所述辐射束源绕轴线318转动。可替代地，辐射束源300和支撑臂301可以被设置在可转动台架315的外侧，使得辐射束源300绕台架外侧转动。

辐射屏蔽装置302被设置在两个可转动台架315之间，并且其端部连接至每一个可转动台架。换言之，辐射屏蔽装置302的相对端部分别被固定至转动台架315中的一个，使得辐射屏蔽装置被固定在两个转动台架之间。所述转动台架还可以额外地通过一个或多个支撑梁316进行连接，以提供结构支撑。

转动台架315被配置为绕转动轴线318转动，从而使辐射屏蔽装置绕转动轴线转动。如参考图2A和2B所讨论的，转动台架315和辐射屏蔽装置302的转动可以与辐射束源300的转动同步。例如，转动台架的转动可以与辐射束源的转动同步，使得辐射屏蔽装置始终与辐射束源在直径上相对。例如，所述放射治疗系统还可以包括与图2A中的控制系统230类似的控制系统(未图示)，该控制系统可以被配置为控制辐射屏蔽装置和/或辐射束源的转动，使得它们彼此同步，例如，以确保辐射屏蔽装置302始终与辐射束源在直径上相对。可替代地，该放射治疗系统可以包括如上所述的将辐射束源的转动与辐射屏蔽装置的转动进行联接的任何合适的机械联接装置。

参考图4A，其描绘了根据本发明一些实施例的第二转动支撑装置414的透视图。该第二转动支撑装置414适于用作根据本发明的放射治疗系统的一部分，其中该放射治疗系统包括被配置为支撑辐射束源并且使辐射束源绕转动轴线转动的第一转动支撑装置，并且还包括被安装至该第二转动支撑装置的辐射屏蔽装置，其中该第二转动支撑装置被配置为使该辐射屏蔽装置绕转动轴线转动。

图4A中示出的第二转动支撑装置414为被配置为绕转动轴线转动的可转动台架。所述转动轴线穿过所述可转动台架的中心，使得所述装置414绕其自身的中心轴线转动。更详细地，在该具体的实施例中，所述第二转动支撑装置为具有中心孔407的滚筒台架。该中心孔适于接收躺在患者支撑台面上的患者，并且滚筒台架414被配置为绕所述患者和患者支撑台面转动。可选地，所述中心孔可以适于接收被安装在支撑臂(未在该图中示出)上的辐射束源，例如参考图2B、3A或3B中描述的支撑臂。因此，台架可以绕辐射束源以及接收到中心孔中的支撑臂转动。此外，所述辐射束源可以被配置为在滚筒台架414内绕第一转动轴线转动。如图4A所示，辐射屏蔽装置402被固定在滚筒台架内，可选地，如图所示其被固定在滚筒台架的一侧，并且被配置为在滚筒台架绕转动轴线转动时绕转动轴线转动。辐射屏蔽装置402的转动可以与辐射束源的转动同步。例如，滚筒台架414的转动可以与辐射束源的转动同步，使得辐射屏蔽装置402始终与辐射束源在直径上相对。例如，所述放射治疗系统还可以包括与图2A中的控制系统230类似的控制系统(未图示)，该控制系统可被配置为控制辐射屏蔽装置和/或辐射束源的转动，以使它们彼此同步，例如，以确保辐射屏蔽装置302始终与辐射束源在直径上相对。可替代地，该放射治疗系统可以包括如上所述的将辐射束源的转动与辐射屏蔽装置的转动进行联接的任何合适的机械联接装置。

图4B示出了本发明实施例的透视图，其中图4A所示的第二转动支撑装置414被接收在固定台架415的中心孔中。第二转动支撑装置414被可转动地安装在固定台架415的中心孔中，使得该第二转动支撑装置可以被操作为在固定台架内转动，并且相对于固定台架绕转动轴线转动。

参考图5A，其示出了根据本发明一些实施例的第二转动支撑装置514的透视图。该第二转动支撑装置514适于用作根据本发明的放射治疗系统的一部分，其中该放射治疗系统包括用于支撑辐射束源并且使该辐射束源绕转动轴线转动的第一转动支撑装置，并且还包括被安装在该第二转动支撑装置上的辐射屏蔽装置，其中该第二转动支撑装置被配置为使所述辐射屏蔽装置绕转动轴线转动。

在图5A所示的实施例中，第二转动支撑装置514包括弯曲的导轨517，辐射屏蔽装置502被可滑动地安装至该导轨517。换言之，辐射屏蔽装置能够沿该弯曲的导轨行进。在示出的示例中，第二转动支撑装置514包括两个弯曲的导轨517(由虚线描绘)，但是各个实施例可以包括一个或多个任意数量的弯曲的导轨。所述弯曲的导轨可以是轨条、轨道、沟槽或者对于本领域技术人员已知的、适于可滑动地安装辐射屏蔽装置以使辐射屏蔽装置能够沿弯曲的导轨行进的其他任何合适的导轨。

在图5A所示的具体的实施例中，所述弯曲的导轨是以转动轴线为中心的圆形环。辐射屏蔽装置可以被操作为沿弯曲的导轨行进，从而沿以转动轴线为中心的圆形路径行进，从而提供了使辐射屏蔽装置绕第一辐射轴线的转动。

在其他实施例中，弯曲的导轨可以不形成为使辐射屏蔽装置绕其行进的完整的圆，而可以是半圆。换言之，所述弯曲的导轨可以形成为以转动轴线为中心的半圆。在这些实施例中，所述辐射屏蔽装置可以被操作为沿着半圆行进，并因此绕转动轴线转动180°。

在进一步的实施例中，所述弯曲的导轨可以形成为以辐射轴线为中心的圆弧，其中该圆弧限定了圆的整个圆周的任何比例。例如，所述圆弧可以形成四分之一的圆，因此圆弧的端部利用圆的中心(转动轴线)为顶点对向90°的角。在该示例中，所述辐射屏蔽装置能够沿弯曲的导轨行进，使得其能够绕转动轴线转动90°。在另一个示例中，所述圆弧可以形成大于半圆但不是全圆的圆的一部分。在该示例中，圆弧的端部利用圆的中心为顶点对向大于180°且小于360°的角度。因此，在该示例中，所述辐射屏蔽装置能够沿弯曲的导轨行进，以使其能够绕转动轴线转动大于180°且小于360°。

在弯曲的导轨形成为圆弧的实施例中，所述系统还可以包括位于圆弧的相对端部之间的固定的辐射屏蔽装置。作为一个示例，所述弯曲的导轨可以是半圆形，以允许辐射屏蔽装置绕转动轴线转动180°。该系统还可以包括位于半圆形的弯曲的导轨的相对端之间的静止的辐射屏蔽装置，以提供360°的屏蔽。所述静止的辐射屏蔽装置也可以是半圆形，并因此适应导轨的曲率，或者可以是平坦的或任何其他合适的形状。该固定的辐射屏蔽装置可以被固定在放射治疗系统的底座上，并因此在所述放射治疗系统的底座上提供辐射屏蔽。

图5B示出了图5A中的第二转动支撑装置和辐射屏蔽装置的正视图。圆518表示由弯曲的导轨517(未在该视图中示出)形成的圆的中心，并且表示穿过了第二转动支撑装置的转动轴线的位置。辐射屏蔽装置502沿弯曲的导轨(沿所描绘的曲线箭头的方向)行进，以使该屏蔽装置绕转动轴线转动。

图5C示出了第二转动支撑装置514的进一步的实施例，该第二转动支撑装置514包括可滑动地安装有辐射屏蔽装置的弯曲的导轨。在本实施例中，除了辐射屏蔽装置502之外，在弯曲的导轨上还可以滑动地安装有第二辐射屏蔽装置503，以使其能够沿弯曲的导轨行进，并且以与辐射屏蔽装置502类似的方式绕转动轴线转动。换言之，所述第二转动支撑装置包括第一辐射屏蔽装置502和第二辐射屏蔽装置503，这两者均被可滑动地安装在弯曲的导轨上，从而沿弯曲的导轨行进，并因此绕转动轴线转动。

在图5C所示的具体的实施例中，第二转动支撑装置514包括第一部分514a和第二部分514b。第一辐射屏蔽装置502被安装至第一部分514a的弯曲的导轨(未图示)，第二辐射屏蔽装置503被安装至第二部分514b的弯曲的导轨(未图示)。所述第一部分和第二部分的弯曲的导轨可以分开，使得第一辐射屏蔽装置仅沿第一部分的弯曲的导轨行进，而第二辐射屏蔽装置仅沿第二部分的弯曲的导轨行进。在其他实例中，所述第二转动支撑装置可以包括一个或多个弯曲的导轨517，其中第一辐射屏蔽装置502被安装在所述一个或多个弯曲的导轨的第一部分517a(未图示)上，第二辐射屏蔽装置503被安装在所述一个或多个弯曲的导轨的第二部分517b(未图示)上。在一些实施例中，所述弯曲的导轨的第一和第二部分是分开的，这意味着第一辐射屏蔽装置502沿弯曲的导轨的第一部分517a的运动不会干扰第二辐射屏蔽装置503沿弯曲的导轨的第二部分517b的运动。

图5D示出了第二转动支撑装置的具体的实施例，其中第一辐射屏蔽装置502被可滑动地安装至一个或多个弯曲的导轨的第一部分，第二辐射屏蔽装置被可滑动地安装至所述一个或多个弯曲的导轨的第二部分。在该实施例中，辐射屏蔽装置中的每一个沿各自的弯曲的导轨的运动是相互关联的或同步的，使得第一辐射屏蔽装置502在弯曲的导轨的第一部分上的位置(由虚线517a表示)通过在530处指示的镜像线是第二辐射屏蔽装置503在弯曲的导轨的第二部分上的位置(虚线517b)的镜像。

镜像线530代表第一辐射屏蔽装置和第二辐射屏蔽装置在其各自的弯曲的导轨部分上的位置的对称平面。辐射屏蔽装置转动所围绕的转动轴线位于所述对称平面内，并且该平面在弯曲的导轨的第一部分和第二部分之间穿过。因此，当第一辐射屏蔽装置或第二辐射屏蔽装置沿其各自的弯曲的导轨部分移动时，相对的屏蔽装置也以相同的方式移动，使得所述屏蔽装置的位置是通过镜像平面的另一个屏蔽装置的位置的镜像。

在所示的具体的实施例中，所述第二转动支撑装置和弯曲的导轨形成圆弧。基座520(可选地包括其他的静止的辐射屏蔽装置)被设置在装置514的相对端之间。对于本领域技术人员已知的是，如上文所讨论的辐射屏蔽装置的位置的镜像同样适用于形成为全圆的弯曲的导轨的实施例。

上述所披露的实施例的特征可以以任何合适的方式进行组合。本文所披露的实现方式仅以示例的方式进行描述，并且所描述的实现方式和布置方式在所有方面将仅视为说明性的而非限制性的。应当理解的是，可以在不脱离本发明范围的情况下对这些所描述的实现方式和布置方式进行改变。

Claims (28)

1.一种放射治疗系统，包括：

第一转动支撑装置，其被配置为支撑辐射束源并且使辐射束源绕转动轴线转动；

第二转动支撑装置；以及

辐射屏蔽装置，其被安装至所述第二转动支撑装置，其中，所述第二转动支撑装置被配置为使所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线转动。

2.根据权利要求1所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

辐射束源，其被安装至所述第一转动支撑装置。

3.根据权利要求2所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射束源被配置为发射指向所述转动轴线的辐射束。

4.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射屏蔽装置被配置为能够独立于所述辐射束源的转动而绕所述转动轴线转动。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射屏蔽装置被配置为与所述辐射束源的转动同步地绕所述转动轴线转动。

6.根据权利要求5所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

转动联接系统，其被配置为将所述辐射束源的转动与所述辐射屏蔽装置的转动机械地联接，以使：

所述辐射屏蔽装置的转动驱动所述辐射束源的转动；或

所述辐射束源的转动驱动所述辐射屏蔽装置的转动。

7.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

转动驱动系统，其被配置为驱动所述辐射束源和所述辐射屏蔽装置中的一个绕所述转动轴线转动。

8.根据权利要求7所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

控制系统，其被配置为在所述辐射束源绕所述转动轴线转动时控制所述辐射屏蔽装置的转动，以使所述辐射屏蔽装置相对于所述辐射束源保持在固定位置。

9.根据权利要求7或8所述的放射治疗系统，其特征在于，所述控制系统被配置为控制所述辐射屏蔽装置的转动，使得在所述辐射束源绕所述转动轴线转动时所述辐射屏蔽装置始终在由所述辐射束源发射的辐射束的路径上。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述控制系统被配置为控制所述辐射屏蔽装置的转动，使得在所述辐射束源绕所述转动轴线转动时所述辐射屏蔽装置始终与所述辐射束源在直径上相对。

11.根据权利要求6至8中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

第一转动驱动系统，其被配置为驱动所述辐射束源的转动；以及

第二转动驱动系统，其被配置为驱动所述辐射屏蔽装置的转动；

其中，所述控制系统被配置为控制所述第一转动驱动系统和所述第二转动驱动系统之一者或二者。

12.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射束源绕所述转动轴线的转动使所述辐射屏蔽装置沿第一曲线路径行进，所述第一曲线路径沿着以所述转动轴线为中心的圆的圆周的至少一部分；所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线的转动使所述辐射屏蔽装置沿第二曲线路径行进，所述第二曲线路径沿着以所述转动轴线为中心的圆的圆周的至少一部分。

13.根据前述权利要求中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述第二转动支撑装置包括可转动台架，并且所述辐射屏蔽装置被固定至所述可转动台架，所述可转动台架被配置为绕穿过该可转动台架的中心的所述转动轴线转动。

14.根据权利要求13所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：

固定台架，其具有中心孔，所述中心孔可操作地接收所述第二转动支撑装置的所述可转动台架，其中，所述可转动台架被可转动地安装在所述固定台架的所述中心孔内，并且被配置为相对所述固定台架转动。

15.根据权利要求13或14所述的放射治疗系统，其特征在于，所述可转动台架是滚筒台架，并且所述辐射屏蔽装置被固定在所述滚筒中。

16.根据权利要求13或14所述的放射治疗系统，其特征在于，所述辐射屏蔽装置被固定至所述可转动台架的臂，所述臂在与所述转动轴线平行的轴向方向上从所述可转动台架向外延伸。

17.根据权利要求1至12中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述第二转动支撑装置包括具有以所述转动轴线为中心的同心中心孔的两个同心的环形台架，其中，所述辐射屏蔽装置的相对端被固定至所述环形台架中的每一个，并且所述环形台架被配置为绕所述转动轴线转动，以使所述辐射屏蔽装置绕所述转动轴线转动。

18.根据权利要求1至12中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，所述第二转动支撑装置包括一个或多个弯曲的导轨，并且所述辐射屏蔽装置被可滑动地安装至所述一个或多个弯曲的导轨，以沿所述弯曲的导轨行进。

19.根据权利要求18所述的放射治疗系统，其特征在于，所述一个或多个弯曲的导轨中的每一个是以所述转动轴线为中心的圆形环。

20.根据权利要求18所述的放射治疗系统，其特征在于，所述一个或多个弯曲的导轨中的每一个形成以所述转动轴线为中心的半圆。

21.根据权利要求18所述的放射治疗系统，其特征在于，所述一个或多个弯曲的导轨中的每一个形成以所述转动轴线为中心的圆弧。

22.根据权利要求18至21中任一项所述的放射治疗系统，其特征在于，还包括：第二辐射屏蔽装置，其被可滑动地安装至所述一个或多个弯曲的导轨，以沿所述弯曲的导轨行进。

23.根据权利要求22所述的放射治疗系统，其特征在于，所述第一辐射屏蔽装置被可滑动地安装在所述一个或多个弯曲的导轨的第一部分上，而所述第二辐射屏蔽装置被可滑动地安装在所述一个或多个导轨的第二部分上。

24.根据权利要求23所述的辐射屏蔽系统，其特征在于，在所述一个或多个导轨的所述第二部分上的所述第二辐射屏蔽装置的位置是在所述第一部分上的所述第一辐射屏蔽装置的位置的镜像，其中，所述镜像由在所述弯曲的导轨的所述第一部分和所述第二部分之间穿过并且穿过所述转动轴线的对称线来界定。

25.根据权利要求20或21，或者引用权利要求20或21的权利要求22至24中任一项所述的辐射屏蔽系统，其特征在于，还包括：

固定的辐射屏蔽装置，其在所述一个或多个弯曲的导轨的相对端之间延伸。

26.一种辐射屏蔽装置，其被安装至用于根据前述任一权利要求所述的放射治疗系统的第二转动驱动装置。

27.一种控制放射治疗系统中的辐射屏蔽装置的转动的方法，包括：

绕转动轴线转动辐射束源，其中，所述辐射束源被安装在第一转动支撑装置上并且被配置为发射辐射束；

绕所述转动轴线转动辐射屏蔽装置，其中，所述辐射屏蔽装置被安装在与所述第一转动支撑装置分开的第二转动支撑装置上，并且所述辐射屏蔽装置的转动与所述辐射束源的转动同步。

28.根据权利要求27所述的方法，其特征在于，包括：

将所述辐射屏蔽装置绕第二轴线转动，以将所述辐射屏蔽装置保持在所述辐射束的路径上。

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